JPH05243871A - High frequency transistor - Google Patents

High frequency transistor

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Publication number
JPH05243871A
JPH05243871A JP4261892A JP4261892A JPH05243871A JP H05243871 A JPH05243871 A JP H05243871A JP 4261892 A JP4261892 A JP 4261892A JP 4261892 A JP4261892 A JP 4261892A JP H05243871 A JPH05243871 A JP H05243871A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
ground
chip
metalized
high frequency
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4261892A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigemi Wakamatsu
茂美 若松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamagata Ltd
Original Assignee
NEC Yamagata Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH05243871A publication Critical patent/JPH05243871A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6644Packaging aspects of high-frequency amplifiers

Abstract

PURPOSE:To eliminate a ground pattern corresponding to a capacitor chip, and to prevent the deterioration of the gain of a high frequency transistor. CONSTITUTION:As a plane arrangement condition on an insulating substrate 1, plural metalized faces 4, 6 and 8 are provided on the insulating substrate 1, and on one metalized face 6 of these metalized faces, a transistor chip 15 is placed. Also, on a ground metalized face 5 provided separately, the capacitor chip 14 for an input matching circuit is placed, and used for amplifying electric power in a high frequency band. Moreover, to the ground metalized face 5, this transistor is arranged and constituted by providing at least a metallic thin wire connected directly from the transistor chip 15, and a non-metalized face 10 divided into plural parts, for forming a solder dam on the ground metalized face 5.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高周波トランジスタに関
し、特に、高出力の高周波トランジスタに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high frequency transistor, and more particularly to a high power high frequency transistor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の高出力の高周波トランジスタにお
いては、図2(a)に平面配置図が示されるように、絶
縁基板1に対して、複数のメタライズ面4、6および8
と、接地メタライズ面5および7が設けられており、ま
たメタライズ面4および5には、それぞれ入力リード2
と出力リード3とがロウ付けにより接続されている。メ
タライズ面4とトランジスタ・チップ15の入力ボンデ
ィング・パッド17との接続には、金属細線11が用い
られており、この金属細線11は、接地メタライズ面5
に載置されたコンデンサ・チップ19のコンデンサ・パ
ターン20を中継として、内部整合回路が形成されてい
る。トランジスタ・チップ15の接地ボンディング・パ
ッド16は、金属細線12により、接地メタライズ面7
と、コンデンサ・チップ19に設けられている接地パタ
ーン21に接続されている。この接地パターン21は、
コンデンサ・チップ19の裏面と導通されているので、
接地メタライズ面5により接地される。また、図2
(a)においては記載が省略されているが、接地メタラ
イズ面5および7は、絶縁基板1の裏面と側面メタライ
ズ面(図示されない)により導通されて接地されてい
る。トランジスタ・チップ15の出力端子は、裏面側よ
り取出されるので、メタライズ面6とメタライズ面8と
を金属細線13によって接続することにより、出力リー
ド3に接続される。アルミナコート9は、トランジスタ
・チップ15をメタライズ面6に接着する時に、ソルダ
が流れて金属細線13の接着が不可能になることを防止
するためのものである。なお、図2(a)においては、
トランジスタ・チップ15、接地ボンディング・パッド
16および入力ボンディング・パッド17、更には、金
属細線11〜13等について、同種のものが並んでいる
ので、その代表的のものに対してのみ、符号が付されて
示されている。
2. Description of the Related Art In a conventional high-power high-frequency transistor, a plurality of metallized surfaces 4, 6 and 8 are formed on an insulating substrate 1 as shown in a plan view of FIG.
And ground metallization surfaces 5 and 7 are provided, and the metallization surfaces 4 and 5 are provided with input leads 2 respectively.
And the output lead 3 are connected by brazing. A thin metal wire 11 is used to connect the metallized surface 4 and the input bonding pad 17 of the transistor chip 15, and the thin metal wire 11 is connected to the grounded metallized surface 5.
An internal matching circuit is formed by using the capacitor pattern 20 of the capacitor chip 19 mounted on the substrate as a relay. The ground bonding pad 16 of the transistor chip 15 is connected to the ground metallization surface 7 by the thin metal wire 12.
And a ground pattern 21 provided on the capacitor chip 19. This ground pattern 21 is
Since it is electrically connected to the back surface of the capacitor chip 19,
It is grounded by the ground metallized surface 5. Also, FIG.
Although not shown in (a), the ground metallized surfaces 5 and 7 are electrically connected to the back surface of the insulating substrate 1 and the side surface metallized surfaces (not shown) to be grounded. Since the output terminal of the transistor chip 15 is taken out from the back side, it is connected to the output lead 3 by connecting the metallized surface 6 and the metallized surface 8 with the thin metal wire 13. The alumina coat 9 is for preventing the solder from flowing and making it impossible to bond the metal wires 13 when the transistor chip 15 is bonded to the metallized surface 6. In addition, in FIG.
The transistor chip 15, the ground bonding pad 16, the input bonding pad 17, the metal thin wires 11 to 13 and the like are of the same kind, and therefore, only representative ones thereof are designated by the reference numerals. Has been shown.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の高周波
トランジスタにおいては、図2(b)の等価回路に示さ
れるように、入力整合回路は、金属細線11によるイン
ダクタンスL11a およびL11b と、コンデンサ・チップ
19に設けられたコンデンサ・パターン20の容量C20
とにより形成されるが、トランジスタ・チップ15の接
地は、コンデンサ・チップ19の接地パターン21を介
して行われるので、図2(b)の等価回路において、コ
ンデンサ・パターン20の等価直列抵抗R20の他に、ト
ランジスタ・チップ15の接地端子に、接地パターン2
1の等価直列抵抗R21が加わることになり、特に後者は
接地インピーダンスとなって、当該高周波トランジスタ
の利得を低下させる要因となる。
In the above-mentioned conventional high frequency transistor, as shown in the equivalent circuit of FIG. 2B, the input matching circuit is composed of the inductances L 11a and L 11b due to the thin metal wire 11 and the capacitor. .Capacitance C 20 of the capacitor pattern 20 provided on the chip 19
However, since the transistor chip 15 is grounded via the ground pattern 21 of the capacitor chip 19, the equivalent series resistance R 20 of the capacitor pattern 20 in the equivalent circuit of FIG. In addition, the ground pattern of the transistor chip 15 is connected to the ground pattern 2
The equivalent series resistance R 21 of 1 is added, and in particular, the latter becomes ground impedance, which becomes a factor of reducing the gain of the high frequency transistor.

【0004】接地パターン21の大きさが2mm×0.
1mmで、コンデンサ・チップが160μmの厚さの場
合に、基板の比抵抗を0.01Ωcmとすると、抵抗値
21の数値は0.08Ωとなる。この抵抗値は一見小さ
い値のように見えるが、入力抵抗としては電流利得が乗
ぜられて増大するので、1GHzの周波数において30
W出力程度のトランジスタの場合に、利得帯域幅積が4
GHzで、本来の入力インピーダンスが2Ω程度である
ものとすれば、0.6dBの利得低下の原因となる。
The size of the ground pattern 21 is 2 mm × 0.
When the thickness of the capacitor chip is 1 mm and the thickness of the capacitor chip is 160 μm and the specific resistance of the substrate is 0.01 Ωcm, the resistance value R 21 is 0.08 Ω. This resistance value seems to be small at first glance, but as the input resistance is multiplied by the current gain, it increases, so at a frequency of 1 GHz,
In the case of a transistor with a W output, the gain bandwidth product is 4
At GHz, if the original input impedance is about 2Ω, it causes a gain decrease of 0.6 dB.

【0005】即ち、従来の高周波トラジスタにおいて
は、接地インピーダンスが大きくなり易く、高出力にお
ける利得が低下するという欠点がある。
That is, the conventional high frequency transistor has a drawback that the ground impedance is apt to be large and the gain at high output is lowered.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の高周波トランジ
スタは、絶縁基板上における平面配置条件として、当該
絶縁基板上に複数のメタライズ面を設け、前記メタライ
ズ面の一つのメタライズ面にトランジスタ・チップを載
置し、別途設けられる接地メタライズ面に入力整合回路
用のコンデンサ・チップを載置して、高周波数帯域にお
ける電力増幅用として使用される内部整合回路付の高周
波トランジスタにおいて、前記接地メタライズ面に対し
て、前記トランジスタ・チップから直接的に接続される
金属細線と、前記接地メタライズ面上に、ソルダ・ダム
を形成する複数に分割された非メタライズ面と、を少な
くとも備えて配置構成される。
In the high frequency transistor of the present invention, a plurality of metallized surfaces are provided on the insulating substrate as a planar arrangement condition on the insulating substrate, and a transistor chip is provided on one of the metallized surfaces. Place the capacitor chip for the input matching circuit on the grounded metallization surface that is separately provided, and in the high frequency transistor with the internal matching circuit that is used for power amplification in the high frequency band, On the other hand, at least a thin metal wire directly connected to the transistor chip and a plurality of non-metallized surfaces forming a solder dam on the ground metallized surface are arranged.

【0007】[0007]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0008】図1は本発明の一実施例を示す平面配置図
である。図1(a)に示されるように、本実施例は、絶
縁基板1にメタライズ面4、5、6、7および8が設け
られており、入力リード2はメタライズ面4にロウ付け
され、出力リード3はメタライズ面8にロウ付けされて
いる。メタライズ面5および7は、側面メタライズ面
(図示されない)を通じて接地裏面に接続されている。
トランジスタ・チップ15は、メタライズ面6に載置さ
れており、接地メタライズ面5には、コンデンサ・チッ
プ14がソルダにより接着されるが、トランジスタ・チ
ップ15の接地ボンディング・パッド16と接地メタラ
イズ面5との間の金属細線12による接続は、分割非メ
タライズ面10によりソルダ流れが阻止されるために、
接着範囲が確保されている。
FIG. 1 is a plan layout view showing an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1A, in this embodiment, the insulating substrate 1 is provided with metallized surfaces 4, 5, 6, 7 and 8, and the input lead 2 is brazed to the metallized surface 4 to output the output. The lead 3 is brazed to the metallized surface 8. Metallized surfaces 5 and 7 are connected to the ground back surface through side metallized surfaces (not shown).
The transistor chip 15 is mounted on the metallized surface 6, and the capacitor chip 14 is bonded to the grounded metallized surface 5 by soldering. However, the grounded bonding pad 16 of the transistor chip 15 and the grounded metallized surface 5 are attached. The connection by the thin metal wire 12 between and is because the divided non-metallized surface 10 blocks the solder flow.
The bonding area is secured.

【0009】分割非メタライズ面10を分割するのは、
分割しない場合には、図1(b)に示される説明用の平
面配置図に示されるように、分割しない非メタライズ面
18において、コンデンサ・チップ14とトランジスタ
・チップ15の接地用の金属細線12との間の抵抗が大
きくなり、高周波出力の利得が低下するからである。ト
ランジスタ・チップ15の裏面出力端子との接続に対応
するアルミナ・コート9における手法も、図2(b)に
おける非メタライズ面18をアルミナコート9によって
置換することにより、容易になるものと考えられるが、
この場合には、アルミナ・コート9の寸法上の制約が介
在しており、内部整合回路の定数に対する制約が付加さ
れる結果となる。しかし、本発明においては、分割非メ
タライズ面10によるソルダ・ダムを入力整合用のコン
デンサ・チップ14を搭載する接地メタライズ面5に設
けることにより、コンデンサ・チップ14に対応する接
地パターンを不要とし、これにより、接地抵抗の増大が
回避され、高周波トランジスタの利得低下が防止され
る。
Dividing the non-metallized surface 10 is divided into
If not divided, as shown in the explanatory plan layout view shown in FIG. 1B, the non-divided non-metallized surface 18 has the metal thin wire 12 for grounding the capacitor chip 14 and the transistor chip 15 grounded. This is because the resistance between and becomes large and the gain of the high frequency output decreases. The method for the alumina coat 9 corresponding to the connection with the back surface output terminal of the transistor chip 15 is considered to be facilitated by replacing the non-metallized surface 18 in FIG. 2B with the alumina coat 9. ,
In this case, the dimensional constraint of the alumina coat 9 is interposed, and the constraint on the constant of the internal matching circuit is added. However, in the present invention, by providing the solder dam by the divided non-metallized surface 10 on the grounded metallized surface 5 on which the input matching capacitor chip 14 is mounted, the ground pattern corresponding to the capacitor chip 14 is unnecessary, This prevents an increase in ground resistance and prevents a decrease in gain of the high frequency transistor.

【0010】[0010]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、内部整
合回路に使用されるコンデンサ・チップの接地パターン
を使用することなく、接地用金属細線の接続エリアを、
分割された非メタライズ面を、コンデンサ・チップを搭
載する接地メタライズ面に設けて確保することにより、
コンデンサ・チップを介して派生する接地抵抗の増大が
回避され、高周波トランジスタの利得低下を防止するこ
とができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, the connection area of the metal thin wire for grounding can be provided without using the grounding pattern of the capacitor chip used for the internal matching circuit.
By providing the divided non-metallized surface on the grounded metallized surface on which the capacitor chip is mounted,
There is an effect that an increase in ground resistance derived from the capacitor chip can be avoided, and a decrease in gain of the high frequency transistor can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の平面配置図および動作説明
用の平面配置図である。
FIG. 1 is a plan layout view and a plan layout view for explaining an operation according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来例の平面配置図および等価回路を示す図で
ある。
FIG. 2 is a plan layout diagram and a diagram showing an equivalent circuit of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁基板 2 入力リード 3 出力リード 4、6、8 メタライズ面 5、7 接地メタライズ面 9 アルミナコート 10 分割非メタライズ面 11〜13 金属細線 14、19 コンデンサ・チップ 15 トランジスタ・チップ 16 接地ボンディング・パッド 17 入力ボンディング・パッド 18 非メタライズ面 20 コンデンサ・パターン 21 接地パターン 1 Insulating Substrate 2 Input Lead 3 Output Lead 4, 6, 8 Metallized Surface 5, 7 Ground Metallized Surface 9 Alumina Coat 10 Split Non-metallized Surface 11-13 Metal Fine Wire 14, 19 Capacitor Chip 15 Transistor Chip 16 Ground Bonding Pad 17 Input Bonding Pad 18 Unmetallized Surface 20 Capacitor Pattern 21 Ground Pattern

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板上における平面配置条件とし
て、当該絶縁基板上に複数のメタライズ面を設け、前記
メタライズ面の一つのメタライズ面にトランジスタ・チ
ップを載置し、別途設けられる接地メタライズ面に入力
整合回路用のコンデンサ・チップを載置して、高周波数
帯域における電力増幅用として使用される内部整合回路
付の高周波トランジスタにおいて、 前記接地メタライズ面に対して、前記トランジスタ・チ
ップから直接的に接続される金属細線と、 前記接地メタライズ面上に、ソルダ・ダムを形成する複
数に分割された非メタライズ面と、 を少なくとも備えて配置されることを特徴とする高周波
トランジスタ。
1. As a planar arrangement condition on an insulating substrate, a plurality of metallized surfaces are provided on the insulating substrate, a transistor chip is mounted on one metallized surface of the metallized surface, and a ground metallized surface is separately provided. In a high-frequency transistor with an internal matching circuit that is used for power amplification in a high frequency band by mounting a capacitor chip for an input matching circuit, directly from the transistor chip to the ground metallized surface. A high-frequency transistor, comprising: a thin metal wire to be connected; and a plurality of non-metallized surfaces that form a solder dam on the ground metallized surface.
JP4261892A 1992-02-28 1992-02-28 High frequency transistor Withdrawn JPH05243871A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10903795B2 (en) 2018-07-11 2021-01-26 Sumitomo Electric Device Innovations, Inc. Semiconductor amplifier

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10903795B2 (en) 2018-07-11 2021-01-26 Sumitomo Electric Device Innovations, Inc. Semiconductor amplifier
US11588441B2 (en) 2018-07-11 2023-02-21 Sumitomo Electric Device Innovations, Inc. Semiconductor amplifier

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Effective date: 19990518