JPH0525815U - 弾性表面波装置の製造装置。 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 弾性表面波装置のアルミニウム膜厚のばらつ
きによる周波数特性の変動を最小限に抑える。 【構成】 紫外線を発生する紫外線ランプ３と、紫外線
を集光するレンズ２と、パターン形状の異なる複数個の
フォトマスク１Ａと、複数個のフォトマスク１Ａを搭載
するフォトマスク用テーブル７と、フォトマスク用テー
ブル７を移動するフォトマスク移動用アクチュエータ４
と、基板６を搭載する基板用テーブル８および基板用テ
ーブル８を移動する基板移動用アクチュエータ５と、フ
ォトマスク移動用アクチュエータ４と基板移動用アクチ
ュエータ５とを制御しかつ記憶媒体１１上に基板６の膜
厚マッピングを備えたシステムコントローラ１０とから
構成する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は弾性表面波装置の製造装置に係わり、特に縮少投影型露光器を用いた 弾性表面波装置の製造装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

従来の弾性表面波装置の製造装置は、図７に示すような縮小投影型露光器１２ を用いた場合、フォトマスク１と、フォトマスク１を固定するテーブル７と、紫 外線ランプ３と、集光レンズ２と、露光される基板６と、基板６を搭載するテー ブル８と、テーブル８をステップ状に移動するアクチュエータ５とを有して構成 され、一つの基板６には一種類のフォトマスク１で露光を行っていた。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、従来の弾性表面波装置の製造装置では、一枚の基板６に対して 一種類のフォトマスク１の像を投影することしかできないため、一枚の基板上の 複数のチップはすべて同一のライン形状となってしまう。ところが、基板上に形 成されたアルミニウムの薄膜にはばらつきがあり、膜厚の厚い箇所，薄い箇所で は、弾性表面波の伝搬速度および反射率等が異なるため、結果的に同一基板上で 各チップの周波数特性が大きくばらついてしまうという問題があった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

このような問題を解決するために本考案による弾性表面波装置の製造装置は、 紫外線を発生する紫外線ランプと、紫外線を集光するレンズと、パターン形状の 異なる複数個のフォトマスクと、複数個のフォトマスクを搭載するフォトマスク 用テーブルと、フォトマスク用テーブルを移動するフォトマスク移動用アクチュ エータと、基板を搭載する基板用テーブルおよび基板用テーブルを移動する基板 移動用アクチュエータと、フォトマスク移動用アクチュエータと基板移動用アク チュエータとを制御しかつ記憶媒体上に基板の膜厚マッピングを備えたシステム コントローラとを有して構成される。

【０００５】

【作用】

本考案においては、ウエハの膜厚分布をマッピングデータとして取り込み、マ ッピングデータとチップレイアウトデータと周波数特性の近似式とから最適なフ ォトマスクとチップとの組み合わせを計算し、複数個のフォトマスクを同一ウエ ハ内に適用する。

【０００６】

【実施例】

以下、図面を用いて本考案の実施例を詳細に説明する。 図１は本考案による弾性表面波装置の一実施例を示すシステムの構成図であり 、前述と同一部分には同一符号を付してある。同図において、紫外線ランプ３か ら照射された紫外光はレンズ２によって集光され、フォトマスク１Ａに達する。 このフォトマスク１Ａは、図２（ａ）〜（ｄ）にそれぞれ示すようにライン幅Ｗ の異なる複数個のフォトマスク１₁，１₂，１₃，１₄が設置されて形成されており 、テーブル７をフォトマスク移動用アクチュエータ４によって任意のフォトマス クを選ぶことができる。基板６はテーブル８に搭載され、基板用アクチュエータ ５によってステップ状に移動される。一方、基板６のアルミニウム膜厚は予めマ ッピング機能を有する膜厚計によって図３に示すような膜厚マッピングデータＤ _M が取得され、システムコントローラ１０内に保存されている。図３では膜厚が 厚い順序は領域Ｄ，Ｃ，Ｂ，Ａの順と仮定する。弾性表面波装置は、アルミニウ ム膜厚が厚いほど中心周波数が低下し、アルミニウムパターンの幅が狭いほど中 心周波数が高くなる傾向があり、これは関数で近似可能である。システムコント ローラ１０は図３に示すマッピングデータＭ_Dと、図４に示すチップレイアウト データＤ_Tと、前記近似関数とを用いて最適なチップとフォトマスクとの対応を 示す図５，図６を得る。さらにシステムコントローラ１０は、図５，図６に示す チップとフォトマスクとの対応データに基づき、フォトマスク移動用アクチュエ ータ４および基板移動用アクチュエータ５を制御し、ウエハ内の分布に対応した 最適なフォトマスクを選択し、露光することができる。つまり、膜厚の厚い部分 には細いラインのフォトマスクで露光し、薄い部分には太いラインのフォトマス クで露光することで周波数特性を補正している。

【０００７】

【考案の効果】

以上説明したように本考案によれば、厚膜計によってウエハの厚膜分布をマッ ピングデータとして取り込み、マッピングデータとチップレイアウトデータと周 波数特性の近似式とから最適なフォトマスクとチップとの組み合わせを計算し、 複数個のフォトマスクを同一ウエハ内に適用することで膜厚のばらつきによる周 波数特性の変動をライン幅で補正できるようにしたので、製品の周波数特性のば らつきを最小限に抑えることができるという極めて優れた効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案による弾性表面波装置の製造方法の一実
施例を説明するシステムの構成を示す図である。

【図２】図１の複数個のフォトマスクを示す平面図であ
る。

【図３】ウエハ膜厚マッピングを示す図である。

【図４】チップレイアオウトを示す図である。

【図５】フォトマスク補正後のチップレイアウトを示す
図である。

【図６】フォトマスク補正後のチップレイアウトを示す
図である。

【図７】従来の弾性表面波装置の製造装置の構成を示す
図である。

【符号の説明】

１Ａ フォトマスク １₁ フォトマスク １₂ フォトマスク １₃ フォトマスク １₄ フォトマスク ２ レンズ ３ 紫外線ランプ ４ フォトマスク移動用アクチュエータ ５ 基板移動用アクチュエータ ６ 基板 ７ フォトマスク用テーブル ８ 基板用テーブル ９ データバス １０ システムコントローラ １１ 記憶媒体 １２ 縮小投影型露光器

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【手続補正書】

【提出日】平成４年９月１８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】考案の名称

【補正方法】変更

【補正内容】

【考案の名称】 弾性表面波装置の製造装置。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 紫外線光をレンズによって集光し、フォ
   トマスク像を縮小して基板上にパターンを露光する縮小
   投影型露光器を用いてパターンを形成する弾性表面波装
   置の製造装置において、ライン幅の異なる複数のフォト
   マスクと、前記複数のフォトマスクを移動して投影する
   フォトマスクを取り替えるフォトマスク移動用アクチュ
   エータと、前記基板を移動して基板上の投影位置を変え
   る基板移動用アクチュエータと、前記フォトマスク移動
   用アクチュエータと前記基板移動用アクチュエータとを
   制御しかつ記憶媒体に書き込まれた基板の膜厚マッピン
   グデータを備えたシステムコントローラとを設けたこと
   を特徴とする弾性表面波装置の製造装置。