JPH0525725U - インナリードボンダ - Google Patents

インナリードボンダ

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JPH0525725U
JPH0525725U JP1923091U JP1923091U JPH0525725U JP H0525725 U JPH0525725 U JP H0525725U JP 1923091 U JP1923091 U JP 1923091U JP 1923091 U JP1923091 U JP 1923091U JP H0525725 U JPH0525725 U JP H0525725U
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JP
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inner lead
resistant block
hole
lead
electrode
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Application number
JP1923091U
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Inventor
智 後藤
Original Assignee
関西日本電気株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 構造が簡単で多品種に対応でき、安定したボ
ンディングが可能なインナリードボンダの実現を目的と
する。 【構成】 TABフィルム上にインナリードと接離する
耐圧ブロックを配置し、TABフィルムの透孔下方に半
導体ペレットを支持して加熱しつつ上下動し、耐圧ブロ
ックに当接したインナリードに半導体ペレット上の電極
を押圧させる支持テーブルを配置したインナリードボン
ダ。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はTAB(Tape Automated Bonding)方式の半 導体集積回路装置(TAB IC)の製造に用いられるインナリードボンダに関 する。
【0002】
【従来の技術】
TAB ICの一例を図2及び図3に示す。図において、1は長尺の絶縁フィ ルムで、両側に沿って送り用のスプロケットホール1a,1bを一定間隔で穿設 し、スプロケットホール1a,1b間で、長手方向に一定間隔で方形のデバイス ホール1cを穿設し、さらに各デバイスホール1cの各周に沿って矩形状のアウ タリードホール1d,1e,1f,1gを穿設している。2は絶縁フィルム1に 積層したエッチングにより形成した導電パターンで、デバイスホール1c内に突 出するインナリード2a,アウタリードホール1d,1e,1f,1gを橋絡す るアウタリード2bを含む。この絶縁フィルム1に導電パターン2を形成したT ABフィルム3のデバイスホール1c位置に半導体ペレット4を配置し、その電 極4aとインナリード2aとを熱圧着している。この半導体装置はアウタリード ホール1d,1e,1f,1g部分でアウタリード2bを切断し、各ホール1d ,1e,1f,1g間を切断して、外部の配線基板などに実装される。
【0003】 ここで、インナリード2aと半導体ペレット4の電極4aを接続するインナリ ードボンダの一例を図4から説明する。図において、5は半導体ペレット4を支 持する支持テーブルで、TABフィルム3の移動経路下方で、定位置で停止した 透孔1cの下方に配置されている。6は支持テーブル5の上方で上下動するボン ディングツールで、ヒータチップ7により加熱されている。TABフィルム3は 図示しないが、ガイド体により透孔1c周辺を水平に保って上下動する。
【0004】 以下にこの装置の動作を説明する。先ず支持テーブル5上に半導体ペレット4 を載置し、電極4aとインナリード2aとが重合するように位置決めする。
【0005】 次にTABフィルム3を降下させ電極4aとインナリード2aとを重合させ、 さらにボンディングツール6で重合部を押圧して熱圧着する。ボンディングが完 了すると、ボンディングツール6とTABフィルム3とを順次上昇させて、TA Bフィルム3を半導体ペレット4を保持した状態でピッチ送りし、次の透孔1c を支持テーブル5上に位置させ、支持テーブル5上に新しい半導体ペレット4を 載置して上記動作を繰返す。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
ところでTAB ICは機種によって半導体ペレット4の寸法や電極数、電極 位置が異なり、それに合わせて透孔1cの寸法やリードの寸法,リード本数など も異なる。
【0007】 そのため適正なボンディングが行われるように機種毎にボンディングツール6 を用意し、機種切替毎に最適なボンディングツールに交換しなければならないと いう問題があった。
【0008】 上記インナリードボンダは支持テーブル5とボンディングツール6の間隔が平 行でない場合にはインナリード2aと電極4aの押圧状態でばらつき、押圧力が 過大な場合には電極部分に応力が集中し半導体ペレット4を破損する虞があり、 押圧力が過小であると圧着力が不十分になるという問題があるため、支持テーブ ル5とボンディングツール6の平行度を厳密に設定しなければならないが、ボン ディングツール6は連続動作によって摩耗し、圧着状態が不均一となるため、新 品と交換しなければならないが、交換毎に、上記平行度の調整が必要で、煩雑な 作業を長時間行わなければならないという問題があった。
【0009】 また、リード2aが変形していたり、TABフィルム3が半導体ペレット4と 非平行に配置されることなどによって、図5に示すようにリード2aが電極4a から浮いていると、ボンディングツール6が降下して浮いたリード2aを押し下 げる際に、図6に示すようにリード2aに押圧力F1がかかり、リード基部に向 かう分力F2を受ける。またリード2aは押下によって円弧動するが、リード2 aの先端はボンディングツール6の下面上の点6aまで移動し、分力F2に摩擦 力が加わることになり、この力が過大になるとリード2aは変形する。 この変形がリード2aの延在方向に生じると撓み変形となり、電極4aとボンデ ィングされた後、リード2aに応力が残留し、ペレット4を傾ける虞を生じる。
【0010】 また、変形がリード2aの延在方向に対し側方に生じると、リード2aと電極 4aの中心がずれた状態でボンディングが行われるため、ボンディング強度が低 下したり、隣り合うリードを近接して耐電圧低下や短絡の虞もあった。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本考案は上記課題の解決を目的として提案されたもので、透孔内にインナーリ ードを延在させたTABフィルムのインナリードと透孔内に配置させた半導体ペ レットの電極とを重合させ、重合部を加熱加圧して接続するインナリードボンダ であって、TABフィルムの上方に配置され、下面がインナリードに接離する耐 圧ブロックと、半導体ペレットを支持し加熱するとともにTABフィルムの透孔 下方で上下動し耐圧ブロックに当接したインナリードに半導体ペレットの電極を 押圧させる支持テーブルを含むことを特徴とするインナリードボンダを提供する 。
【0012】
【作用】
本考案によれば、耐圧ブロックによって係止されたインナリードに半導体ペレ ットの電極が押圧されるため、耐圧ブロックの摩耗がなく、リードと電極の位置 ずれも生じにくくインナリードボンダを実現できる。
【0013】
【実施例】
本考案の実施例を図1から説明する。図において、図2と同一符号は同一物を 示し説明を省略する。
【0014】 図中、8は水平方向に移動するTABフィルム3の上方に配置され、下面8a がTABフィルム3の透孔1c部分を覆いインナリード2aと接離する耐圧ブロ ック、9はTABフィルム3の下方で、透孔1cの周縁部を耐圧ブロック8の下 面8aに押圧して位置決めする保持フレーム,10は半導体ペレット4を支持す る支持テーブルで、ヒータ11を有し半導体ペレット4を適温に加熱する。この 支持テーブル10は耐圧ブロック8の下方で上下動し、TABフィルム3の透孔 1cに半導体ペレット4を、その電極4aとインナリード2aが重合するように 位置させる。
【0015】 以下に、この装置の動作を説明する。先ずTABフィルム3の透孔1cを定位 置で停止させ、耐圧ブロック8を降下させ、さらに保持フレーム9を上昇させて 、インナリード2aを耐圧ブロック8の下面に当接させて位置決めする。
【0016】 この時、インナリード2aが図6に示すように変形していると、押下時に、リ ード2aには撓ませる方向の分力が作用するが、水平状態に矯正された時には、 突起電極もなく、リード先端は自由であるため撓み分力から解放され、また耐圧 ブロック8は導電パターン2の上面より下方には沈み込まないため、リード2a の変形が最小に抑えられる。
【0017】 次に加熱状態の半導体ペレット4を支持テーブル10の上昇により透孔1c内 に位置させ、その電極4aをインナリード2aに重合させ、さらに加圧してボン ディングを行う。この時、リード2aにはボンディング部分のみに圧力が加えら れ、従来ボンディングツールがインナリードの遊端部が電極4aと圧着した状態 で、リード遊端乃至中間部をツール下面で押圧することにより生じるリードの延 びも発生せず、ボンディング後、インナリード2aに応力が残留しない。ボンデ ィング後は、支持テーブル10を降下させ、保持フレーム9を解放し、耐圧ブロ ック8を上昇させて、TABフィルム3を定ピッチ送り、上記動作を繰返す。
【0018】 上記の構成,作用により、耐圧ブロック8はペレットサイズ,電極数に関係な く共用でき、機種毎に交換する必要がない。そのため、耐圧ブロック8と支持テ ーブル10の平行度調整も一度だけでよく、多品種少量生産にも迅速に対応でき る。
【0019】 また、インナリードの変形に基づく、残留応力やボンディング位置ずれなどを 軽減乃至なくすことができ、ボンディング強度も十分にでき、耐電圧低下や短絡 事故を防止できる。
【0020】 尚、本考案は上記実施例にのみ限定されるものではなく、例えば、耐圧ブロッ ク8はインナリード2aと単に接触しているだけでよく、耐圧ブロック8の下面 は透孔1cより小さくてもよい。
【0021】 また、耐圧ブロック8に加熱手段(ヒータ)を組み込むことによってボンディ ング性を向上できる。
【0022】 さらには、耐圧ブロック8の下面に開口する透光部、具体的には貫通孔を設け 、この透光部を介してペレット位置、即ち電極位置とリードの位置を観察するよ うにしてもよいし、耐圧ブロック8全体を透明な人工宝石などの透明体で構成し てもよい。
【0023】
【考案の効果】
以上のように、本考案によれば、簡単な構造で多品種少量生産にも迅速に対応 でき、品質の安定したインナリードボンダを実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本考案の実施例を示す側断面図
【図2】 TAB ICの一例を示す斜視図
【図3】 図2に示すTAB ICの側断面図
【図4】 インナリードボンダの従来例を示す側断面図
【図5】 図4に示すインナリードボンダの問題を説明
するための部分拡大側面図
【図6】 図5に示す装置の動作状態を示す部分拡大側
断面図
【符号の説明】
1 絶縁フィルム 1c 透孔 2a インナリード 3 TABフィルム 4 半導体ペレット 4a 電極 8 耐圧ブロック 10 支持テーブル

Claims (5)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】透孔内にインナーリードを延在させたTA
    Bフィルムのインナリードと透孔内に配置させた半導体
    ペレットの電極とを重合させ、重合部を加熱加圧して接
    続するインナリードボンダであって、TABフィルムの
    上方に配置され、下面がインナリードに接離する耐圧ブ
    ロックと、半導体ペレットを支持し加熱するとともにT
    ABフィルムの透孔下方で上下動し耐圧ブロックに当接
    したインナリードに半導体ペレットの電極を押圧させる
    支持テーブルを含むことを特徴とするインナリードボン
    ダ。
  2. 【請求項2】耐圧ブロックのインナリードと当接する面
    がTABフィルムの透孔より大きいことを特徴とする請
    求項1記載のインナリードボンダ。
  3. 【請求項3】耐圧ブロックに加熱手段を付加したことを
    特徴とする請求項1記載のインナリードボンダ。
  4. 【請求項4】耐圧ブロックにインナリードと半導体ペレ
    ットの位置決め確認用の透光部を設けたことを特徴とす
    る請求項1記載のインナリードボンダ。
  5. 【請求項5】耐圧ブロックが透明体であることを特徴と
    する請求項4記載のインナリードボンダ。
JP1923091U 1991-03-28 1991-03-28 インナリードボンダ Pending JPH0525725U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002299376A (ja) * 2001-01-23 2002-10-11 Shibaura Mechatronics Corp ボンディング装置及びボンディンク方法

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JPH01179333A (ja) * 1988-01-06 1989-07-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 半導体ボンディング圧力調整装置
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