JPH05247692A - 半導体ウエハめっき用治具 - Google Patents
半導体ウエハめっき用治具Info
- Publication number
- JPH05247692A JPH05247692A JP3063773A JP6377391A JPH05247692A JP H05247692 A JPH05247692 A JP H05247692A JP 3063773 A JP3063773 A JP 3063773A JP 6377391 A JP6377391 A JP 6377391A JP H05247692 A JPH05247692 A JP H05247692A
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- JP
- Japan
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- plating
- semiconductor wafer
- wafer
- jig
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体ウエハの端面及び裏面にめっき液が溶
解しないめっき用治具を提供する。 【構成】 めっき液中で半導体ウエハを電気めっきする
ためのめっき用治具において、半導体ウエハ1をめっき
液中に保持するための2つの保持部材3,4と、シール
部材2cとからなり、該シール部材2cが内部に空間を
有し、ウエハと2つの保持部材間にまたがって設けられ
て、2つの保持部材によってはさみ込まれるように構成
されており、具体的にはシール部材は断面型状がコ型又
はC型を有し、材質が軟質ゴムからなるものを用いる。
解しないめっき用治具を提供する。 【構成】 めっき液中で半導体ウエハを電気めっきする
ためのめっき用治具において、半導体ウエハ1をめっき
液中に保持するための2つの保持部材3,4と、シール
部材2cとからなり、該シール部材2cが内部に空間を
有し、ウエハと2つの保持部材間にまたがって設けられ
て、2つの保持部材によってはさみ込まれるように構成
されており、具体的にはシール部材は断面型状がコ型又
はC型を有し、材質が軟質ゴムからなるものを用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、めっき用治具に係り、
特に半導体ウエハをめっきするためのめっき用治具に関
する。
特に半導体ウエハをめっきするためのめっき用治具に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体ウエハのめっきは、図10
に示す浸漬式で行われていたが、本方式ではウエハの裏
面及び端面にめっきが析出しないようワックス又はレジ
スト等で裏面及び端面を被覆し、めっき後これらをはが
すという作業が必要であった。ワックス又はレジスト被
覆及び除去は工程的に面倒であるばかりでなく、半導体
製品そのものに傷をつける可能性もあり、好ましいもの
ではなかった。また、図12に記載のような従来のO−
リング等のシール方式ではウエハ1表面には、半導体製
品1aが端面ギリギリまで並べられているため、採用し
にくかった。そこで最近では、ワックス又はレジスト等
が不要な図11に示すカップ式なる方式が主流となって
いる。本方式は下向きに設置されたウエハ1表面が上昇
流で導かれためっき液と接触し、めっきが行われる。
に示す浸漬式で行われていたが、本方式ではウエハの裏
面及び端面にめっきが析出しないようワックス又はレジ
スト等で裏面及び端面を被覆し、めっき後これらをはが
すという作業が必要であった。ワックス又はレジスト被
覆及び除去は工程的に面倒であるばかりでなく、半導体
製品そのものに傷をつける可能性もあり、好ましいもの
ではなかった。また、図12に記載のような従来のO−
リング等のシール方式ではウエハ1表面には、半導体製
品1aが端面ギリギリまで並べられているため、採用し
にくかった。そこで最近では、ワックス又はレジスト等
が不要な図11に示すカップ式なる方式が主流となって
いる。本方式は下向きに設置されたウエハ1表面が上昇
流で導かれためっき液と接触し、めっきが行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記の方法では次のよ
うな問題点があった。 (1)ウエハが下向きのため、ウエハに付着した気泡が
抜けにくく、安定しためっき析出が得られにくい。 (2)裏面回り込みは防げるが、端面にはめっきがつい
てしまう。 (3)装置の設置面積が大きい。 (4)ウエハ表面の流速を一定にすることがむずかし
く、めっき膜厚が不揃いになりやすい。 そこで本発明は、前記の従来技術の欠点を解消するた
め、装置設置面積に有利な浸漬式を採用しながらも、前
述の通り難しいとあきらめていたウエハをシールできる
治具を提供することを目的とする。
うな問題点があった。 (1)ウエハが下向きのため、ウエハに付着した気泡が
抜けにくく、安定しためっき析出が得られにくい。 (2)裏面回り込みは防げるが、端面にはめっきがつい
てしまう。 (3)装置の設置面積が大きい。 (4)ウエハ表面の流速を一定にすることがむずかし
く、めっき膜厚が不揃いになりやすい。 そこで本発明は、前記の従来技術の欠点を解消するた
め、装置設置面積に有利な浸漬式を採用しながらも、前
述の通り難しいとあきらめていたウエハをシールできる
治具を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、めっき液中で半導体ウエハを電気めっ
きするためのめっき用治具において、半導体ウエハをめ
っき液中に保持するための2つの保持部材と、シール部
材とからなり、該シール部材が内部に空間を有し、ウエ
ハと2つの保持部材間にまたがって設けられて、2つの
保持部材によってはさみ込まれるように構成されている
ことを特徴とする半導体ウエハめっき用治具としたもの
である。上記のめっき用治具において、シール部材とし
ては、内部に空間を有する形状、例えば断面型状がコ型
(Wリップシールという)又はC型(C型シールとい
う)のものが好適に使用でき、また材質はシリコンやウ
レタン等の軟質ゴムを用いるのがよい。
に、本発明では、めっき液中で半導体ウエハを電気めっ
きするためのめっき用治具において、半導体ウエハをめ
っき液中に保持するための2つの保持部材と、シール部
材とからなり、該シール部材が内部に空間を有し、ウエ
ハと2つの保持部材間にまたがって設けられて、2つの
保持部材によってはさみ込まれるように構成されている
ことを特徴とする半導体ウエハめっき用治具としたもの
である。上記のめっき用治具において、シール部材とし
ては、内部に空間を有する形状、例えば断面型状がコ型
(Wリップシールという)又はC型(C型シールとい
う)のものが好適に使用でき、また材質はシリコンやウ
レタン等の軟質ゴムを用いるのがよい。
【0005】
【作用】本発明によれば、シール部材として内部に空間
を有するコ型又はC型のものを用いたため、狭い接触面
でも容易に高シール性が得られるため、ウエハ端面部で
シールでき製品部分が広くとれるため製品分留りを上げ
ることができる。
を有するコ型又はC型のものを用いたため、狭い接触面
でも容易に高シール性が得られるため、ウエハ端面部で
シールでき製品部分が広くとれるため製品分留りを上げ
ることができる。
【0006】
【実施例】以下、本発明を図面を用いて具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 図1は本発明のめっき用治具の一例を示す側断面図であ
る。図1において、1は半導体ウエハであり、端部がC
型シール2cによって覆われており、C型シール2cの
周囲に保持部材3と保持部材4が接触して構成されてい
る。このような構成において、半導体ウエハのめっき面
に外の裏面をシールするには、保持部材3と保持部材4
の間に押付けレバー5をはめ込んで、保持部材3と保持
部材4でC型シールを両側から軽くはさむことによる。
このようにすることにより、半導体ウエハの端部と裏面
は、C型シールによりめっき液からシールされる。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 図1は本発明のめっき用治具の一例を示す側断面図であ
る。図1において、1は半導体ウエハであり、端部がC
型シール2cによって覆われており、C型シール2cの
周囲に保持部材3と保持部材4が接触して構成されてい
る。このような構成において、半導体ウエハのめっき面
に外の裏面をシールするには、保持部材3と保持部材4
の間に押付けレバー5をはめ込んで、保持部材3と保持
部材4でC型シールを両側から軽くはさむことによる。
このようにすることにより、半導体ウエハの端部と裏面
は、C型シールによりめっき液からシールされる。
【0007】実施例2 図2は本発明のめっき用治具の他の例を示す側断面図で
ある。図2においては、図1と同様に、1は半導体ウエ
ハ、3、4は保持部材を表わすが、図2ではシール部材
がコ型のWリップシール2aからなり、また、押付けレ
バーの替りにクリンパ6とヒンジ7とを用いて、保持部
材3と保持部材4でW−リップシール2aをはさみ込ん
でいる。そして、半導体ウエハ1は治具4に開けられた
ウエハ位置決め用穴8に設置され、そのウエハの端面に
W−リップシール2aが設けられて保持部材3で上から
押さえられている。保持部材3には半導体ウエハ1のめ
っき面に相当する窓9が開けられており、ウエハとめっ
き液が接触できるようになっている。
ある。図2においては、図1と同様に、1は半導体ウエ
ハ、3、4は保持部材を表わすが、図2ではシール部材
がコ型のWリップシール2aからなり、また、押付けレ
バーの替りにクリンパ6とヒンジ7とを用いて、保持部
材3と保持部材4でW−リップシール2aをはさみ込ん
でいる。そして、半導体ウエハ1は治具4に開けられた
ウエハ位置決め用穴8に設置され、そのウエハの端面に
W−リップシール2aが設けられて保持部材3で上から
押さえられている。保持部材3には半導体ウエハ1のめ
っき面に相当する窓9が開けられており、ウエハとめっ
き液が接触できるようになっている。
【0008】図3に、図2のW−リップシールのシール
機構を説明する部分拡大図を示す。このように、W−リ
ップシール2aは半導体ウエハ1と保持部材3及び保持
部材4によってシールされ、半導体ウエハの端面と裏面
をめっき液から保護している。図4に、図2のめっき治
具の組立前の斜視図を示す。各符号は図2と同じであ
り、保持部材3の窓9の周囲にW−リップシール2aが
配されている。そして、保持部材4のウエハ位置決め用
穴8にウエハ1が設置され、治具3と保持部材4を合せ
て、クランパー6で止めることによって図2の状態とな
る。図5に図4の保持部材4の平面図を、図6に図5の
側面図を示し、また図7に図4の保持部材3の平面図
を、図8に図7の側面図を示す。保持部材4のウエハ位
置決め用穴8の大きさは、ウエハ寸法+0.5mm、深
さはウエハの厚み±100μが好ましい。
機構を説明する部分拡大図を示す。このように、W−リ
ップシール2aは半導体ウエハ1と保持部材3及び保持
部材4によってシールされ、半導体ウエハの端面と裏面
をめっき液から保護している。図4に、図2のめっき治
具の組立前の斜視図を示す。各符号は図2と同じであ
り、保持部材3の窓9の周囲にW−リップシール2aが
配されている。そして、保持部材4のウエハ位置決め用
穴8にウエハ1が設置され、治具3と保持部材4を合せ
て、クランパー6で止めることによって図2の状態とな
る。図5に図4の保持部材4の平面図を、図6に図5の
側面図を示し、また図7に図4の保持部材3の平面図
を、図8に図7の側面図を示す。保持部材4のウエハ位
置決め用穴8の大きさは、ウエハ寸法+0.5mm、深
さはウエハの厚み±100μが好ましい。
【0009】実施例3 図9は、本発明のめっき用治具のもう一つの例を示す組
立用分解説明図である。この例では、半導体ウエハ1の
周囲にC型シール2cが配されており、このウエハが保
持部材3に設置され、保持部材4ではさみ込まれて、押
し裏板5で止められる。10はウエハ表面に電流を通す
ための陰極針である。このように構成することによって
も保持部材3と4でC型シール2cがはさみ込まれてウ
エハの端面及び裏面をシールすることができる。
立用分解説明図である。この例では、半導体ウエハ1の
周囲にC型シール2cが配されており、このウエハが保
持部材3に設置され、保持部材4ではさみ込まれて、押
し裏板5で止められる。10はウエハ表面に電流を通す
ための陰極針である。このように構成することによって
も保持部材3と4でC型シール2cがはさみ込まれてウ
エハの端面及び裏面をシールすることができる。
【0010】
【発明の効果】本発明の軟質ゴム性のシール材を採用し
た治具によれば、次のような効果を奏する。 高シール性が、狭い接触面で容易に得られるため、
ウエハ端面部でシールが可能となり、製品分留りが上げ
られる。 シール面の加工精度(粗さ)に余り影響されない。 パッキン巾が広くできるため、機器への取付け(固
定)が容易となる。(粘着テープや嵌込み式等) 母部材の剛性が低くできるため、軽量化が容易とな
る。
た治具によれば、次のような効果を奏する。 高シール性が、狭い接触面で容易に得られるため、
ウエハ端面部でシールが可能となり、製品分留りが上げ
られる。 シール面の加工精度(粗さ)に余り影響されない。 パッキン巾が広くできるため、機器への取付け(固
定)が容易となる。(粘着テープや嵌込み式等) 母部材の剛性が低くできるため、軽量化が容易とな
る。
【図1】本発明のめっき用治具の一例を示す側断面図で
ある。
ある。
【図2】本発明のめっき用治具の他の例を示す側断面図
である。
である。
【図3】シール機構を説明する部分拡大図である。
【図4】図2のめっき用治具の組立前の斜視図である。
【図5】保持部材4の平面図である。
【図6】保持部材4の側面図である。
【図7】保持部材3の平面図である。
【図8】保持部材3の側面図である。
【図9】本発明のめっき用治具のもう一つの例を示す組
立用分解説明図である。
立用分解説明図である。
【図10】従来の浸漬式めっき装置の概略図である。
【図11】従来のカップ式めっき装置の概略図である。
【図12】O−リングによるシール機構を示す部分拡大
図である。
図である。
1:半導体ウエハ、2:シールパッキン、2a:W−リ
ップシール、2c:C型シール、3:保持部材、4:保
持部材、5:押付けレバー、6:クランパー、7:ヒン
ジ、8:ウエハ位置決め用穴、9:窓、10:陰極針、
11:陰極、12:陽極、13:めっき槽、14:パッ
キン又はクッション
ップシール、2c:C型シール、3:保持部材、4:保
持部材、5:押付けレバー、6:クランパー、7:ヒン
ジ、8:ウエハ位置決め用穴、9:窓、10:陰極針、
11:陰極、12:陽極、13:めっき槽、14:パッ
キン又はクッション
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年2月24日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図5】
【図3】
【図4】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
Claims (2)
- 【請求項1】 めっき液中で半導体ウエハを電気めっき
するためのめっき用治具において、半導体ウエハをめっ
き液中に保持するための2つの保持部材と、シール部材
とからなり、該シール部材が内部に空間を有し、ウエハ
と2つの保持部材間にまたがって設けられて、2つの保
持部材によってはさみ込まれるように構成されているこ
とを特徴とする半導体ウエハめっき用治具。 - 【請求項2】 前記シール部材は、断面型状がコ型また
はC型を有し、材質が軟質ゴムからなることを特徴とす
る請求項1記載の半導体ウエハめっき用治具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3063773A JPH0784677B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 半導体ウエハめっき用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3063773A JPH0784677B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 半導体ウエハめっき用治具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05247692A true JPH05247692A (ja) | 1993-09-24 |
JPH0784677B2 JPH0784677B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=13239027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3063773A Expired - Lifetime JPH0784677B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 半導体ウエハめっき用治具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0784677B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7833393B2 (en) | 1999-05-18 | 2010-11-16 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
KR20200034964A (ko) | 2017-07-25 | 2020-04-01 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그(jig) 및 전기 도금 장치 |
JP2020132946A (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダおよび当該基板ホルダを備えるめっき装置 |
KR20210114956A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-24 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
KR20210114957A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-24 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
KR20210118084A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-29 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6298101A (ja) * | 1986-06-13 | 1987-05-07 | 三浦工業株式会社 | 二連水位を用いたボイラ缶体過熱防止装置 |
-
1991
- 1991-03-06 JP JP3063773A patent/JPH0784677B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6298101A (ja) * | 1986-06-13 | 1987-05-07 | 三浦工業株式会社 | 二連水位を用いたボイラ缶体過熱防止装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7833393B2 (en) | 1999-05-18 | 2010-11-16 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
US8075756B2 (en) | 1999-05-18 | 2011-12-13 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
US8961755B2 (en) | 1999-05-18 | 2015-02-24 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
US9714476B2 (en) | 1999-05-18 | 2017-07-25 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
KR20200034964A (ko) | 2017-07-25 | 2020-04-01 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그(jig) 및 전기 도금 장치 |
KR20210114956A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-24 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
KR20210114957A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-24 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
KR20210118084A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-29 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
JP2020132946A (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダおよび当該基板ホルダを備えるめっき装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0784677B2 (ja) | 1995-09-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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