JPH05247056A - インドロカルバゾール誘導体 - Google Patents
インドロカルバゾール誘導体Info
- Publication number
- JPH05247056A JPH05247056A JP4045782A JP4578292A JPH05247056A JP H05247056 A JPH05247056 A JP H05247056A JP 4045782 A JP4045782 A JP 4045782A JP 4578292 A JP4578292 A JP 4578292A JP H05247056 A JPH05247056 A JP H05247056A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- lower alkyl
- formula
- indolocarbazole derivative
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた抗菌活性を有するインドロカルバゾー
ル誘導体を提供する。 【構成】 式(I) 〔式中、R1およびR2は同一または異なって、水素また
は低級アルキルを表し、XはCH2OR3(式中、R3は
水素または低級アルキルである)を表し、YはCH2O
R4(式中、R4は水素または低級アルキルである)を表
すか、またはXとYが一体となって、−X−Y−として
−CO−O−CH2−または−CH2−O−CO−を表
す〕で表されるインドロカルバゾール誘導体。
ル誘導体を提供する。 【構成】 式(I) 〔式中、R1およびR2は同一または異なって、水素また
は低級アルキルを表し、XはCH2OR3(式中、R3は
水素または低級アルキルである)を表し、YはCH2O
R4(式中、R4は水素または低級アルキルである)を表
すか、またはXとYが一体となって、−X−Y−として
−CO−O−CH2−または−CH2−O−CO−を表
す〕で表されるインドロカルバゾール誘導体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は抗菌活性を有するインド
ロカルバゾール誘導体に関する。
ロカルバゾール誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術】インドロカルバゾール骨格を有する化合
物として、K−252
物として、K−252
【0003】
【化2】
【0004】(特開昭60−41489)が抗ヒスタミ
ン遊離作用を有すること、およびK−252誘導体(特
開昭62−155284、同62−155285、同6
3−295588、同63−295589、特開平1−
168689、WO88/07045)が抗ヒスタミン
遊離作用、血小板凝集抑制作用、抗炎症作用あるいは抗
腫瘍作用を有することが知られている。
ン遊離作用を有すること、およびK−252誘導体(特
開昭62−155284、同62−155285、同6
3−295588、同63−295589、特開平1−
168689、WO88/07045)が抗ヒスタミン
遊離作用、血小板凝集抑制作用、抗炎症作用あるいは抗
腫瘍作用を有することが知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た抗菌活性を有するインドロカルバゾール誘導体を提供
することにある。
た抗菌活性を有するインドロカルバゾール誘導体を提供
することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は式(I)
【0007】
【化3】
【0008】〔式中、R1およびR2は同一または異なっ
て、水素または低級アルキルを表し、XはCH2OR
3(式中、R3は水素または低級アルキルである)を表
し、YはCH2OR4(式中、R4は水素または低級アル
キルである)を表すか、またはXとYが一体となって、
−X−Y−として−CO−O−CH2−または−CH2−
O−CO−を表す〕で表されるインドロカルバゾール誘
導体〔以下、化合物(I)という〕に関する。
て、水素または低級アルキルを表し、XはCH2OR
3(式中、R3は水素または低級アルキルである)を表
し、YはCH2OR4(式中、R4は水素または低級アル
キルである)を表すか、またはXとYが一体となって、
−X−Y−として−CO−O−CH2−または−CH2−
O−CO−を表す〕で表されるインドロカルバゾール誘
導体〔以下、化合物(I)という〕に関する。
【0009】式(I)の各基の定義において、低級アル
キルとは炭素数1−4の直鎖もしくは分岐のアルキル、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ルおよびtert−ブチル等を包含する。つぎに化合物
(I)の製造方法について説明する。しかし、化合物
(I)の製造方法はそれらに限定されるものではない。
化合物(I)は、下式(II)で表される化合物〔以下、
化合物(II)という〕より種々の合成手段により製造さ
れる。なお化合物(II)は特開昭63−295589に
開示されている。
キルとは炭素数1−4の直鎖もしくは分岐のアルキル、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ルおよびtert−ブチル等を包含する。つぎに化合物
(I)の製造方法について説明する。しかし、化合物
(I)の製造方法はそれらに限定されるものではない。
化合物(I)は、下式(II)で表される化合物〔以下、
化合物(II)という〕より種々の合成手段により製造さ
れる。なお化合物(II)は特開昭63−295589に
開示されている。
【0010】
【化4】
【0011】なお、以下に示した製造方法において、定
義した基が実施方法の条件下変化するかまたは方法を実
施するのに不適切な場合、有機合成化学で常用される方
法、例えば官能基の保護、脱保護などの手段[例えば、
プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シ
ンセシス、グリーン著、ジョン・ウィリー・アンド・サ
ンズ・インコーポレイテッド(1981年)参照]に付
すことにより容易に実施することができる。
義した基が実施方法の条件下変化するかまたは方法を実
施するのに不適切な場合、有機合成化学で常用される方
法、例えば官能基の保護、脱保護などの手段[例えば、
プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シ
ンセシス、グリーン著、ジョン・ウィリー・アンド・サ
ンズ・インコーポレイテッド(1981年)参照]に付
すことにより容易に実施することができる。
【0012】方法1: XとYが一体となって−CO−
O−CH2−または−CH2−O−CO−である化合物
(I−1)の合成 1−1:R1およびR2が水素の化合物(I−1−1)
O−CH2−または−CH2−O−CO−である化合物
(I−1)の合成 1−1:R1およびR2が水素の化合物(I−1−1)
【0013】
【化5】
【0014】(式中、X'とY'は一体となって−CO−
O−CH2−または−CH2−O−CO−を表す) 化合物(II)をジオキサンおよび水の混合溶媒中、適当
な還元剤、例えば水素化ホウ素ナトリウムと反応させる
ことにより化合物(I−1−1)を得ることができる。
ジオキサンおよび水の混合溶媒の比率は1:2から1:
10であり、還元剤は化合物(II)に対し5−10当量
用い、反応は通常加熱還流下1−3時間行う。
O−CH2−または−CH2−O−CO−を表す) 化合物(II)をジオキサンおよび水の混合溶媒中、適当
な還元剤、例えば水素化ホウ素ナトリウムと反応させる
ことにより化合物(I−1−1)を得ることができる。
ジオキサンおよび水の混合溶媒の比率は1:2から1:
10であり、還元剤は化合物(II)に対し5−10当量
用い、反応は通常加熱還流下1−3時間行う。
【0015】1−2:R1および/またはR2が低級アル
キルの化合物(I−1−2)
キルの化合物(I−1−2)
【0016】
【化6】
【0017】(式中、X'およびY'は前記と同義であ
り、R1aは低級アルキルを表し、Halはハロゲン原子を
表す) 化合物(I−1−1)を反応に不活性な溶媒、例えばジ
メチルホルムアミド(DMF)中、適当な塩基例えば水
素化ナトリウム2−5当量の存在下、氷冷下でアルキル
ハライド2−10当量と反応させることにより化合物
(I−1−2)を得ることができる。反応は通常1−1
0時間行う。なお、上記式中におけるハロゲン原子とは
塩素、臭素あるいはヨウ素を包含する。
り、R1aは低級アルキルを表し、Halはハロゲン原子を
表す) 化合物(I−1−1)を反応に不活性な溶媒、例えばジ
メチルホルムアミド(DMF)中、適当な塩基例えば水
素化ナトリウム2−5当量の存在下、氷冷下でアルキル
ハライド2−10当量と反応させることにより化合物
(I−1−2)を得ることができる。反応は通常1−1
0時間行う。なお、上記式中におけるハロゲン原子とは
塩素、臭素あるいはヨウ素を包含する。
【0018】方法2:XがCH2OR3であり、YがCH
2OR4である化合物(I−2)の合成 2−1:R3およびR4が水素の化合物(I−2−1)
2OR4である化合物(I−2)の合成 2−1:R3およびR4が水素の化合物(I−2−1)
【0019】
【化7】
【0020】(式中、R1およびR2は前記と同義であ
る) 化合物(I−1−1)または(I−1−2)を反応に不
活性な溶媒、例えばテトラヒドロフラン(THF)中、
適当な還元剤例えば水素化アルミニウムリチウムと反応
させることにより化合物(I−2−1)を得ることがで
きる。還元剤は化合物(I−1−1)または(I−1−
2)に対し5−10当量用い、反応は通常1−5時間行
う。
る) 化合物(I−1−1)または(I−1−2)を反応に不
活性な溶媒、例えばテトラヒドロフラン(THF)中、
適当な還元剤例えば水素化アルミニウムリチウムと反応
させることにより化合物(I−2−1)を得ることがで
きる。還元剤は化合物(I−1−1)または(I−1−
2)に対し5−10当量用い、反応は通常1−5時間行
う。
【0021】2−2:R3および/またはR4が低級アル
キルの化合物(I−2−2)
キルの化合物(I−2−2)
【0022】
【化8】
【0023】(式中、R1、R2およびHalは前記と同義
であり、R3aは低級アルキルを表す) 化合物(I−2−1)とアルキルハライドを方法1−2
に準じて反応させることにより化合物(I−2−2)を
得ることができる。上記各工程終了後の生成物の単離、
精製は通常の有機合成で用いられる方法、例えば抽出、
結晶化、再結晶、各種クロマトグラフィー等を適宜組み
合わせ行うことができる。
であり、R3aは低級アルキルを表す) 化合物(I−2−1)とアルキルハライドを方法1−2
に準じて反応させることにより化合物(I−2−2)を
得ることができる。上記各工程終了後の生成物の単離、
精製は通常の有機合成で用いられる方法、例えば抽出、
結晶化、再結晶、各種クロマトグラフィー等を適宜組み
合わせ行うことができる。
【0024】上記製法によって得られる化合物(I)の
具体例を第1表に示す。
具体例を第1表に示す。
【0025】
【表1】
【0026】つぎに、化合物(I)の抗菌活性を試験例
により説明する。 試験例 バクト・トリプトン(ディフコ社製)3g/l、肉エキ
ス3g/l、酵母エキス1g/l、グルコース1g/
l、寒天16g/lの組成からなる培地(pH7)を用い
て、寒天希釈法によりバチルス・ズブチルス(Bacillus
subtilis)に対する最小生育阻止濃度(MIC)を測
定した。その結果、化合物2のバチルス・ズブチルスに
対するMICは8μg/mlであった。
により説明する。 試験例 バクト・トリプトン(ディフコ社製)3g/l、肉エキ
ス3g/l、酵母エキス1g/l、グルコース1g/
l、寒天16g/lの組成からなる培地(pH7)を用い
て、寒天希釈法によりバチルス・ズブチルス(Bacillus
subtilis)に対する最小生育阻止濃度(MIC)を測
定した。その結果、化合物2のバチルス・ズブチルスに
対するMICは8μg/mlであった。
【0027】
実施例1 化合物(II) 481mg(1mmol)をジオキサン 20ml
および水 4mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム 38
0mg(10mmol)を加え、1時間加熱還流した。反応溶
液に3N塩酸 5mlを加え、ついでTHFを加えて有機
層を分取し、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/メ
タノール/28%アンモニア水 100/5/5)にて精
製し、化合物1および2の混合物 403mg(約1:1,
収率91%)を得た。その一部を分取用薄層クロマトグ
ラフィー(メタノール/クロロホルム 5/95)で分
離し、化合物1を黄色プリズム晶として、化合物2を無
色プリズム晶として得た。
および水 4mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム 38
0mg(10mmol)を加え、1時間加熱還流した。反応溶
液に3N塩酸 5mlを加え、ついでTHFを加えて有機
層を分取し、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/メ
タノール/28%アンモニア水 100/5/5)にて精
製し、化合物1および2の混合物 403mg(約1:1,
収率91%)を得た。その一部を分取用薄層クロマトグ
ラフィー(メタノール/クロロホルム 5/95)で分
離し、化合物1を黄色プリズム晶として、化合物2を無
色プリズム晶として得た。
【0028】化合物1: m.p.>300℃1 HNMR(DMSO-d6)δ;1.99(dd, 1H, J=5.14Hz), 2.16(s,
3H), 3.16-3.23(m, 1H),3.75-3.85(m, 2H), 5.15(br.s,
1H), 5.42(s, 1H), 6.03(s, 2H), 7.02(dd, 1H, J=5,7
Hz), 7.29-7.58(m, 4H), 7.90(d, 1H, J=8Hz), 7.97(d,
1H, J=8Hz), 8.05(d, 1H, J=8Hz), 9.17(d, 1H, J=8H
z) EIMS(m/z);440(M+) 化合物2: m.p.>300℃1 HNMR(DMSO-d6)δ;1.96(dd, 1H, J=5.14Hz), 2.17(s,
3H), 3.19(dd, 1H, J=8.14Hz), 3.75-3.90(m, 2H), 5.1
7(t, 1H, J=5Hz), 5.46(s, 1H), 6.02(d, 1H, J=16Hz),
6.07(d, 1H, J=16Hz), 7.03(dd, 1H, J=5,7Hz), 7.31-
7.55(m, 4H), 7.86(d, 1H, J=8Hz), 8.02(d, 2H, J=8H
z), 8.96(d, 1H, J=8Hz), EIMS(m/z);440(M+)
3H), 3.16-3.23(m, 1H),3.75-3.85(m, 2H), 5.15(br.s,
1H), 5.42(s, 1H), 6.03(s, 2H), 7.02(dd, 1H, J=5,7
Hz), 7.29-7.58(m, 4H), 7.90(d, 1H, J=8Hz), 7.97(d,
1H, J=8Hz), 8.05(d, 1H, J=8Hz), 9.17(d, 1H, J=8H
z) EIMS(m/z);440(M+) 化合物2: m.p.>300℃1 HNMR(DMSO-d6)δ;1.96(dd, 1H, J=5.14Hz), 2.17(s,
3H), 3.19(dd, 1H, J=8.14Hz), 3.75-3.90(m, 2H), 5.1
7(t, 1H, J=5Hz), 5.46(s, 1H), 6.02(d, 1H, J=16Hz),
6.07(d, 1H, J=16Hz), 7.03(dd, 1H, J=5,7Hz), 7.31-
7.55(m, 4H), 7.86(d, 1H, J=8Hz), 8.02(d, 2H, J=8H
z), 8.96(d, 1H, J=8Hz), EIMS(m/z);440(M+)
【0029】実施例2 化合物1および2の混合物 132mg(0.3mmol)をT
HF 5mlに溶解し、水素化アルミニウムリチウム 57
mg(1.5mmol)を加え室温で1時間攪拌した。反応溶
液に28%アンモニア水を加えた後THFで抽出した。飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(クロロホルム/メタノール/28%アンモニア水 9
5/5/0.5)にて精製し化合物3を65mg(収率4
9%)の褐色粉末として得た。 m.p.>300℃1 HNMR(DMSO-d6)δ;1.84-2.12(m, 1H), 2.13(s, 3H),
3.03-3.28(m, 1H), 3.72-3.96(m, 2H), 4.90-5.24(m, 4
H), 5.24-5.48(m, 4H), 6.95(m, 1H), 7.16-7.60(m, 4
H), 7.79(d, 1H, J=8Hz), 7.96(d, 1H, J=8Hz), 8.30-
8.56(m, 2H) EIMS(e/z);444(M+)
HF 5mlに溶解し、水素化アルミニウムリチウム 57
mg(1.5mmol)を加え室温で1時間攪拌した。反応溶
液に28%アンモニア水を加えた後THFで抽出した。飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(クロロホルム/メタノール/28%アンモニア水 9
5/5/0.5)にて精製し化合物3を65mg(収率4
9%)の褐色粉末として得た。 m.p.>300℃1 HNMR(DMSO-d6)δ;1.84-2.12(m, 1H), 2.13(s, 3H),
3.03-3.28(m, 1H), 3.72-3.96(m, 2H), 4.90-5.24(m, 4
H), 5.24-5.48(m, 4H), 6.95(m, 1H), 7.16-7.60(m, 4
H), 7.79(d, 1H, J=8Hz), 7.96(d, 1H, J=8Hz), 8.30-
8.56(m, 2H) EIMS(e/z);444(M+)
【0030】
【発明の効果】本発明により、抗菌活性を有するインド
ロカルバゾール誘導体を提供することができる。
ロカルバゾール誘導体を提供することができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 307:00)
Claims (1)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 〔式中、R1およびR2は同一または異なって、水素また
は低級アルキルを表し、XはCH2OR3(式中、R3は
水素または低級アルキルである)を表し、YはCH2O
R4(式中、R4は水素または低級アルキルである)を表
すか、またはXとYが一体となって、−X−Y−として
−CO−O−CH2−または−CH2−O−CO−を表
す〕で表されるインドロカルバゾール誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4045782A JPH05247056A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | インドロカルバゾール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4045782A JPH05247056A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | インドロカルバゾール誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05247056A true JPH05247056A (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=12728859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4045782A Withdrawn JPH05247056A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | インドロカルバゾール誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05247056A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5599808A (en) * | 1994-02-18 | 1997-02-04 | Cephalon, Inc. | Aqueous indolocarbazole solutions |
EP0719268B1 (en) * | 1993-09-16 | 2001-08-01 | Cephalon, Inc. | K-252a DERIVATIVES WHICH ENHANCE NEUROTROPHIN-INDUCED ACTIVITY |
-
1992
- 1992-03-03 JP JP4045782A patent/JPH05247056A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0719268B1 (en) * | 1993-09-16 | 2001-08-01 | Cephalon, Inc. | K-252a DERIVATIVES WHICH ENHANCE NEUROTROPHIN-INDUCED ACTIVITY |
US5599808A (en) * | 1994-02-18 | 1997-02-04 | Cephalon, Inc. | Aqueous indolocarbazole solutions |
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