JPH05259370A - ハイブリッドic - Google Patents

ハイブリッドic

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Publication number
JPH05259370A
JPH05259370A JP4089637A JP8963792A JPH05259370A JP H05259370 A JPH05259370 A JP H05259370A JP 4089637 A JP4089637 A JP 4089637A JP 8963792 A JP8963792 A JP 8963792A JP H05259370 A JPH05259370 A JP H05259370A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor layer
heat
hybrid
substrate
electronic components
Prior art date
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Pending
Application number
JP4089637A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Koike
清一 小池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP4089637A priority Critical patent/JPH05259370A/ja
Publication of JPH05259370A publication Critical patent/JPH05259370A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 冷却効果を低下させることなく、かつ実装密
度を向上できるハイブリッドICを提供すること。 【構成】 基板11の上面全体に導体層12を形成し、
この導体層12に発熱の多い電子部品(例えば半導体素
子3)を接続する。また、導体層12の上面で、少なく
とも半導体素子3の接続部分以外に絶縁層14を設け、
この絶縁層14の上面に形成した配線パターン4に、発
熱の少ない電子部品(例えばチップ部品2)を接続す
る。さらに、導体層12と一体に設けられた放熱部13
にヒートシンク5を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子やチップ部
品等の電子部品が搭載され、このうち少なくとも一つ
が、放熱部の設けられた導体層と接続されているハイブ
リッドICに関するものである。
【0002】
【従来の技術】ガラスエポキシ板やセラミックス等を用
いた基板に半導体素子やチップ部品等の複数の電子部品
を搭載し、所定の電気回路を構成したハイブリッドIC
では、電子部品の実装密度が特に高いため、発熱量が多
くなりやすくなっている。発熱量が多いと、電気回路の
誤動作を起こす可能性が高くなるため、基板に放熱部を
設けて熱を放出したり、さらにはこの放熱部にヒートシ
ンク等の放熱板を取り付ける場合もある。
【0003】このようなハイブリッドICを図面に基づ
いて説明する。図3は、従来のハイブリッドICを説明
する図で、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B線
矢視断面図である。すなわち、このハイブリッドIC1
は、基板11上に形成された配線パターン4にチップ部
品2(抵抗器やコンデンサ等)や半導体素子3等の電子
部品が接続されたものである。この電子部品のうち、例
えば半導体素子3のように、とくに発熱しやすいものは
導体層12と接続されており、この導体層12と一体に
設けられた放熱部13から熱を放射できるようになって
いる。したがって、発熱の多い電子部品が搭載されたハ
イブリッドIC1では、放熱部13の面積を大きくする
ことで冷却効果を高めている。なお、この放熱部13に
よる熱の放射だけでは不十分な場合、放熱部13にヒー
トシンク5が取り付けられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなハイブリッドICには次のような問題がある。すな
わち、冷却効果の観点から、基板に設けられた導体層お
よび放熱部の上面には、半導体素子やチップ部品等の電
子部品を搭載することができない。したがって、基板上
では、電子部品を搭載する領域と放熱のための領域とを
区別しなければならない。このため、放熱部の面積を大
きくして冷却効果を高めようとした場合、基板の面積を
大きくしなければならず、電子部品の実装密度の低下を
招いてしまう。よって、本発明は冷却効果を低下させる
ことなく、かつ電子部品の実装密度を向上できるハイブ
リッドICを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するためになされたハイブリッドICである。すな
わち、基板上に複数の電子部品を搭載し、この電子部品
のうち少なくとも一つを、放熱部の設けられた導体層と
接続したもので、この導体層を基板の上面全体に形成す
るとともに、導体層の上面で、少なくともこの導体層と
接続された電子部品の接続部分以外に絶縁層を設け、こ
の絶縁層の上面に形成した配線パターンに、導体層と接
続された電子部品以外の電子部品を接続したものであ
る。しかも、この放熱部に放熱板を取り付けたハイブリ
ッドICである。
【0006】
【作用】放熱部と一体となった導体層を基板の上面全体
に形成し、この導体層に発熱の多い電子部品を接続して
いるため、この電子部品から発生した熱が、この導体層
を介して放熱部および放熱板から放出することになる。
また、導体層の上面で、少なくとも導体層と接続した電
子部品の接続部分以外に絶縁層を設け、この絶縁層上に
形成した配線パターンに他の電子部品を接続しているた
め、導体層上であっても、導体層と接触することなく電
子部品を搭載することができる。また、導体層上で絶縁
層が設けられていない部分、すなわち導体層の露出部分
が全て放熱のための領域となるため、冷却効果が向上す
る。
【0007】
【実施例】以下に、本発明のハイブリッドICを図面に
基づいて説明する。図1は本発明のハイブリッドICを
説明する図で、(a)は平面図、(b)は(a)のA−
A線矢視断面図である。すなわち、本発明のハイブリッ
ドIC1は、ガラスエポキシ板やセラミックス等を用い
た基板11上に、抵抗器やコンデンサ等から成るチップ
部品2、および半導体素子3を搭載して、所定の電気回
路を構成したものである。
【0008】基板11の上面全体には、例えば金属から
成る導体層12が形成されており、この導体層12の略
中央部には、発熱の多い電子部品である、例えば半導体
素子3が接続されている。また、導体層12の端部に
は、この導体層12と一体となった放熱部13が設けら
れている。
【0009】この導体層12の上面で、半導体素子3の
接続部分以外には、絶縁層14が設けられている。ま
た、この絶縁層14の上面には所定の配線パターン4が
形成されており、この配線パターン4にチップ部品2が
接続されている。これにより、導電層12の上方にチッ
プ部品2が搭載された状態となる。また、この絶縁層1
4は、配線パターン4およびチップ部品2を導体層12
から電気的に絶縁するためもので、絶縁性の高い樹脂や
基板11と同様の材質から成る。このため、少なくとも
配線パターン4およびチップ部品2の下面の面積より大
きく形成されていればよい。
【0010】また、発熱の多い半導体素子3が複数個搭
載されている場合等、とくに発熱量が多いハイブリッド
IC1においては、放熱部13に放熱板としてヒートシ
ンク5が取り付けられており、さらに冷却効果が高めら
れる。ヒートシンク5は、放熱量に応じて、基板11の
一端、または両端に取り付けられている。さらに必要な
場合には、露出している導体層12のどの位置にでも取
り付けることが可能である。
【0011】このハイブリッドIC1に搭載された半導
体素子3から発生した熱は、導体層12を介して放熱部
13およびヒートシンク5から放出される。また、この
熱は、放熱部13およびヒートシンク5から放出される
以外に、絶縁体14が形成されていない部分、すなわち
導体層12が露出する部分からも放出される。したがっ
て、絶縁層14の面積を小さくすればするほど、露出す
る導体層12の面積が大きくなるとともに、放熱部13
の面積も大きくすることができるため、冷却効果を高め
ることが可能となる。
【0012】このように、基板11に上面全体に導体層
12を設け、配線パターン4の形成に必要な部分に絶縁
層14を設ければ、この絶縁層14以外の全てを放熱部
13とすることができる。さらに、基板11上で、チッ
プ部品2や半導体素子3等の電子部品を接続するための
領域と、導体層12や放熱部13等の放熱のための領域
を区別して設ける必要がないため、基板11の縮小や、
電子部品の実装密度の向上を図ることができる。また、
発熱の多い半導体素子3の周辺部にも配線パターン4を
設けることができるため、配線パターン4のレイアウト
設計の自由度を高めることができる。
【0013】次に、本発明の他の実施例を図面に基づい
て説明する。図2は、本発明の他の実施例を説明する断
面図で、(a)はその1、(b)はその2である。すな
わち、図2(a)に示すようなハイブリッドIC1は基
板11の下面に配線パターン4が形成されており、この
配線パターン4にチップ部品2が接続された両面実装型
のものである。
【0014】また、図2(b)に示すようなハイブリッ
ドIC1は、基板11の下面側にも導体層12が設けら
れており、上面側と同様、この導体層12に半導体素子
3が接続されたものである。さらに、この導体層12の
半導体素子3の接続部分以外に絶縁層14が設けられて
おり、この絶縁層14に設けられた配線パターン4にチ
ップ部品2が接続されている。また、必要に応じてヒー
トシンク5を設け、冷却効果を高めてもよい。これらの
ような両面実装型のハイブリッドIC1により、冷却効
果を損なうことなく、電子部品の実装密度を向上させる
ことが可能となる。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のハイブリ
ッドICによれば次のような効果がある。すなわち、基
板の上面全体に導体層が形成されており、この導体層上
に設けられた絶縁層以外の部分、すなわち導体層が露出
した部分全てを放熱部とすることができる。したがっ
て、導体層の上方に電子部品が搭載されていても、冷却
効果が低下しない。また、放熱部および露出した導体層
のどの位置にも放熱板を設けることができるため、発熱
量に応じた冷却手段を容易に選択することが可能とな
る。さらに、基板上の電子部品の搭載領域と、導体層お
よび放熱部の領域とを区別する必要がないため、電子部
品の実装密度の向上を図ることが可能となる。また、配
線パターンのレイアウト設計の自由度を高めることがで
きるため、ハイブリッドICの設計や仕様の変更等に容
易に対処することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のハイブリッドICを説明する図で、
(a)は平面図、(b)は(a)のA−A線矢視断面図
である。
【図2】本発明の他の実施例を説明する断面図で、
(a)はその1、(b)はその2である。
【図3】従来のハイブリッドICを説明する図で、
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B線矢視断面図
である。
【符号の説明】
1 ハイブリッドIC 2 チップ部品 3 半導体素子 4 配線パターン 5 ヒートシンク 11 基板 12 導体層 13 放熱部 14 絶縁層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に複数の電子部品が搭載され、前
    記電子部品のうち少なくとも一つが、放熱部の設けられ
    た導体層と接続されているハイブリッドICにおいて、 前記導体層は前記基板の上面全体に形成されているとと
    もに、 前記導体層上面で、少なくとも前記導体層と接続された
    電子部品の接続部分以外に絶縁層が設けられ、 前記絶縁層の上面に形成された配線パターンに、前記導
    体層と接続された電子部品以外の電子部品が接続されて
    いることを特徴とするハイブリッドIC。
  2. 【請求項2】 前記放熱部に放熱板を取り付けたことを
    特徴とする請求項1記載のハイブリッドIC。
JP4089637A 1992-03-13 1992-03-13 ハイブリッドic Pending JPH05259370A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4089637A JPH05259370A (ja) 1992-03-13 1992-03-13 ハイブリッドic

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4089637A JPH05259370A (ja) 1992-03-13 1992-03-13 ハイブリッドic

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05259370A true JPH05259370A (ja) 1993-10-08

Family

ID=13976288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4089637A Pending JPH05259370A (ja) 1992-03-13 1992-03-13 ハイブリッドic

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JP (1) JPH05259370A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010096191A (ja) * 2008-10-14 2010-04-30 Hitachi Automotive Systems Ltd 変速制御装置および電子回路封入装置

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