JPH0524942A - 接着方法及び接着剤 - Google Patents

接着方法及び接着剤

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JPH0524942A
JPH0524942A JP20123691A JP20123691A JPH0524942A JP H0524942 A JPH0524942 A JP H0524942A JP 20123691 A JP20123691 A JP 20123691A JP 20123691 A JP20123691 A JP 20123691A JP H0524942 A JPH0524942 A JP H0524942A
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JP
Japan
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adhesive
bonding
ultrafine particles
melting point
heat
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JP20123691A
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Inventor
Yoichi Ogawa
容一 小川
Takeshi Tottori
猛志 鳥取
Satoshi Yamagata
聡 山縣
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Maxell Holdings Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】接合部材間に粒子長200Å以下の超微粒子を
介在させ、該超微粒子を加熱することによって溶融さ
せ、該溶融超微粒子により接合部材を接着することを特
徴とする接着方法。超微粒子を構成する材料のバルク時
融点が接着時に熱が加わる接着周辺部の耐熱温度以上で
あり、粒子長200Å以下の超微粒子を5wt%以上含有
する接着剤。 【効果】融点に限定されることなく、広い範囲から任意
の接着剤を選択し、これを任意の接合部材と組合わせて
使用することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は接着剤、接着方法および
該接着剤の応用に関する。更に詳細には、本発明はその
接着材料の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】2個以上の部材を接合する場合、一般的
に接着剤が用いられる。このような目的に使用される接
着剤としては、例えば、熱融解した金属、ガラス、高分
子材料などが一般的に多くの分野で用いられている。
【0003】しかし、この方法では接着剤として用いる
物質の融点が接合部材の融点より低い必要があり、接着
剤として用いられる物質が限られてしまう。一方、接着
剤の材質を固定した時には接合部材の材質が限定されて
しまう。
【0004】例えばコア材料としてアモルファス合金を
使ったMIGヘッドのギャップ接合の場合、450〜5
00℃以上の高温になると高透磁率膜の磁性が劣化する
ため、融点が450〜500℃以上の金属やガラスなど
の接着剤は使えない。また、高分子物質は熱膨張率、湿
度膨張率が大きく、ギャップ長が開いてしまうため、ギ
ャップ接合には使えない。
【0005】このため通常MIGヘッドのギャップ接合
には低融点ガラスが用いられている。しかしこの低融点
ガラスは脆く壊れやすいため、ヘッドの対摺動性を劣化
させる。耐摩耗性の良好な材料が使いたいが、このよう
な材料は融点が高いため使用できない。
【0006】また、IC実装時のTAB(Tape Automat
ed Bonding)に用いられる樹脂テープはボンディングが
比較的高温(400〜500℃)で行われるため、耐熱
性のあるテープ(ポリイミドフィルム、ガラスエポキ
シ、BTレジン)でなければ使えない。寸法安定性、価
格などの点で耐熱テープより優れているポリエステルフ
ィルムやPETフィルムなどは耐熱性の低さからその用
途も限定され、余り信頼性を必要としない機器にしか使
用できない。
【0007】このように接合部材の耐熱性より高い融点
をもった接着剤を使いたいというニーズがあるにもかか
わらず、現状では困難である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】前記のように従来の融
着型の接着剤には接着剤として用いる物質の融点が接合
部材の融点より低い必要があり、接着剤と接合部材の材
質が限定されるという問題があった。本発明の目的は、
上記従来技術の問題点を解消し、以て融点に限定されな
い広い範囲から接着剤と接合部材を組み合わせて使用す
ることのできる接着方法、該方法に使用する接着剤を提
供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明では、接合部材間に粒子長200Å以下の超
微粒子を介在させ、該超微粒子を加熱することによって
溶融させ、該溶融超微粒子により接合部材を接着するこ
とを特徴とする接着方法を提供する。この接着方法にお
いては、超微粒子を構成する材料のバルク時融点が接着
時に熱が加わる接着周辺部の耐熱温度以上であることが
好ましい。また、前記接着方法に使用する接着剤とし
て、粒子長200Å以下の超微粒子を5wt%以上含有す
る接着剤も本発明により提供される。
【0010】
【作用】本発明者らが長年にわたり広範な実験と研究を
続けた結果、接着剤として用いる材料を200Å以下の
微粒子状にし、これで接合部材を融着することにより接
合部材の融点より高いバルク時融点を有する接着材料の
使用が可能となることが発見された。本発明はこの知見
に基づき完成された。
【0011】この結果、接着材料としてタングステン、
タンタル、SiO2 などの高融点材料を用いても低温で
の接着が可能となり、融点に限定されない広い範囲から
接着剤と接合部材を任意に組合わせて使用することが可
能となった。
【0012】本明細書の全体を通じて使用される“粒子
長”という用語は、粒子の最も長い部分の長さのことを
意味しており、超微粒子の形状は、球形、針状、平板状
など、どのような形状をしていても構わない。粒子の最
も長い部分が200Å以下であればよい。粒子の最長部
分が200Å超の場合、粒子の溶融にバルク時融点とほ
ぼ同じ温度まで加熱する必要が生じるため本発明の所期
の目的が達成されない。
【0013】また、接着剤として用いる材料は粒子長が
200Å以下の超微粒子であればよく、金属、半金属、
セラミックス、高分子など、どのような材料でも用いら
れる。このような粒子長200Å以下の超微粒子の配合
量は5wt%以上でなければならない。5wt%未満では本
発明の所期の効果が得られない。超微粒子と共に、公知
の接着剤構成成分、例えば、エポキシ樹脂、フェノール
樹脂などの高分子接着剤、Au、Cu、B、Taなどの
金属、SiO2 、Al23 、B23 などのセラミッ
ク、銀ろう、またはガラスなどを配合することができ
る。
【0014】加熱接着時に必要なら加圧を行っても構わ
ない。一般的に加圧すると接着しやすくなるようであ
る。
【0015】本発明の接着方法および接着剤の用途は特
に限定されないが、磁気ヘッドのギャップ接合およびI
CのTAB方法で使用するのに特に適している。このよ
うなギャップ接合およびTAB方法の内容自体は当業者
に周知でありこれ以上特に説明する必要はないであろ
う。
【0016】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。 実施例1 常用のMIGヘッドのコア半体の間に粒子長50ÅのB
超微粒子を挟み両側からバネで押さえ付けながら、真空
中で300℃に加熱、融着し、ギャップ長0.2μmの
ビデオ用MIGヘッドを作製した。
【0017】実施例2 接着剤として粒子長50ÅのBの変わりに粒子長100
ÅのSiO2 超微粒子を用いた他は実施例1と同様にし
てギャップ長0.2μmのビデオ用MIGヘッドを作製
した。
【0018】実施例3 Auめっきを施したフィルムリードの上に粒子長50Å
のAu超微粒子粉を塗布し、この上にボンディング圧力
50g/リードでAuめっきした配線電極を押しつけ、
加熱温度80℃でフィルムキャリアのアウターリードと
PETフィルムの回路基板上の電極を接続した。
【0019】実施例4 チップの電極に形成された高さ30μmのAuのバンプ
の上に粒子長50ÅのAu超微粒子粉を塗布し、この上
にボンディング圧力40g/リードでAuの電極パッド
を押しつけ、加熱温度80℃でフィルムキャリア(PE
Tフィルム製)のインナーリードとチップの電極を接続
した。
【0020】比較例1 接着剤として粒子長50ÅのBの代わりに14mm×19
mm×0.2mmの板状の低融点ガラス(GL9)を用いた
他は実施例1と同様にしてギャップ長0.2μmのビデ
オ用MIGヘッドを作製した。
【0021】比較例2 接着剤として粒子長50ÅのBの代わりに14mm×19
mm×0.2mmの板状のSiO2 を用い、加熱温度を17
00℃にした他は実施例1と同様にしてギャップ長0.
2μmのビデオ用MIGヘッドを作製した。
【0022】比較例3 接着剤として粒子長50ÅのBの代わりに粒子長1mm
前後の粒状のBを用いた他は実施例1と同様にしてギャ
ップ長0.2μmのビデオ用MIGヘッドを作製した。
【0023】比較例4 接着剤として粒子長50ÅのBの代わりに14mm×19
mm×0.2mmの板状のSiO2 を用いた他は実施例1と
同様にしてギャップ長0.2μmのビデオ用MIGヘッ
ドを作製した。
【0024】比較例5 Au超微粒子を塗布ぜず、めっきしたAu薄膜自身を接
着剤として用いた他は実施例3と同様にしてフィルムキ
ャリアのアウターリードと回路基板の電極を接続した。
【0025】比較例6 接着剤としてAu薄膜を用い、加熱温度を420℃にし
た他は実施例3と同様にしてフィルムキャリアのアウタ
ーリードと回路基板の電極を接続した。
【0026】比較例7 Au超微粒子を塗布せず、バンプのAu自身を接着剤と
して用いた他は実施例4と同様にしてフィルムキャリア
のインナーリードとチップの電極を接続した。
【0027】比較例8 接着剤としてAu薄膜を用い、加熱温度を420℃にし
た他は実施例4と同様にしてフィルムキャリアのインナ
ーリードとチップの電極を接続した。
【0028】実施例1,2及び比較例1,2では接着剤
が溶融し、コア半体の接合ができた。しかし、比較例
3,4では接着剤のSiO2 が溶融せず、コア半体の接
合ができなかった。これらの結果から、30℃の加熱で
超微粒子のB、SiO2 は溶融するが、バルクのB、S
iOは溶融しないことが理解できる。
【0029】実施例1,2及び比較例1,2 で作製し
たヘッドを市販の8mmVTRに取付け、出力を調べ
た。また、実施例1,2及び比較例1,2で作製したヘ
ッドを市販の8mmVTRに取付け、MEテープを用い
てスチル再生を行い、出力が2dB劣化するまでの時間
を調べた。これらの測定結果を要約して表1に示す。対
照として市販ヘッドの測定結果も併せて示す。
【0030】
【表1】 表1 試 料 出力(dB) スチル寿命(時間) 実施例 1 1.2 8.0 実施例 2 0.6 5.3 比較例 1 −1.0 0.5 比較例 2 −12.5 4.2 市販ヘッド 0.0 1.2
【0031】前記の表1に示された結果から明らかなよ
うに、比較例2のヘッドは出力が極端に低いが、これは
高透磁率膜の磁気特性が耐熱温度を超える1700℃の
加熱により劣化したためと思われる。また、スチル寿命
に関して、比較例1のヘッドは著しく短いが、これはギ
ャップ接合剤に使用した低融点ガラスの耐摩耗性が劣る
ためと思われる。
【0032】実施例3,4ではPETフィルムの変形が
ほどんど無い状態でボンディングが行えた。比較例5,
7ではAuが溶融せず、ボンディングできなかった。比
較例6,8ではPETフィルムが溶融してしまい、ボン
ディングができなかった。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
融点に限定されることなく、広い範囲から任意の接着剤
を選択し、これを任意の接合部材と組合わせて使用する
ことが可能となる。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】接合部材間に粒子長200Å以下の超微粒
    子を介在させ、該超微粒子を加熱することによって溶融
    させ、該溶融超微粒子により接合部材を接着することを
    特徴とする接着方法。
  2. 【請求項2】超微粒子を構成する材料のバルク時融点が
    接着時に熱が加わる接着周辺部の耐熱温度以上であるこ
    とを特徴とする請求項1の接着方法。
  3. 【請求項3】粒子長200Å以下の超微粒子を5wt%以
    上含有することを特徴とする接着剤。
  4. 【請求項4】超微粒子を構成する材料のバルク時融点が
    接合部材の接着時に熱が加わる接着周辺部の耐熱温度以
    上であることを特徴とする請求項1の接着剤。
  5. 【請求項5】粒子長200Å以下の超微粒子を5wt%以
    上含有することを特徴とする磁気ヘッドギャップ用接合
    剤。
  6. 【請求項6】超微粒子を構成する材料のバルク時融点が
    接合部材の接着時に熱が加わる接着周辺部の耐熱温度以
    上であることを特徴とする請求項1の磁気ヘッドギャッ
    プ用接合剤。
  7. 【請求項7】ICのTAB方法において、接合部材間に
    粒子長200Å以下の超微粒子を介在させ、該超微粒子
    を加熱することによって溶融させ、該溶融超微粒子によ
    り接合部材を接着することを特徴とするTAB方法。
  8. 【請求項8】超微粒子を構成する材料のバルク時融点が
    接合部材の接着時に熱が加わる接着周辺部の耐熱温度よ
    り高いことを特徴とする請求項7のTAB方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004026526A1 (en) * 2002-09-18 2004-04-01 Ebara Corporation Bonding material and bonding method
JP2004107728A (ja) * 2002-09-18 2004-04-08 Ebara Corp 接合材料及び接合方法
JP2004130371A (ja) * 2002-10-11 2004-04-30 Ebara Corp 接合体
JP2004146695A (ja) * 2002-10-25 2004-05-20 Ebara Corp 金属化装置
JP2005197334A (ja) * 2004-01-05 2005-07-21 Seiko Epson Corp 部材の接合構造及び接合方法
US20110226841A1 (en) * 2008-11-27 2011-09-22 Jun Wei Room temperature direct metal-metal bonding

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Effective date: 19981008