JPH05253550A - Article cleaning apparatus - Google Patents

Article cleaning apparatus

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JPH05253550A
JPH05253550A JP5085792A JP5085792A JPH05253550A JP H05253550 A JPH05253550 A JP H05253550A JP 5085792 A JP5085792 A JP 5085792A JP 5085792 A JP5085792 A JP 5085792A JP H05253550 A JPH05253550 A JP H05253550A
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chamber
article
chambers
dust
air
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Yukihiro Murakami
幸弘 村上
Masaji Yoshikawa
正司 吉川
Toshiyuki Tanigawa
俊幸 谷川
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SANPO DENKI KK
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SANPO DENKI KK
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Abstract

PURPOSE:To provide the title apparatus capable of enhancing the cleaning degree in the apparatus and capable of certainly preventing the re-adhesion of removed dust to an article. CONSTITUTION:An article cleaning apparatus is equipped with a conveyor 3 feeding an article P such as a printed circuit board or a liquid crystal plate, first and second chambers 1, 2, a cleaning brush 7 and a high pressure nozzle 9a for removing the dust on the surface of the article P, punching plates 11, 12 and 21, 22 closing the upper and lower parts of the chambers 1, 2 and sirocco fans 13, 23 sending air to the chambers 1, 2 and having the same blowing capacity. The amount of air supplied to the first chamber 1 becomes smaller than the amount of air discharged from said chamber and the atmospheric pressure in the second chamber 2 becomes higher than that in the first chamber 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板や液晶板
等の物品の製造ラインに設置され、物品の表面の塵埃を
除去してクリーンルームへ搬送する物品清浄装置の改良
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement of an article cleaning apparatus which is installed in a production line for articles such as printed circuit boards and liquid crystal boards and which removes dust on the surface of articles and conveys them to a clean room.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント基板等の製造ラインにおいて、
上記基板の表面に塵埃が付着していると、この塵埃が上
記基板等に回路パターンを印刷するスクリーン印刷膜に
付着し、この結果、上記塵埃が上記基板等に一緒に印刷
されて回路パターンに不良が生じる。
2. Description of the Related Art In a printed circuit board manufacturing line,
When dust adheres to the surface of the substrate, the dust adheres to a screen printing film that prints a circuit pattern on the substrate or the like, and as a result, the dust is printed together on the substrate or the like on the circuit pattern. Defects occur.

【0003】このため、特開昭62−49984号公報
に開示された従来技術のように、基板上の塵埃を除去し
て上記印刷工程の設置されたクリーンルームへ搬送する
清浄装置が知られている。
Therefore, as in the prior art disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-49984, there is known a cleaning device for removing dust on the substrate and transporting it to a clean room in which the above printing process is installed. ..

【0004】この清浄装置は、装置内の基板搬送空間が
仕切りパネルにより3室に分割されており、搬送方向の
下流に向かうに従って空間の清浄度が上がるとともに、
各室において基板表面に付着している塵埃を除去するよ
うになっている。すなわち、清浄装置の各室では、イオ
ン発生装置によって基板にイオン風を当て、基板表面に
付着している塵埃の電荷を放電して剥離し易い状態に
し、除電及び剥離用のブラシで上記塵埃を剥離させた
後、パンカールーバー型吹出ノズルからの清浄空気を上
記基板表面に当てることにより、塵埃を浮遊させて取り
除くようになっている。
In this cleaning device, the substrate transfer space in the device is divided into three chambers by a partition panel, and the cleanliness of the space increases as it goes downstream in the transfer direction.
Dust adhering to the substrate surface is removed in each chamber. In other words, in each chamber of the cleaning device, an ion wind is applied to the substrate by the ion generator to discharge the electric charges of the dust adhering to the substrate surface so that the dust can be easily separated, and the dust is removed by a brush for static elimination and separation. After peeling, dust is floated and removed by applying clean air from the bunker bar blow nozzle to the substrate surface.

【0005】ところで、この清浄装置では、パンカール
ーバー型吹出ノズルからの清浄空気は乱流になるため、
浮遊した塵埃が乱流に乗って基板表面に戻ることが多
く、この結果、上記基板へ再付着し易いことになる。
By the way, in this cleaning device, the clean air from the bunker bar type blowing nozzle becomes a turbulent flow.
Floating dust is often returned to the surface of the substrate by turbulent flow, and as a result, it is easy for the dust to reattach to the substrate.

【0006】この対策として、特開昭62−49984
号公報では、清掃ローラにより基板上の塵埃を剥離した
後、ノズルから吹き出す高速清浄気流で基板上の塵埃を
基板の搬送方向の上流側に吹き飛ばし、その際、塵埃が
基板表面に戻らないようにノズルの周辺に微風速の清浄
気流を吹き出させ、これにより塵埃の基板への再付着を
防止するようにした清浄装置が提案されている。
As a countermeasure against this, Japanese Patent Laid-Open No. 62-49984
In the publication, after the dust on the substrate is peeled off by the cleaning roller, the dust on the substrate is blown off to the upstream side in the transfer direction of the substrate by the high-speed clean airflow blown out from the nozzle, and at that time, the dust is prevented from returning to the substrate surface. A cleaning device has been proposed in which a clean air stream at a low wind speed is blown around the nozzle to prevent dust from reattaching to the substrate.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、特開昭62
−49984号公報の清浄装置にあっては、装置内の空
気は、基板の搬入口の近傍に配設された有孔板等によっ
て吸引されるため、上記搬入口から外気が入り易く、こ
の外気に含まれた塵埃により装置内の清浄度が低下する
ことになる。これにより、塵埃を除去するフィルターが
汚れ易いことになる。
However, JP-A-62-62
In the cleaning device of Japanese Patent Publication No. 498994, since the air in the device is sucked by a perforated plate or the like arranged in the vicinity of the carry-in port of the substrate, the outside air easily enters through the carry-in port and The dust contained in will reduce the cleanliness inside the device. As a result, the filter for removing dust easily becomes dirty.

【0008】また、ノズルからの高速清浄気流は、基板
の搬送方向の上流側に流れるようになっており、清掃ロ
ーラ等に当たって乱流を生じさせる。このため、塵埃が
上記乱流に乗って清掃ローラの下流側で基板に付着する
ことが生じる。この塵埃は清掃ローラにより剥離されな
いので、ノズルからの高速清浄気流によっては吹き飛ば
すことができないことになる。
Further, the high-speed clean air flow from the nozzle is designed to flow upstream in the substrate carrying direction, and hits the cleaning roller or the like to generate a turbulent flow. For this reason, the dust may adhere to the substrate on the downstream side of the cleaning roller due to the turbulent flow. Since this dust is not separated by the cleaning roller, it cannot be blown off by the high-speed clean air flow from the nozzle.

【0009】本発明は、上記問題を解決するもので、装
置内の清浄度を高くすることができるとともに、剥離し
た塵埃が物品に再付着することを確実に防止することが
できる物品清浄装置を提供することを目的とする。
The present invention solves the above problems and provides an article cleaning apparatus capable of increasing the cleanliness inside the apparatus and reliably preventing the peeled dust from reattaching to the article. The purpose is to provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、物品を搬送する搬送手段と、物品の搬送
空間を物品の搬送方向の上流側と下流側に分割して成る
第1,第2のチャンバーと、上記第1のチャンバー内で
物品表面の塵埃を除去する清掃手段と、複数個の孔が穿
設され、各チャンバーの上下を塞ぐようにそれぞれ配設
された一対の有孔板と、上記第1,第2のチャンバーの
上方の有孔板を通して上記第1,第2のチャンバーにそ
れぞれ送風する第1,第2の送風手段とを備え、上記第
1,第2の送風手段は互いに等しい送風能力を有した物
品清浄装置において、上記第1のチャンバーの一対の有
孔板は、上方の有孔板を通して上記第1のチャンバーへ
供給される空気量が下方の有孔板を通して排気される空
気量よりも少なくなるように開口率が設定され、上記第
2のチャンバーの一対の有孔板は、第2のチャンバー内
の気圧が第1のチャンバー内の気圧よりも高くなるよう
に開口率が設定されたものである。
In order to achieve the above object, the present invention comprises a conveying means for conveying an article, and an article conveying space divided into an upstream side and a downstream side in the article conveying direction. First and second chambers, a cleaning means for removing dust on the surface of the article in the first chamber, and a pair of holes, each having a plurality of holes and arranged so as to close the upper and lower sides of each chamber. A perforated plate and first and second blowing means for blowing air to the first and second chambers through the perforated plate above the first and second chambers, respectively. Of the pair of perforated plates of the first chamber have a lower amount of air supplied to the first chamber through the upper perforated plates. Less than the amount of air exhausted through the perforated plate The aperture ratio is set so that the pair of perforated plates of the second chamber have the aperture ratio set so that the atmospheric pressure in the second chamber is higher than the atmospheric pressure in the first chamber. Is.

【0011】[0011]

【作用】上記構成の物品清浄装置によれば、第1のチャ
ンバー内の気圧が外気圧よりも高くなるようにしたこと
により、物品清浄装置の外部から第1のチャンバー内へ
の塵埃の侵入を防ぐことができ、第2のチャンバー内の
気圧が第1のチャンバー内の気圧よりも高くなるように
したことにより、第1のチャンバーや物品清浄装置の外
部から第2のチャンバー内への塵埃の侵入を防ぐことが
できる。
According to the article cleaning apparatus having the above structure, the atmospheric pressure in the first chamber is set to be higher than the external atmospheric pressure, so that dust can be prevented from entering the first chamber from the outside of the article cleaning apparatus. By preventing the pressure in the second chamber from becoming higher than the pressure in the first chamber, dust from the outside of the first chamber or the article cleaning device into the second chamber can be prevented. Intrusion can be prevented.

【0012】[0012]

【実施例】図1〜図3は、本発明に係る物品清浄装置の
一実施例を示し、図1は側面からみた概略構成図、図2
は図1のII−II線矢視図、図3は高圧ノズル及び吸込部
の拡大図である。
1 to 3 show an embodiment of an article cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 1 is a schematic configuration diagram as viewed from the side, FIG.
Is a view taken along the line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged view of the high pressure nozzle and the suction portion.

【0013】この物品清浄装置Aは、クリーンルームB
へ偏光板や液晶板やプリント基板等の物品(以下、物品
Pという)を搬入する搬入部に設置されるもので、物品
Pの表面に付着している塵埃を除去して上記クリーンル
ームBへ搬出するようになっている。また、物品清浄装
置Aは、第1,第2のチャンバー1,2と、還流路60
とから構成されている。
The article cleaning apparatus A is a clean room B.
It is installed in a carry-in section for carrying in an article (hereinafter referred to as article P) such as a polarizing plate, a liquid crystal plate, or a printed circuit board, and removes dust adhering to the surface of the article P and carries it out to the clean room B. It is supposed to do. In addition, the article cleaning apparatus A includes the first and second chambers 1 and 2 and the return path 60.
It consists of and.

【0014】第1,第2のチャンバー1,2は、仕切板
6により仕切られており、第1のチャンバー1は、その
上下を塞ぐように上パンチング板11及び下パンチング
板12が配設され、この第1のチャンバー1の上部に
は、シロッコファン13とULPAフィルタ14とが配
設されている。第2のチャンバー2は、その上下を塞ぐ
ように上パンチング板21及び下パンチング板22が配
設され、この第2のチャンバー2の上部には、シロッコ
ファン23とULPAフィルタ24とが配設されてい
る。シロッコファン13,23は、互いにほぼ等しい回
転速度(送風能力)で回転するようになっている。
The first and second chambers 1 and 2 are partitioned by a partition plate 6, and the first chamber 1 is provided with an upper punching plate 11 and a lower punching plate 12 so as to close the upper and lower sides thereof. A sirocco fan 13 and a ULPA filter 14 are arranged above the first chamber 1. An upper punching plate 21 and a lower punching plate 22 are arranged so as to close the upper and lower sides of the second chamber 2, and a sirocco fan 23 and a ULPA filter 24 are arranged above the second chamber 2. ing. The sirocco fans 13 and 23 are designed to rotate at substantially the same rotation speed (air blowing capacity).

【0015】上記還流路60は、第1,第2のチャンバ
ー1,2の下方から第1,第2のチャンバー1,2の後
方を通ってシロッコファン13,23の上方まで形成さ
れ、第1,第2のチャンバー1,2の下方の還流路60
と第1,第2のチャンバー1,2の後方の還流路60と
は吸込口61を通して接続されている。
The return passage 60 is formed from below the first and second chambers 1 and 2 to behind the first and second chambers 1 and 2 and above the sirocco fans 13 and 23. , A reflux path 60 below the second chambers 1 and 2
And the reflux passage 60 at the rear of the first and second chambers 1 and 2 are connected through a suction port 61.

【0016】上記第1のチャンバー1のパンチング板1
1,12及び第2のチャンバー2のパンチング板21,
22は、複数個の孔が均一に分布するように穿設され、
シロッコファン13,23からの送風を整流するように
なっている。
Punching plate 1 of the first chamber 1
1, 12 and the punching plate 21 of the second chamber 2,
22 is provided so that a plurality of holes are evenly distributed,
The air blown from the sirocco fans 13 and 23 is rectified.

【0017】また、第1のチャンバー1のパンチング板
11,12は、下パンチング板12を通して排気される
空気量が上パンチング板11を通して第1のチャンバー
1内へ供給される空気量よりも小さくなるとともに、第
2のチャンバー2の上パンチング板21を通して第2の
チャンバー2内へ供給される空気量よりも小さくなるよ
うに、例えば、下パンチング板12の開口率を80%に
設定し、上パンチング板11の開口率を20%に設定し
て第1のチャンバー1内の気圧が外気より0.2mmA
q程度高くなるようにする。この第1のチャンバー1内
の気圧と外気圧との気圧差により、第1のチャンバー1
内から搬入口4を通って装置外へ常に気流が生じ、装置
外の塵埃が搬入口4を通って第1のチャンバー1内に侵
入することが防がれる。
In the punching plates 11 and 12 of the first chamber 1, the amount of air exhausted through the lower punching plate 12 is smaller than the amount of air supplied into the first chamber 1 through the upper punching plate 11. At the same time, for example, the opening ratio of the lower punching plate 12 is set to 80% so that the amount of air supplied to the second chamber 2 through the upper punching plate 21 of the second chamber 2 is set to 80%, and the upper punching plate 21 is punched. The opening ratio of the plate 11 is set to 20%, and the air pressure inside the first chamber 1 is 0.2 mmA higher than the outside air.
Make it about q higher. Due to the pressure difference between the atmospheric pressure in the first chamber 1 and the external pressure, the first chamber 1
An airflow is constantly generated from the inside through the carry-in port 4 to the outside of the device, and dust outside the device is prevented from entering the first chamber 1 through the carry-in port 4.

【0018】一方、第2のチャンバー2のパンチング板
21,22は、上パンチング板21が上記上パンチング
板11よりも大きい開口率を有し、下パンチング板22
が上パンチング板21よりも小さい開口率を有するよう
に、例えば、上パンチング板21の開口率を80%に設
定し、下パンチング板22の開口率を20%に設定して
第2のチャンバー2内の気圧が第1のチャンバー1内の
気圧より0.2mmAq程度高くなるようにする。この
第1のチャンバー1内の気圧と第2のチャンバー2内の
気圧との気圧差により、第2のチャンバー2内から通過
口8を通って第1のチャンバー1へ常に気流が生じ、第
1のチャンバー1内の塵埃が通過口8を通って第2のチ
ャンバー2内へ侵入することが防がれる。なお、クリー
ンルームBの気圧は通常大気圧のため、第2のチャンバ
ー2内から搬出口5を通ってクリーンルームBへも気流
が生じる。これにより、クリーンルームBからの塵埃が
第2のチャンバー2内に侵入することが防がれる。
On the other hand, in the punching plates 21 and 22 of the second chamber 2, the upper punching plate 21 has a larger aperture ratio than the upper punching plate 11 and the lower punching plate 22.
So as to have a smaller aperture ratio than the upper punching plate 21, for example, the aperture ratio of the upper punching plate 21 is set to 80% and the aperture ratio of the lower punching plate 22 is set to 20%. The atmospheric pressure inside is set to be higher than the atmospheric pressure inside the first chamber 1 by about 0.2 mmAq. Due to the atmospheric pressure difference between the atmospheric pressure in the first chamber 1 and the atmospheric pressure in the second chamber 2, an airflow is constantly generated from the inside of the second chamber 2 to the first chamber 1 through the passage port 8, It is possible to prevent dust in the chamber 1 from entering the second chamber 2 through the passage port 8. Since the atmospheric pressure of the clean room B is usually atmospheric pressure, an air flow is also generated in the clean room B from the inside of the second chamber 2 through the carry-out port 5. This prevents dust from the clean room B from entering the second chamber 2.

【0019】なお、ULPAフィルタ14,24は、シ
ロッコファン13,23による第1,第2のチャンバー
1,2内の気圧の維持をほとんど妨げない通気性を有す
るようになっている。
The ULPA filters 14 and 24 are designed to have a breathability that hardly hinders the maintenance of the atmospheric pressure in the first and second chambers 1 and 2 by the sirocco fans 13 and 23.

【0020】また、第1のチャンバー1の側板であって
物品搬入側には搬入口4が、仕切板6には通過口8が、
第2のチャンバー2の側板であってクリーンルームB側
には搬出口5が形成され、これらを貫通するようにコン
ベヤ3が配設されている。そして、コンベヤ3により物
品Pが搬入口4から搬出口5まで搬送されるようになっ
ている。
Further, the side plate of the first chamber 1 has a carry-in port 4 on the article carrying-in side and a passage port 8 on the partition plate 6.
A carry-out port 5 is formed on the side of the second chamber 2 that is the clean room B side, and a conveyor 3 is arranged so as to penetrate these. Then, the article P is conveyed from the carry-in port 4 to the carry-out port 5 by the conveyor 3.

【0021】また、第1のチャンバー1内であってコン
ベヤ3の上方には清掃ブラシ7が配設され、この清掃ブ
ラシ7の下流側には通過口8を挾んで第1のチャンバー
1側に吸引部9bが、第2のチャンバー2側に高圧ノズ
ル9aが配設されている。また、第1,第2のチャンバ
ー1,2の後方の還流路60には、高圧ブロア9eと外
気取入ユニット10とが設けられている。
A cleaning brush 7 is disposed in the first chamber 1 and above the conveyor 3, and a passage port 8 is provided on the downstream side of the cleaning brush 7 toward the first chamber 1 side. The suction unit 9b is provided with the high-pressure nozzle 9a on the side of the second chamber 2. Further, a high pressure blower 9e and an outside air intake unit 10 are provided in the return passage 60 behind the first and second chambers 1 and 2.

【0022】上記高圧ブロア9eは、高速気流を送風す
るもので、その送風側がエアパイプ9cを介して上記高
圧ノズル9aに接続され、吸気側がダクト9fを介して
上記吸引部9bに接続されている。上記高圧ノズル9a
は、例えば、複数個のフラットジェットノズル90をコ
ンベヤ3の幅方向に並設して構成されている。各ノズル
90は、図3に示すように、コンベヤ3の搬送方向の下
流側にθ(例えば60°)傾くように配設されるととも
に、その空気吹き出し口の高さhは、コンベヤ3上の物
品Pから、例えば10mm〜20mmになるように配設
されている。吸引部9bは、高圧ノズル9aに向かって
開口90bが形成されている。
The high-pressure blower 9e blows a high-speed air stream, and its blowing side is connected to the high-pressure nozzle 9a via an air pipe 9c, and its suction side is connected to the suction section 9b via a duct 9f. The high pressure nozzle 9a
Is composed of, for example, a plurality of flat jet nozzles 90 arranged in parallel in the width direction of the conveyor 3. As shown in FIG. 3, each nozzle 90 is arranged so as to incline θ (for example, 60 °) on the downstream side of the conveyor 3 in the transport direction, and the height h of the air blowing port thereof is on the conveyor 3. It is arranged so as to be, for example, 10 mm to 20 mm from the article P. The suction portion 9b has an opening 90b formed toward the high pressure nozzle 9a.

【0023】また、高圧ブロア9eと高圧ノズル9aと
の間には、インライン型フィルタ9dが配設されてお
り、高圧ブロア9eからの高速気流から塵埃が除去され
るようになっている。
Further, an in-line type filter 9d is arranged between the high pressure blower 9e and the high pressure nozzle 9a so that dust is removed from the high-speed air flow from the high pressure blower 9e.

【0024】次に、上記構成の物品清浄装置の作用につ
いて説明する。シロッコファン13,23が図示しない
駆動モータ等により回転されることにより送風が開始
し、上パンチング板11,21により整流され、ULP
Aフィルタ14,24により塵埃が除去された空気が、
第1,第2のチャンバー1,2へ垂直方向の気流として
供給される。この空気は、下パンチング板12,22を
通って還流路60へ排気された後、この還流路60から
上パンチング板11,21を通ってシロッコファン1
3,23へ還流される。
Next, the operation of the article cleaning apparatus having the above structure will be described. The sirocco fans 13 and 23 start to be blown by being rotated by a drive motor or the like (not shown), and are rectified by the upper punching plates 11 and 21 to provide ULP
The air from which dust has been removed by the A filters 14 and 24 is
It is supplied to the first and second chambers 1 and 2 as a vertical air flow. This air is exhausted to the recirculation path 60 through the lower punching plates 12 and 22, and then passes from the recirculation path 60 to the upper punching plates 11 and 21 and the sirocco fan 1
Reflux to 3,23.

【0025】そして、パンチング板11,12の開口率
の差により、第1のチャンバー1内へ供給される空気量
よりも排気される空気量が少なくなるようにしているた
め、第1のチャンバー1内の気圧が外気より0.2mm
Aq程度高くなる。一方、パンチング板21,22の開
口率の差により、第2のチャンバー2内の気圧が第1の
チャンバー1内の気圧より0.2mmAq程度高くな
る。
Since the amount of air exhausted is smaller than the amount of air supplied into the first chamber 1 due to the difference in the aperture ratio of the punching plates 11 and 12, the first chamber 1 The air pressure inside is 0.2 mm higher than the outside air
It becomes higher by about Aq. On the other hand, the atmospheric pressure in the second chamber 2 becomes higher than the atmospheric pressure in the first chamber 1 by about 0.2 mmAq due to the difference in the opening ratio between the punching plates 21 and 22.

【0026】一方、搬入口4の外側でコンベヤ3に載置
された物品Pは、コンベヤ3によりクリーンルームBへ
向けて搬送される。この搬送途中で物品Pに付着してい
る塵埃が、清掃ブラシ7により擦られて剥離された後、
高圧ノズル9aの各ノズル90からの高速気流により吹
き飛ばされ、上記各ノズル90からの高速気流とともに
開口90bを介して吸引部9bに全て吸引される。そし
て、この塵埃の除去された物品Pが第2のチャンバー2
を通って搬出口5へ搬送される。
On the other hand, the article P placed on the conveyor 3 outside the carry-in port 4 is conveyed to the clean room B by the conveyor 3. Dust adhering to the article P during this conveyance is rubbed by the cleaning brush 7 and peeled off.
It is blown away by the high-speed airflow from each nozzle 90 of the high-pressure nozzle 9a, and is all sucked by the suction unit 9b through the opening 90b together with the high-speed airflow from each nozzle 90. Then, the article P from which the dust is removed is transferred to the second chamber 2
And is conveyed to the carry-out port 5.

【0027】なお、外気取入ユニット10により外気か
ら塵埃を除去して還流路60内に送風することによって
第1,第2のチャンバー1,2内が冷却される。
The inside and outside of the first and second chambers 1 and 2 are cooled by removing dust from the outside air by the outside air intake unit 10 and blowing the air into the return passage 60.

【0028】このように、上パンチング板11と下パン
チング板12の開口率の差によって第1のチャンバー1
内の気圧を外気圧よりも高くなるように設定し、上パン
チング板11と上パンチング板21の開口率の差及び上
パンチング板21と下パンチング板22の開口率の差に
よって第2のチャンバー2内の気圧を第1のチャンバー
1内の気圧よりも高くなるように設定したので、装置外
から第1のチャンバー1内への塵埃の侵入、及び第1の
チャンバー1やクリーンルームBから第2のチャンバー
2内への塵埃の侵入を防ぐことができる。
As described above, the first chamber 1 has a difference in aperture ratio between the upper punching plate 11 and the lower punching plate 12.
The inner pressure is set to be higher than the outer pressure, and the second chamber 2 is controlled by the difference in the aperture ratio between the upper punching plate 11 and the upper punching plate 21 and the difference in the aperture ratio between the upper punching plate 21 and the lower punching plate 22. Since the atmospheric pressure inside is set to be higher than the atmospheric pressure inside the first chamber 1, the intrusion of dust from the outside of the device into the first chamber 1 and the second chamber from the first chamber 1 or the clean room B It is possible to prevent dust from entering the chamber 2.

【0029】また、第1,第2のチャンバー1,2内で
は、気流は整流されて垂直方向に流れるため、塵埃が拡
散されることなく第1,第2のチャンバー1,2外へ排
出される。従って、第1,第2のチャンバー1,2内の
清浄度を高く保つことができ、物品Pに塵埃が付着する
ことを防止することができる。さらに、高圧ノズル9a
から物品表面に吹き付けられた高速気流は、第1のチャ
ンバー1内に若干入った位置で物品Pへ斜めに吹き付け
られるため、物品Pに吹き付けられた気流は第2のチャ
ンバー2側へ流れない。
Further, in the first and second chambers 1 and 2, since the airflow is rectified and flows in the vertical direction, dust is discharged to the outside of the first and second chambers 1 and 2 without being diffused. It Therefore, the cleanliness inside the first and second chambers 1 and 2 can be kept high, and dust can be prevented from adhering to the article P. Further, the high pressure nozzle 9a
Since the high-speed airflow blown from the surface of the article to the article P is obliquely blown to the article P at a position slightly inside the first chamber 1, the airflow blown to the article P does not flow to the second chamber 2 side.

【0030】なお、パンチング板11,12,21,2
2の各開口率を同じにしてシロッコファン13,23の
回転速度をそれぞれ異ならせることにより、第1,第2
のチャンバー1,2内の気圧を上述した気圧に設定する
ことも可能であるが、このためには各シロッコファン1
3,23の回転速度をそれぞれ所望の回転速度に制御す
る制御手段等を設ける必要があり、コストアップを招く
ことになる。一方、上記実施例では、シロッコファン1
3,23は、互いに等しい回転速度でよいので、同一規
格のファンを配設すればよくコストの低減を図ることが
できる。
The punching plates 11, 12, 21, 2
By setting the aperture ratios of 2 to be the same and making the rotational speeds of the sirocco fans 13 and 23 different,
It is also possible to set the atmospheric pressure in the chambers 1 and 2 of the above to the above-mentioned atmospheric pressure. For this purpose, each sirocco fan 1
It is necessary to provide a control means or the like for controlling the rotation speeds of 3 and 23 to desired rotation speeds, respectively, which leads to an increase in cost. On the other hand, in the above embodiment, the sirocco fan 1
Since the rotation speeds of 3 and 23 are equal to each other, it is sufficient to dispose fans of the same standard, and the cost can be reduced.

【0031】また、パンチング板11,12,21,2
2の各開口率は、第1のチャンバー1内の気圧が外気圧
よりも高く、第2のチャンバー2内の気圧が第1のチャ
ンバー1内の気圧よりも高くなるものであれば、上述し
た開口率に限定されるものではない。また、上記実施例
では、上パンチング板11,21をULPAフィルタ1
4,24の上方に配設したが、ULPAフィルタ14,
24の下方に上パンチング板11,21を配設してもよ
い。さらに、1つのシロッコファンで第1,第2のチャ
ンバー1,2にそれぞれ送風してもよい。
The punching plates 11, 12, 21, 2 are also provided.
Each of the opening ratios of 2 has been described above as long as the atmospheric pressure in the first chamber 1 is higher than the atmospheric pressure and the atmospheric pressure in the second chamber 2 is higher than the atmospheric pressure in the first chamber 1. It is not limited to the aperture ratio. In the above embodiment, the upper punching plates 11 and 21 are connected to the ULPA filter 1.
The ULPA filter 14,
Upper punching plates 11 and 21 may be disposed below 24. Furthermore, one sirocco fan may blow air into the first and second chambers 1 and 2, respectively.

【0032】また、物品Pの搬送手段は、コンベヤ3に
限られるものではなく、ローラ等であってもよい。
Further, the conveying means for the article P is not limited to the conveyor 3 and may be a roller or the like.

【0033】また、物品Pの搬送手段の下方側に高圧ノ
ズル及び吸引部を設け、この高圧ノズルにより物品Pの
下側に付着している塵埃を吹き飛ばすようにしてもよ
い。
Further, a high pressure nozzle and a suction portion may be provided on the lower side of the conveying means for the article P, and the high pressure nozzle may blow off dust adhering to the lower side of the article P.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明は、第1のチャンバー内の気圧が
外気圧よりも高くなるように、第2のチャンバー内の気
圧が第1のチャンバー内の気圧よりも高くなるようにし
たので、物品清浄装置の外部から第1のチャンバー内へ
の塵埃の侵入、及び第1のチャンバーや物品清浄装置の
外部から第2のチャンバー内への塵埃の侵入を防ぐこと
ができる。従って、第1,第2のチャンバー内の清浄度
を高く保つことができるとともに、物品に塵埃が再付着
することを確実に防止することができる。
According to the present invention, the atmospheric pressure in the first chamber is higher than the atmospheric pressure, and the atmospheric pressure in the second chamber is higher than the atmospheric pressure in the first chamber. It is possible to prevent dust from entering the first chamber from the outside of the article cleaning apparatus and from entering the second chamber from the outside of the first chamber or the article cleaning apparatus. Therefore, the cleanliness of the first and second chambers can be kept high, and dust can be reliably prevented from reattaching to the article.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る物品清浄装置の一実施例を示す側
面からみた概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration view of an article cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention as seen from a side surface.

【図2】図1のII−II線矢視図である。FIG. 2 is a view taken along the line II-II of FIG.

【図3】高圧ノズル及び吸引部の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a high pressure nozzle and a suction unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1のチャンバー 2 第2のチャンバー 3 コンベヤ(搬送手段) 4 搬入口 5 搬出口 6 仕切板 7 清掃ブラシ(清掃手段) 8 通過口 9a 高圧ノズル(清掃手段) 9b 吸引部(清掃手段) 11,21 上パンチング板(有孔板) 12,22 下パンチング板(有孔板) 13,23 シロッコファン(送風手段) 14,24 ULPAフィルタ 60 還流路 90 フラットジェットノズル A 物品清浄装置 B クリーンルーム P 物品 1 1st chamber 2 2nd chamber 3 Conveyor (conveying means) 4 Carrying inlet 5 Carrying outlet 6 Partition plate 7 Cleaning brush (cleaning means) 8 Passage port 9a High pressure nozzle (cleaning means) 9b Suction part (cleaning means) 11 , 21 Upper punching plate (perforated plate) 12,22 Lower punching plate (perforated plate) 13,23 Sirocco fan (blowing means) 14,24 ULPA filter 60 Reflux path 90 Flat jet nozzle A Article cleaning device B Clean room P Article

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 物品を搬送する搬送手段と、物品の搬送
空間を物品の搬送方向の上流側と下流側に分割して成る
第1,第2のチャンバーと、上記第1のチャンバー内で
物品表面の塵埃を除去する清掃手段と、複数個の孔が穿
設され、各チャンバーの上下を塞ぐようにそれぞれ配設
された一対の有孔板と、上記第1,第2のチャンバーの
上方の有孔板を通して上記第1,第2のチャンバーにそ
れぞれ送風する第1,第2の送風手段とを備え、上記第
1,第2の送風手段は互いに等しい送風能力を有した物
品清浄装置において、上記第1のチャンバーの一対の有
孔板は、上方の有孔板を通して上記第1のチャンバーへ
供給される空気量が下方の有孔板を通して排気される空
気量よりも少なくなるように開口率が設定され、上記第
2のチャンバーの一対の有孔板は、第2のチャンバー内
の気圧が第1のチャンバー内の気圧よりも高くなるよう
に開口率が設定されたことを特徴とする物品清浄装置。
1. A conveying means for conveying an article, first and second chambers formed by dividing an article conveying space into an upstream side and a downstream side in an article conveying direction, and the article in the first chamber. A cleaning means for removing dust on the surface, a pair of perforated plates provided with a plurality of holes and arranged so as to close the upper and lower sides of each chamber, and the above-mentioned first and second chambers. An article cleaning apparatus having first and second air blowing means for respectively blowing air to the first and second chambers through a perforated plate, wherein the first and second air blowing means have equal air blowing capacities. The pair of perforated plates of the first chamber have an aperture ratio such that the amount of air supplied to the first chamber through the upper perforated plate is less than the amount of air exhausted through the lower perforated plate. Is set and one of the second chambers The article cleaning apparatus is characterized in that the aperture ratio of the pair of perforated plates is set so that the atmospheric pressure in the second chamber becomes higher than the atmospheric pressure in the first chamber.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0822014A3 (en) * 1996-07-30 2000-02-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Disassembling method of electronic appliance and disassembling apparatus thereof
WO2005099332A1 (en) * 2004-04-09 2005-10-20 Kabushiki Kaisha Towada Engineering Removing device for cover tape
KR100566032B1 (en) * 1999-11-11 2006-03-30 휴글엘렉트로닉스가부시키가이샤 Dust cleaning apparatus
JP2009106843A (en) * 2007-10-30 2009-05-21 Kojima Press Co Ltd Charge removal/dedusting apparatus and charge removal/dedusting method
JP2009130270A (en) * 2007-11-27 2009-06-11 Nitto Seiki Kk Method and apparatus for cutting protective tape of semiconductor wafer
WO2011142233A1 (en) * 2010-05-11 2011-11-17 シャープ株式会社 Cleanroom
CN102272900A (en) * 2009-03-24 2011-12-07 技得源有限公司 Slit type supersonic nozzle and surface treatment device having the same
WO2013017971A1 (en) * 2011-08-01 2013-02-07 Roth & Rau Ag Cleaning module and cleaning method for substrates and/or substrate mounts
CN103143531A (en) * 2013-02-21 2013-06-12 江苏汇成光电有限公司 Remover for tiny dust on surface of flexible printed circuit board
CN105057276A (en) * 2015-07-22 2015-11-18 国网山东省电力公司济南供电公司 Cleaning device for substation secondary equipment
JP2017196575A (en) * 2016-04-28 2017-11-02 日立オートモティブシステムズ株式会社 Foreign matter removing device, and foreign matter removing system
CN110802955A (en) * 2019-12-09 2020-02-18 成都优迅奇科技有限公司 Method capable of effectively cleaning dust of printer
WO2020067642A1 (en) * 2018-09-28 2020-04-02 무진전자 주식회사 Device for removing chemical fume by using air curtain

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0822014A3 (en) * 1996-07-30 2000-02-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Disassembling method of electronic appliance and disassembling apparatus thereof
US6186848B1 (en) 1996-07-30 2001-02-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Disassembling method of electronic appliance and disassembling apparatus thereof
EP1393825A1 (en) * 1996-07-30 2004-03-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Disassembling method of electronic appliance and disassembling apparatus thereof
KR100566032B1 (en) * 1999-11-11 2006-03-30 휴글엘렉트로닉스가부시키가이샤 Dust cleaning apparatus
WO2005099332A1 (en) * 2004-04-09 2005-10-20 Kabushiki Kaisha Towada Engineering Removing device for cover tape
JP2007242640A (en) * 2004-04-09 2007-09-20 Towada Engineering:Kk Removing device for cover tape
JP4637155B2 (en) * 2007-10-30 2011-02-23 小島プレス工業株式会社 Static elimination and dust removal device and static elimination and dust removal method
JP2009106843A (en) * 2007-10-30 2009-05-21 Kojima Press Co Ltd Charge removal/dedusting apparatus and charge removal/dedusting method
JP2009130270A (en) * 2007-11-27 2009-06-11 Nitto Seiki Kk Method and apparatus for cutting protective tape of semiconductor wafer
CN102272900A (en) * 2009-03-24 2011-12-07 技得源有限公司 Slit type supersonic nozzle and surface treatment device having the same
JP2012516233A (en) * 2009-03-24 2012-07-19 ジーディー マシーンズ シーオー エルティーディー Slit-type supersonic nozzle and surface treatment apparatus equipped with the same
WO2011142233A1 (en) * 2010-05-11 2011-11-17 シャープ株式会社 Cleanroom
WO2013017971A1 (en) * 2011-08-01 2013-02-07 Roth & Rau Ag Cleaning module and cleaning method for substrates and/or substrate mounts
CN103143531A (en) * 2013-02-21 2013-06-12 江苏汇成光电有限公司 Remover for tiny dust on surface of flexible printed circuit board
CN105057276A (en) * 2015-07-22 2015-11-18 国网山东省电力公司济南供电公司 Cleaning device for substation secondary equipment
JP2017196575A (en) * 2016-04-28 2017-11-02 日立オートモティブシステムズ株式会社 Foreign matter removing device, and foreign matter removing system
WO2020067642A1 (en) * 2018-09-28 2020-04-02 무진전자 주식회사 Device for removing chemical fume by using air curtain
CN110802955A (en) * 2019-12-09 2020-02-18 成都优迅奇科技有限公司 Method capable of effectively cleaning dust of printer

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