JP4706337B2 - 弾性表面波素子のidtの設計方法および弾性表面波素子形成用フォトマスク並びに弾性表面波素子の製造方法、弾性表面波素子 - Google Patents
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Description
また、本発明は、同一の圧電体基板から形成した弾性表面波素子間における周波数のばらつきを小さくすることを目的としている。
図1は、本発明の実施の形態に係る弾性表面波素子形成用フォトマスクの平面図である。図1において、フォトマスク40は、石英ガラスなどの矩形状透明基板42に弾性表面波素子に形成する電極に対応した複数(実施形態では3つ)の電極パターン44(44a〜44c)が設けてある。フォトマスク40は、実施形態の場合、縮小投影露光装置用のフォトマスク(レチクル)であって、各電極パターン44が例えば原寸の5倍程度の大きさに形成してある。
Claims (5)
- 弾性表面波素子のIDTを構成しているすだれ状電極の電極指幅と、周波数温度特性を表す近似式の一次係数との関係を求めるとともに、
前記電極指幅と共振周波数との関係、および電極指ピッチと前記共振周波数との関係を求め、
前記電極指幅と前記一次係数との関係に基づいて、目標一次係数に対する前記一次係数の変動を相殺する前記電極指幅を求め、
さらに、前記電極指幅と共振周波数との関係、および電極指ピッチと前記共振周波数との関係に基づいて、前記電極指幅を変えたことによる前記共振周波数の変化を相殺する前記電極指ピッチを求める、
ことを特徴とする弾性表面波素子のIDTの設計方法。 - 弾性表面波素子のすだれ状電極の電極指幅と周波数温度特性を表す近似式の一次係数との関係、
および前記電極指幅と共振周波数との関係、電極指ピッチと共振周波数との関係、
並びに電極用導電膜を成膜する装置に対応させて、圧電体基板に形成した前記弾性表面波素子の前記一次係数と前記圧電体基板の位置との関係を予め求め、
前記圧電体基板に設けたフォトレジストを露光する際に、前記予め求めた前記電極指幅と前記一次係数との関係、および前記電極指幅と前記共振周波数との関係、前記電極指ピッチと前記共振周波数との関係、前記弾性表面波素子の前記一次係数と前記圧電体基板の位置との関係に基づいて、前記圧電体基板の位置に応じて、前記電極指幅と電極指ピッチとが異なって形成される電極パターンを露光する、
ことを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。 - 請求項2に記載の弾性表面波素子の製造方法において、
前記一次係数と前記圧電体基板の位置との関係は、成膜条件ごとに求めることを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。 - 請求項2または3に記載の弾性表面波素子の製造方法において、
前記一次係数と前記圧電体基板の位置との関係は、前記すだれ状電極を形成するフォトエッチングの条件ごとに求めることを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。 - 請求項2ないし4のいずれかに記載の弾性表面波の製造方法において、
前記露光は、前記圧電体基板に形成するすだれ状電極に対応させて透明基板に設けられ、前記すだれ状電極の電極指幅と電極指ピッチとを異ならせて形成できる複数の電極パターンを有している弾性表面波素子形成用フォトマスクを使用して行なうことを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。
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