JPH05245470A - 水和電子の生成方法 - Google Patents
水和電子の生成方法Info
- Publication number
- JPH05245470A JPH05245470A JP4049986A JP4998692A JPH05245470A JP H05245470 A JPH05245470 A JP H05245470A JP 4049986 A JP4049986 A JP 4049986A JP 4998692 A JP4998692 A JP 4998692A JP H05245470 A JPH05245470 A JP H05245470A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/36—Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis
Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
〔構成〕水に超音波あるいは音波を照射することを特徴
とする水和電子の生成方法。例えば、超音波洗浄器の浴
槽に水を入れ、槽の中央に脱気した反応用蒸留水を入れ
たガラス製円筒状サンプル管を固定して、室温下で超音
波を照射して強い共振条件を生ずるように槽の水面高さ
を調節すると、水和電子が定常的に生成する。 〔効果〕特別な装置を必要とせずに、水和電子を簡易に
生成することができる。高濃度の水和電子を定常的に生
成させることができるので、水和電子を有効に利用する
ことができ有用である。
とする水和電子の生成方法。例えば、超音波洗浄器の浴
槽に水を入れ、槽の中央に脱気した反応用蒸留水を入れ
たガラス製円筒状サンプル管を固定して、室温下で超音
波を照射して強い共振条件を生ずるように槽の水面高さ
を調節すると、水和電子が定常的に生成する。 〔効果〕特別な装置を必要とせずに、水和電子を簡易に
生成することができる。高濃度の水和電子を定常的に生
成させることができるので、水和電子を有効に利用する
ことができ有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水和電子の新規生成方
法に関する。
法に関する。
【従来の技術】水和電子は、水中に高エネルギー放射線
が入射した際、水分子のイオン化により放出された電子
の一部が水分子に囲まれ、正イオンとの再結合が妨げら
れて安定化された状態の電子である。水和電子は還元力
が強いため種々の還元反応に利用でき、その利用分野は
広範囲にわたることが知られている。例えば、水和電子
はプロトンを還元して水素ガスを発生できるので、水素
を生成する方法に用いることができる。また、水和電子
の生成に伴って副次的に生成されるヒドロキシラジカル
が過酸化水素を生成するので、過酸化水素の生成にも利
用できる。従来、水和電子を生成する代表的な方法とし
ては、パルス放射線照射や紫外光の２光量子過程を利用
する方法があったが、水和電子の寿命はピコ秒〜マイク
ロ秒程度であり、生成した水和電子が直ちに消滅してし
まうので、水和電子を有効に利用することができなかっ
た。また、これらの方法では放射線照射装置やレーザー
発振装置を用いなければならないので、大変繁雑であっ
た。金属アマルガムを用いた方法や電気化学的方法によ
っても水和電子が生成するとされているが、該方法によ
って生成された水和電子の存在は、N2Ｏなどの反応（N2
ガスが発生する）により推定されているにすぎず、直接
的な証拠はない。
が入射した際、水分子のイオン化により放出された電子
の一部が水分子に囲まれ、正イオンとの再結合が妨げら
れて安定化された状態の電子である。水和電子は還元力
が強いため種々の還元反応に利用でき、その利用分野は
広範囲にわたることが知られている。例えば、水和電子
はプロトンを還元して水素ガスを発生できるので、水素
を生成する方法に用いることができる。また、水和電子
の生成に伴って副次的に生成されるヒドロキシラジカル
が過酸化水素を生成するので、過酸化水素の生成にも利
用できる。従来、水和電子を生成する代表的な方法とし
ては、パルス放射線照射や紫外光の２光量子過程を利用
する方法があったが、水和電子の寿命はピコ秒〜マイク
ロ秒程度であり、生成した水和電子が直ちに消滅してし
まうので、水和電子を有効に利用することができなかっ
た。また、これらの方法では放射線照射装置やレーザー
発振装置を用いなければならないので、大変繁雑であっ
た。金属アマルガムを用いた方法や電気化学的方法によ
っても水和電子が生成するとされているが、該方法によ
って生成された水和電子の存在は、N2Ｏなどの反応（N2
ガスが発生する）により推定されているにすぎず、直接
的な証拠はない。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明は、
簡便な装置を用いて定常的に高濃度の水和電子を生成す
る方法を提供することを目的とする。
簡便な装置を用いて定常的に高濃度の水和電子を生成す
る方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決すべく鋭意検討した結果、水に超音波あるいは音波を
照射することにより水和電子が生成されることを見いだ
し本発明を完成した。すなわち本発明は、水に超音波あ
るいは音波を照射することを特徴とする水和電子の生成
方法を提供するものである。
決すべく鋭意検討した結果、水に超音波あるいは音波を
照射することにより水和電子が生成されることを見いだ
し本発明を完成した。すなわち本発明は、水に超音波あ
るいは音波を照射することを特徴とする水和電子の生成
方法を提供するものである。
【０００３】一般に、超音波は周波数が１５Ｋ〜１６Ｋ
ヘルツ以上の不可聴音波をいい、音波はそれ以下の周波
数のものをいうが、本発明の方法には、数ヘルツから数
ギガヘルツの範囲の周波数を有する超音波または音波を
使用すればよい。さらに具体的には、超音波の周波数
は、例えば１６Ｋ〜１００Ｋヘルツ、好ましくは２０Ｋ
〜５０Ｋヘルツ程度であり、音波の周波数は、例えば数
ヘルツ〜１６Ｋヘルツ程度である。超音波あるいは音波
の発生装置は、十分な出力で安定に超音波あるいは音波
を発生することができる装置ならば、いかなるものを使
用してもよい。超音波発生の方法としては、一般にトラ
ンスデューサーに高周波電圧を加えて発生させる方法が
利用されるが、公知のいかなる方法を使用してもよい。
例えばトランスデューサーとしては、圧電形振動子とし
て水晶、電歪形振動子としてチタン酸バリウムのような
セラミックス、また磁歪形振動子としてフェライトなど
を使用すればよい。超音波発生装置としては、超音波洗
浄器や、超音波ホモジナイザー、超音波厚み計、超音波
検査器等の公知のいかなる装置を使用してもよい。音波
の発生装置としては、例えばスピーカーや圧電型振動子
等を使用することができる。
ヘルツ以上の不可聴音波をいい、音波はそれ以下の周波
数のものをいうが、本発明の方法には、数ヘルツから数
ギガヘルツの範囲の周波数を有する超音波または音波を
使用すればよい。さらに具体的には、超音波の周波数
は、例えば１６Ｋ〜１００Ｋヘルツ、好ましくは２０Ｋ
〜５０Ｋヘルツ程度であり、音波の周波数は、例えば数
ヘルツ〜１６Ｋヘルツ程度である。超音波あるいは音波
の発生装置は、十分な出力で安定に超音波あるいは音波
を発生することができる装置ならば、いかなるものを使
用してもよい。超音波発生の方法としては、一般にトラ
ンスデューサーに高周波電圧を加えて発生させる方法が
利用されるが、公知のいかなる方法を使用してもよい。
例えばトランスデューサーとしては、圧電形振動子とし
て水晶、電歪形振動子としてチタン酸バリウムのような
セラミックス、また磁歪形振動子としてフェライトなど
を使用すればよい。超音波発生装置としては、超音波洗
浄器や、超音波ホモジナイザー、超音波厚み計、超音波
検査器等の公知のいかなる装置を使用してもよい。音波
の発生装置としては、例えばスピーカーや圧電型振動子
等を使用することができる。
【０００４】超音波や音波の発生部分は水中や水槽下
部、あるいは水面上にあってもよい。水面上で超音波や
音波を発生させる場合には、超音波や音波が水中に効率
よく入射するように超音波や音波の発生部分を配置すれ
ばよい。浴型の超音波又は音波発生器を用いる場合に
は、浴槽に充填した水中に水和電子を発生させてもよい
が、水を充填したセルを浴槽中の水に浸漬又は接触させ
るか、あるいはセルを水面上に配置して、セル中に充填
した水中に水和電子を生成させてもよい。セルの材質
は、音波や超音波を容易に透過する材質ならばいかなる
ものでもよいが、例えばガラスセルを使用してもよい。
この場合には、超音波や音波を発生させるにあたり、発
振周波数に応じて浴槽内の水面の高さなどを調節し、共
振条件を満たした定常波の状態の音波又は超音波がセル
に照射されるようにすることが好ましい。
部、あるいは水面上にあってもよい。水面上で超音波や
音波を発生させる場合には、超音波や音波が水中に効率
よく入射するように超音波や音波の発生部分を配置すれ
ばよい。浴型の超音波又は音波発生器を用いる場合に
は、浴槽に充填した水中に水和電子を発生させてもよい
が、水を充填したセルを浴槽中の水に浸漬又は接触させ
るか、あるいはセルを水面上に配置して、セル中に充填
した水中に水和電子を生成させてもよい。セルの材質
は、音波や超音波を容易に透過する材質ならばいかなる
ものでもよいが、例えばガラスセルを使用してもよい。
この場合には、超音波や音波を発生させるにあたり、発
振周波数に応じて浴槽内の水面の高さなどを調節し、共
振条件を満たした定常波の状態の音波又は超音波がセル
に照射されるようにすることが好ましい。
【０００５】超音波を使用する場合には、十分に出力の
高い超音波を例えば０〜８０℃程度の水中に照射すれば
よい。この場合、水和電子を発生させるべき水中にキャ
ビテーションが起こるような条件で超音波を照射しても
よい。例えば、上記の様に水を充填したセル中で水和電
子を生成させる場合には、セルに充填した水中にキャビ
テーションが起こるようにすればよい。音波を使用する
場合には、十分な出力の音波を例えば０〜８０℃程度の
水中に照射すればよい。水和電子を発生させるべき水
は、蒸留水、イオン交換水、通常の水道水等のいずれで
もよく、例えば２回蒸留水や注射用蒸留水を使用しても
よい。これらの水は、音波又は超音波の照射前に、例え
ばアルゴンガスや窒素ガスを導入して脱気しておいても
よい。また、音波や超音波の照射をアルゴンガスや窒素
ガスの雰囲気下で行ってもよい。さらに、水和電子を生
成させるべき水に対して、例えば塩化カリウム、塩化ナ
トリウム等の電解質を添加してもよい。水中に生成した
水和電子は、可視吸収スペクトルにより検出することが
できる。
高い超音波を例えば０〜８０℃程度の水中に照射すれば
よい。この場合、水和電子を発生させるべき水中にキャ
ビテーションが起こるような条件で超音波を照射しても
よい。例えば、上記の様に水を充填したセル中で水和電
子を生成させる場合には、セルに充填した水中にキャビ
テーションが起こるようにすればよい。音波を使用する
場合には、十分な出力の音波を例えば０〜８０℃程度の
水中に照射すればよい。水和電子を発生させるべき水
は、蒸留水、イオン交換水、通常の水道水等のいずれで
もよく、例えば２回蒸留水や注射用蒸留水を使用しても
よい。これらの水は、音波又は超音波の照射前に、例え
ばアルゴンガスや窒素ガスを導入して脱気しておいても
よい。また、音波や超音波の照射をアルゴンガスや窒素
ガスの雰囲気下で行ってもよい。さらに、水和電子を生
成させるべき水に対して、例えば塩化カリウム、塩化ナ
トリウム等の電解質を添加してもよい。水中に生成した
水和電子は、可視吸収スペクトルにより検出することが
できる。
【０００６】
【発明の効果】本発明によれば、簡便に水和電子を生成
させることができ、水和電子が絶えず供給されるので、
定常的に水和電子を生成することができる。また、本発
明の方法によれば、高濃度の水和電子が定常的に供給さ
れるので、得られた水和電子を有効に利用することがで
き、例えば水素や過酸化水素等の製造に利用できる
させることができ、水和電子が絶えず供給されるので、
定常的に水和電子を生成することができる。また、本発
明の方法によれば、高濃度の水和電子が定常的に供給さ
れるので、得られた水和電子を有効に利用することがで
き、例えば水素や過酸化水素等の製造に利用できる
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明の範囲は、この実施例に限定されるものでは
ない。
が、本発明の範囲は、この実施例に限定されるものでは
ない。
【０００７】〔例１〕超音波洗浄器（島津製作所製ＳＵ
Ｓ−１０３型、２８、４５、１００KHz 可変型、１００
Ｗ、槽サイズ２４０mm×１４０mm×深さ１００mm）の槽
に９０mm深さまで水を入れ、槽の中央に、反応用蒸留水
を２０ml入れたガラス製円筒状サンプル管（内径２６m
m、高さ６５mm、シリコンゴム製フタ付）を固定し、セ
ル中の水面高さが、槽の水面より約１cm高くなるように
した。光学ファイバーとダイオードアレーを組合せた迅
速吸収スペクトル測定装置（大塚電子製、ＩＭＵＣ−７
０００型）を用い、槽水面より上方にあるセル中の水の
吸収スペクトルを、光学ファイバーを利用して測定し
た。セル中の水には予めアルゴンガスを３０分間通し、
脱気した後用いた。室温下（２１℃）で超音波（この例
では２８KHz ）を照射して強い共振条件を生ずるように
槽の水面高さを調節すると、水和電子に特有の、７２０
nmに吸収極大を持つ可視吸収スペクトル（図１）が得ら
れ、水和電子が定常条件で生成することが確認された。
超音波照射に基づくキャビテーションのため、吸光度の
変動は激しいが、吸光度（Optical Density;O.D.）は最
大0.５以上に達し、平均的には0.０５程度であった。定
常状態下で存在する水和電子の濃度は最大では１０μＭ
以上、平均でも１μＭ程度である。水和電子の典型的な
捕捉剤であるアセトンや塩化水素を少量添加した場合
は、水和電子は観測できなかった。
Ｓ−１０３型、２８、４５、１００KHz 可変型、１００
Ｗ、槽サイズ２４０mm×１４０mm×深さ１００mm）の槽
に９０mm深さまで水を入れ、槽の中央に、反応用蒸留水
を２０ml入れたガラス製円筒状サンプル管（内径２６m
m、高さ６５mm、シリコンゴム製フタ付）を固定し、セ
ル中の水面高さが、槽の水面より約１cm高くなるように
した。光学ファイバーとダイオードアレーを組合せた迅
速吸収スペクトル測定装置（大塚電子製、ＩＭＵＣ−７
０００型）を用い、槽水面より上方にあるセル中の水の
吸収スペクトルを、光学ファイバーを利用して測定し
た。セル中の水には予めアルゴンガスを３０分間通し、
脱気した後用いた。室温下（２１℃）で超音波（この例
では２８KHz ）を照射して強い共振条件を生ずるように
槽の水面高さを調節すると、水和電子に特有の、７２０
nmに吸収極大を持つ可視吸収スペクトル（図１）が得ら
れ、水和電子が定常条件で生成することが確認された。
超音波照射に基づくキャビテーションのため、吸光度の
変動は激しいが、吸光度（Optical Density;O.D.）は最
大0.５以上に達し、平均的には0.０５程度であった。定
常状態下で存在する水和電子の濃度は最大では１０μＭ
以上、平均でも１μＭ程度である。水和電子の典型的な
捕捉剤であるアセトンや塩化水素を少量添加した場合
は、水和電子は観測できなかった。
【０００８】〔例２〕例１において、セル中の水面が槽
水面と同じ高さになるように固定し、また発振周波数を
４５KHz としたほかは、例１と同様に超音波を照射し
た。１０分照射後、セル中の気体をガスクロマトグラフ
により調べたところ、水素が生成していることが確認さ
れ、その生成速度は約4.３μＭ／min であった。これに
より、超音波により生成した水和電子が、プロトンを還
元して水素を発生したことが明らかである。 〔例３〕例２において、１０分間超音波照射後、セル中
の水に0.２Ｍヨウ化カリウムと0.５％モリブデン酸アン
モニウム水溶液を加え、遊離したヨウ素の吸光度から水
中の過酸化水素を定量したところ、約2.１μＭ／min の
速度で過酸化水素が生成したことがわかった。水和電子
の生成にともなって副次的に生成するヒドロキシラジカ
ルが、過酸化水素を生成したことが明らかである。 〔例４〕超音波洗浄器として、ブランソン社製Bransoni
c ２型（４０Ｗ、４５KHz ）を用い、水槽の水面高さを
５０mmとした以外は、例１と同様に超音波照射を行なっ
たところ、4.３μＭ／min の速さで水素を発生させるこ
とができた。
水面と同じ高さになるように固定し、また発振周波数を
４５KHz としたほかは、例１と同様に超音波を照射し
た。１０分照射後、セル中の気体をガスクロマトグラフ
により調べたところ、水素が生成していることが確認さ
れ、その生成速度は約4.３μＭ／min であった。これに
より、超音波により生成した水和電子が、プロトンを還
元して水素を発生したことが明らかである。 〔例３〕例２において、１０分間超音波照射後、セル中
の水に0.２Ｍヨウ化カリウムと0.５％モリブデン酸アン
モニウム水溶液を加え、遊離したヨウ素の吸光度から水
中の過酸化水素を定量したところ、約2.１μＭ／min の
速度で過酸化水素が生成したことがわかった。水和電子
の生成にともなって副次的に生成するヒドロキシラジカ
ルが、過酸化水素を生成したことが明らかである。 〔例４〕超音波洗浄器として、ブランソン社製Bransoni
c ２型（４０Ｗ、４５KHz ）を用い、水槽の水面高さを
５０mmとした以外は、例１と同様に超音波照射を行なっ
たところ、4.３μＭ／min の速さで水素を発生させるこ
とができた。
【図１】 水を超音波照射した場合に生成する水和電子
の可視部吸収スペクトルを示す図である。図中、(a) は
照射直後のブランクであり、(b) は照射後10分における
水和電子の吸収を示す。
の可視部吸収スペクトルを示す図である。図中、(a) は
照射直後のブランクであり、(b) は照射後10分における
水和電子の吸収を示す。
Claims (3)
- 【請求項１】 水に超音波あるいは音波を照射すること
を特徴とする水和電子の生成方法。 - 【請求項２】 前記超音波あるいは音波が定常波である
請求項第１項記載の水和電子の生成方法。 - 【請求項３】 定常的に水和電子を生成する請求項１記
載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4049986A JPH05245470A (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 水和電子の生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4049986A JPH05245470A (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 水和電子の生成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05245470A true JPH05245470A (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=12846345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4049986A Pending JPH05245470A (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 水和電子の生成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05245470A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003095601A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Ulvac Japan Ltd | 炭素材料への水素吸蔵方法 |
| JP2007105677A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Mikasa:Kk | 活性水の製造方法、動物の生育方法、および活性水 |
| WO2007142442A1 (en) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | In Ho Lee | Apparatus for and method of treating wastewater using hydrated electrons and multi-frequency waves |
| JP2013036114A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Shinshu Univ | 金属ナノ粒子の製造方法 |
| CN111825255A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-10-27 | 深圳职业技术学院 | 一种高频超声降解水中全氟辛烷磺酸的高级还原方法及装置 |
-
1992
- 1992-03-06 JP JP4049986A patent/JPH05245470A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003095601A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Ulvac Japan Ltd | 炭素材料への水素吸蔵方法 |
| JP4745569B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2011-08-10 | 株式会社アルバック | 炭素材料への水素吸蔵方法 |
| JP2007105677A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Mikasa:Kk | 活性水の製造方法、動物の生育方法、および活性水 |
| WO2007142442A1 (en) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | In Ho Lee | Apparatus for and method of treating wastewater using hydrated electrons and multi-frequency waves |
| KR100815825B1 (ko) * | 2006-06-02 | 2008-03-24 | 이인호 | 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 장치 및 방법 |
| JP2013036114A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Shinshu Univ | 金属ナノ粒子の製造方法 |
| CN111825255A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-10-27 | 深圳职业技术学院 | 一种高频超声降解水中全氟辛烷磺酸的高级还原方法及装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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