JP3244677B2 - Electronic circuit unit - Google Patents

Electronic circuit unit

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface mounting type electronic circuit unit which is suitable for miniaturization. SOLUTION: In this electronic circuit unit, circuit elements containing capacitors C1-C7, resistors R1-R3, inductance elements L1-L3, etc., and a conductive pattern P connected to the circuit elements are formed on an alumina substrate 1 in the form of thin films, and a bare semiconductor chip of a diode D1 and a transistor Tr1 is wire-bonded to the connecting lands of the pattern P. In addition, an inductance element composed of a pair of conducting paths S1 and S2 faced to each other at a prescribed interval is formed on the substrate 1 in the form of thin films so as to constitute an unbalanced-to-balanced conversion circuit of the paths S1 and S2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、面実装タイプの電
子回路ユニットに係り、特に、不平衡/平衡変換回路を
付設した電子回路ユニットに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface mount type electronic circuit unit, and more particularly to an electronic circuit unit provided with an unbalanced / balanced conversion circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に、この種の面実装タイプの電子
回路ユニットは、基板上に設けられた導電パターンの半
田ランドに抵抗やコンデンサ等のチップ部品とトランジ
スタ等の半導体部品をそれぞれ半田付けし、これら回路
部品をシールドカバーで覆うように概略構成されてい
る。基板の側面には端面電極が設けられており、電子回
路ユニットを母基板上に面実装する際、端面電極は母基
板の半田ランドに半田付けされるようになっている。
2. Description of the Related Art In general, a surface mount type electronic circuit unit of this type solders a chip component such as a resistor and a capacitor and a semiconductor component such as a transistor to solder lands of a conductive pattern provided on a substrate. The circuit components are schematically configured to be covered by a shield cover. An end face electrode is provided on a side surface of the board, and when the electronic circuit unit is surface-mounted on the mother board, the end face electrode is soldered to a solder land of the mother board.

【0003】従来より、このように概略構成された電子
回路ユニットにおいて、不平衡信号を平衡信号に変換し
て出力するための不平衡/平衡変換回路を搭載したもの
が知られている。通常、この不平衡/平衡変換回路は平
板状の誘電体基板に一対の導電路を並設した面実装部品
によって構成され、誘電体基板に設けられた電極を多層
基板上の導電パターンに半田付けすることにより、不平
衡信号を不平衡/平衡変換回路で平衡信号に変換して出
力することができる。
Heretofore, there has been known an electronic circuit unit having a schematic configuration in which an unbalanced / balanced conversion circuit for converting an unbalanced signal into a balanced signal and outputting the signal is mounted. Normally, this unbalanced / balanced conversion circuit is composed of a surface mount component in which a pair of conductive paths are juxtaposed on a flat dielectric substrate, and electrodes provided on the dielectric substrate are soldered to conductive patterns on a multilayer substrate. Thus, the unbalanced signal can be converted into a balanced signal by the unbalanced / balanced conversion circuit and output.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで近年、チップ
部品や半導体部品等の回路部品を小形化する技術は著し
く進歩しており、例えば外形寸法が0.6×0.3mm程度の超
小形のチップ抵抗やチップコンデンサも実用化されてい
る。したがって、前述した従来の電子回路ユニットにお
いても、このような超小形の回路部品を使用し、これら
回路部品をその部品間ピッチを狭めた状態で基板上に実
装すれば、電子回路ユニットをある程度までは小型化す
ることが可能となる。しかしながら、チップ部品や半導
体部品等の回路部品の小形化には限界があり、しかも、
多数の回路部品を基板上に実装する際に、各回路部品の
半田付け部分が短絡しないようにしなければならないた
め、部品間ピッチを狭めるのにも限界があり、これらの
ことが電子回路ユニットの更なる小型化を妨げる大きな
要因となっていた。さらに、不平衡/平衡変換回路が面
実装部品によって構成されており、所望の結合度を確保
するために一対の導電路を所定長以上の長さにわたって
並設している関係上、この面実装部品は比較的大形の部
品であるため、基板上の限られた実装スペースが不平衡
/平衡変換回路用の面実装部品によって狭められてしま
い、この点からも電子回路ユニットの小型化が妨げられ
ていた。
In recent years, techniques for miniaturizing circuit components such as chip components and semiconductor components have been remarkably advanced. For example, ultra-small chip resistors or chips having an outer dimension of about 0.6 × 0.3 mm have been developed. Capacitors have also been put to practical use. Therefore, even in the above-mentioned conventional electronic circuit unit, if such ultra-small circuit components are used and these circuit components are mounted on a substrate with the pitch between the components being narrowed, the electronic circuit unit can be reduced to some extent. Can be reduced in size. However, miniaturization of circuit components such as chip components and semiconductor components is limited, and moreover,
When mounting a large number of circuit components on a board, it is necessary to prevent the soldered portions of each circuit component from being short-circuited.Therefore, there is a limit in narrowing the pitch between components, and these are limitations of the electronic circuit unit. This was a major factor hindering further miniaturization. Further, since the unbalanced / balanced conversion circuit is constituted by surface-mounted components, and a pair of conductive paths are juxtaposed over a predetermined length or more in order to secure a desired degree of coupling, the surface-mounting circuit is required. Since the components are relatively large components, the limited mounting space on the board is narrowed by the surface mounting components for the unbalanced / balanced conversion circuit, which also hinders miniaturization of the electronic circuit unit. Had been.

【0005】本発明は、このような従来技術の実情に鑑
みてなされたもので、その目的は、小型化に好適な面実
装タイプの電子回路ユニットを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances of the prior art, and has as its object to provide a surface mount type electronic circuit unit suitable for downsizing.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の電子回路ユニットでは、アルミナ基板上
にコンデンサおよび抵抗を含む回路素子とこれら回路素
子に接続される導電パターンとを薄膜形成し、前記アル
ミナ基板上に半導体ベアチップを搭載すると共に、この
半導体ベアチップを前記導電パターンにワイヤーボンデ
ィングし、かつ、前記アルミナ基板上に所定間隔を存し
て対向する一対の導電路からなるインダクタンス素子を
薄膜形成し、このインダクタンス素子によって不平衡/
平衡変換回路を構成した。
In order to achieve the above object, in an electronic circuit unit of the present invention, a circuit element including a capacitor and a resistor and a conductive pattern connected to the circuit element are formed on an alumina substrate by a thin film. Forming and mounting a semiconductor bare chip on the alumina substrate, wire bonding the semiconductor bare chip to the conductive pattern, and an inductance element including a pair of conductive paths facing each other at a predetermined interval on the alumina substrate. Is formed as a thin film, and the unbalanced /
A balanced conversion circuit was constructed.

【0007】このような構成によれば、コンデンサと抵
抗を含む回路素子が薄膜技術を用いて高精度に形成さ
れ、しかも、半導体素子はベアチップをワイヤーボンデ
ィングしたものであるため、アルミナ基板上に必要とさ
れる回路部品が高密度に実装され、小型化に好適な面実
装タイプの電子回路ユニットを実現することができる。
さらに、アルミナ基板上に一対の導電路からなるインダ
クタンス素子を薄膜形成し、このインダクタンス素子の
一対の導電路によって不平衡/平衡変換回路を構成した
ため、両導電路間のギャップを狭くして所望の結合度を
確保することができ、この点からも電子回路ユニットの
小型化に有利となる。
According to such a structure, the circuit element including the capacitor and the resistor is formed with high precision by using a thin film technique, and the semiconductor element is formed by wire bonding a bare chip. Thus, a surface-mounted electronic circuit unit suitable for miniaturization can be realized in which circuit components are mounted at high density.
Furthermore, since an inductance element composed of a pair of conductive paths is formed as a thin film on the alumina substrate, and an unbalanced / balanced conversion circuit is formed by the pair of conductive paths of the inductance element, a gap between the two conductive paths is narrowed to a desired value. The degree of coupling can be ensured, which is also advantageous for downsizing the electronic circuit unit.

【0008】上記の構成において、不平衡/平衡変換回
路を構成する一対の導電路をアルミナ基板の同一面上に
形成すると、両導電路間のギャップを狭めて結合度を高
めることができる。また、一対の導電路をアルミナ基板
上に絶縁物を介して積層すると、アルミナ基板上に占め
る両導電路の設置スペースをより一層狭めることができ
る。さらに、一対の導電路は、渦巻き状あるいはジグザ
グ状に形成することが好ましい。
In the above configuration, when a pair of conductive paths constituting the unbalanced / balanced conversion circuit are formed on the same surface of the alumina substrate, the gap between the two conductive paths can be narrowed to increase the degree of coupling. Further, when the pair of conductive paths is laminated on the alumina substrate via an insulator, the installation space of both conductive paths on the alumina substrate can be further reduced. Further, the pair of conductive paths is preferably formed in a spiral or zigzag shape.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態例につい
て図面を参照して説明すると、図1は電子回路ユニット
の斜視図、図2は回路構成レイアウトを示すアルミナ基
板の平面図、図3はアルミナ基板の裏面図、図4は回路
構成の説明図、図5は端面電極を示す斜視図、図6は端
面電極の断面図、図7は半導体ベアチップと接続ランド
の関係を示す説明図、図8は電子回路ユニットの製造工
程を示す説明図である。
1 is a perspective view of an electronic circuit unit, FIG. 2 is a plan view of an alumina substrate showing a circuit configuration layout, and FIG. 4 is a back view of the alumina substrate, FIG. 4 is an explanatory view of a circuit configuration, FIG. 5 is a perspective view showing an end face electrode, FIG. 6 is a sectional view of the end face electrode, FIG. 7 is an explanatory view showing a relationship between a semiconductor bare chip and a connection land. FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating a manufacturing process of the electronic circuit unit.

【0010】本実施形態例は周波数同調型ブースタアン
プへの適用例であり、この周波数同調型ブースタアンプ
は携帯型テレビ機器の受信性能(特に、受信感度と耐妨
害特性)向上のために図示せぬUHFチューナと組み合
わせて使用され、希望周波数のTV信号を選択すると共
に、選択したTV信号を増幅してUHFチューナに入力
する機能を有する。
This embodiment is an example of application to a frequency-tuned booster amplifier. This frequency-tuned booster amplifier is illustrated for improving the reception performance (particularly, reception sensitivity and anti-jamming characteristics) of a portable television device. It is used in combination with a UHF tuner, and has a function of selecting a TV signal of a desired frequency and amplifying the selected TV signal and inputting the amplified signal to the UHF tuner.

【0011】図1はかかる周波数同調型ブースタアンプ
(電子回路ユニット)の外観を示し、同図に示すよう
に、この周波数同調型ブースタアンプは、後述する回路
構成素子を搭載したアルミナ基板1と、このアルミナ基
板1に取付けられたシールドカバー2とで構成されてお
り、図示せぬ母基板に半田付けされる面実装部品となっ
ている。アルミナ基板1は方形平板状に形成されてお
り、大版基板を短冊状の分割片に切断した後、この分割
片をさらに細分割することによって得られる。シールド
カバー2は金属板を箱形に折り曲げ加工したもので、ア
ルミナ基板1上の回路構成素子はこのシールドカバー2
によって覆われている。
FIG. 1 shows an appearance of such a frequency tuning type booster amplifier (electronic circuit unit). As shown in FIG. 1, the frequency tuning type booster amplifier includes an alumina substrate 1 on which circuit components described later are mounted, and It is composed of a shield cover 2 attached to the alumina substrate 1 and is a surface mount component to be soldered to a mother substrate (not shown). The alumina substrate 1 is formed in a rectangular flat plate shape. The alumina substrate 1 is obtained by cutting a large-sized substrate into strip-shaped divided pieces, and further subdividing the divided pieces. The shield cover 2 is formed by bending a metal plate into a box shape, and the circuit components on the alumina substrate 1 are the shield cover 2.
Covered by

【0012】図2に示すように、アルミナ基板1の表面
には回路構成素子とそれらを接続する導電パターンが設
けられており、また、図3に示すように、アルミナ基板
1の裏面には背面電極としての導電パターンが設けられ
ている。本実施形態例に係る周波数同調型ブースタアン
プは、TV信号の選択と増幅のために同調回路と増幅回
路とを有し、図4に示すような回路構成となっており、
図2に示される各回路構成素子には図4の回路図に対応
する符号を付してある。ただし、図4は回路構成の一例
を示すものであり、本発明はこれ以外の回路構成を有す
る電子回路ユニットにも適用可能である。
As shown in FIG. 2, circuit components and conductive patterns for connecting them are provided on the front surface of the alumina substrate 1, and as shown in FIG. A conductive pattern as an electrode is provided. The frequency tuning type booster amplifier according to the present embodiment has a tuning circuit and an amplifier circuit for selecting and amplifying a TV signal, and has a circuit configuration as shown in FIG.
Each circuit component shown in FIG. 2 is denoted by a reference numeral corresponding to the circuit diagram of FIG. However, FIG. 4 shows an example of the circuit configuration, and the present invention can be applied to an electronic circuit unit having another circuit configuration.

【0013】図4に示すように、周波数同調型ブースタ
アンプは、同調回路および増幅回路の回路構成素子であ
るコンデンサC1〜C7、抵抗R1〜R3、インダクタ
ンス素子L1〜L3、ダイオードD1、トランジスタT
r1、導電路S1,S2等を有し、これらの回路構成素
子とそれを接続する導電パターンはアルミナ基板1の表
面に設けられている。この導電パターンは例えばCrや
Cu等をスパッタリング等の薄膜技術を用いて形成した
もので、図2中には符号Pを付してハッチングによって
表されている。
As shown in FIG. 4, the frequency tuning type booster amplifier includes capacitors C1 to C7, resistors R1 to R3, inductance elements L1 to L3, a diode D1, a transistor T1 which are circuit components of a tuning circuit and an amplifier circuit.
r 1, conductive paths S 1, S 2, etc., and these circuit components and the conductive patterns connecting them are provided on the surface of the alumina substrate 1. This conductive pattern is formed, for example, of Cr, Cu, or the like by using a thin film technique such as sputtering, and is denoted by a symbol P in FIG.

【0014】周波数同調型ブースタアンプの回路構成に
ついて簡単に説明すると、希望周波数のTV信号を選択
と増幅するために、インダクタンス素子L2,L3とコ
ンデンサC3,C4およびダイオードD1とからなる同
調回路と、トランジスタTr1とその周辺回路素子(抵
抗R1〜R3、コンデンサC6)および不平衡/平衡変
換素子Tとからなる増幅回路から構成されている。複数
の周波数のTV信号はコンデンサC1を介して同調回路
に入力される。同調回路の同調周波数(共振周波数)は
ダイオードD1のカソードに加える電圧(Vctl)の制
御により可変するので、希望するTV信号の周波数に一
致させることによって、希望するTV信号だけが選択さ
れ、コンデンサC5を介して増幅回路のトランジスタT
r1のベースに入力される。トランジスタTr1のベー
スにはベースバイアス用分圧抵抗R1,R2にバイアス
電圧が与えられ、トランジスタTr1のコレクタ電流
(≒エミッタ電流)はエミッタ抵抗R3の抵抗値によっ
て設定される。トランジスタTr1によって増幅された
TV信号はコレクタから出力され、コレクタには不平衡
/平衡変換素子Tが設けられている。この不平衡/平衡
変換素子Tは互いに結合した一対の導電路S1,S2か
らなるインダクタンス素子によって構成され、導電路S
2の両端から平衡TV信号が出力され、前述したUHF
チューナに入力される。
The circuit configuration of the frequency tuning type booster amplifier will be briefly described. In order to select and amplify a TV signal of a desired frequency, a tuning circuit including inductance elements L2 and L3, capacitors C3 and C4 and a diode D1; It comprises an amplifier circuit comprising a transistor Tr1, its peripheral circuit elements (resistors R1 to R3, capacitor C6) and an unbalanced / balanced conversion element T. TV signals of a plurality of frequencies are input to the tuning circuit via the capacitor C1. Since the tuning frequency (resonance frequency) of the tuning circuit is variable by controlling the voltage (Vctl) applied to the cathode of the diode D1, by matching the frequency of the desired TV signal, only the desired TV signal is selected and the capacitor C5 is selected. Through the transistor T of the amplifier circuit
Input to the base of r1. A bias voltage is applied to the base bias voltage dividing resistors R1 and R2 at the base of the transistor Tr1, and the collector current (≒ emitter current) of the transistor Tr1 is set by the resistance value of the emitter resistor R3. The TV signal amplified by the transistor Tr1 is output from a collector, and the collector is provided with an unbalanced / balanced conversion element T. The unbalanced / balanced conversion element T is constituted by an inductance element composed of a pair of conductive paths S1 and S2 coupled to each other.
2 output a balanced TV signal from both ends of the UHF
Input to the tuner.

【0015】図2に示すように、アルミナ基板1の端部
には接地用電極(GND)と入力用電極(Vcc,Vct
l,RFin)および出力用電極(RFout)が形成されて
おり、これらは導電パターンPの一部によって構成され
ている。接地用電極と入力用電極および出力用電極は方
形状のアルミナ基板1の相対向する2つの長辺側にのみ
形成され、それ以外の相対向する2つの短辺側には形成
されていない。すなわち、アルミナ基板1の一方の長辺
側の両隅部(コーナ)にGND電極が形成され、これら
GND電極の間にVcc電極とRFin電極およびVctl電
極が形成されている。また、アルミナ基板1の他方の長
辺側の両隅部とその近傍の3箇所にGND電極が形成さ
れ、これらGND電極の間に2つのRFout電極が形成
されている。なお、後述するように、アルミナ基板1の
2つの長辺は大版基板を短冊状の分割片に切断したとき
の分割線に対応し、アルミナ基板1の2つの短辺はこの
分割片をさらに細分割したときの分割線に対応する。
As shown in FIG. 2, the ground electrode (GND) and the input electrodes (Vcc, Vct)
1, RFin) and an output electrode (RFout), which are formed by a part of the conductive pattern P. The ground electrode, the input electrode, and the output electrode are formed only on the two long sides facing each other of the rectangular alumina substrate 1, and are not formed on the other two short sides facing each other. That is, GND electrodes are formed at both corners (corners) on one long side of the alumina substrate 1, and a Vcc electrode, an RFin electrode, and a Vctl electrode are formed between these GND electrodes. In addition, GND electrodes are formed at both corners on the other long side of the alumina substrate 1 and three places near the two corners, and two RFout electrodes are formed between these GND electrodes. As will be described later, the two long sides of the alumina substrate 1 correspond to the dividing lines when the large-sized substrate is cut into strip-shaped divided pieces, and the two short sides of the alumina substrate 1 further connect the divided pieces. It corresponds to the division line when subdividing.

【0016】一方、図3に示すように、アルミナ基板1
の裏面に設けられた導電パターンP1(背面電極)はそ
れぞれの接地用電極(GND)と入力用電極(Vcc,V
ctl,RFin)および出力用電極(RFout)に対向して
おり、図5と図6に示すように、両者は端面電極3を介
して導通されている。この端面電極3はAg厚膜層の上
にNi下地メッキ層とAuメッキ層を順次積層したもの
で、最下層のAg厚膜層は、ガラス成分を含まないAg
ペーストを厚膜形成した後、これを200°C程度で焼
成した低温焼成材からなる。また、中間層のNi下地メ
ッキ層はAuメッキ層の付着を容易にするもので、最上
層のAuメッキ層は、端面電極3を図示せぬ母基板の半
田ランドに半田付けした際に、最下層のAgが半田に析
出するのを防止するためのものである。そして、シール
ドカバー2がアルミナ基板1に取付けられた電子回路ユ
ニットの完成品において、シールドカバー2の側面に折
り曲げ形成された脚片2aが接地用電極(GND)と導
通する端面電極3に半田付けされており、シールドカバ
ー2はアルミナ基板1の4隅で接地された状態となる。
On the other hand, as shown in FIG.
The conductive pattern P1 (rear electrode) provided on the back surface of each of the ground electrodes (GND) and the input electrodes (Vcc, V
ctl, RFin) and the output electrode (RFout), and both are electrically connected via the end face electrode 3 as shown in FIGS. The end face electrode 3 is obtained by sequentially laminating a Ni base plating layer and an Au plating layer on an Ag thick film layer, and the lowermost Ag thick film layer is made of Ag containing no glass component.
After the paste is formed into a thick film, the paste is made of a low-temperature fired material fired at about 200 ° C. The intermediate Ni plating layer facilitates the adhesion of the Au plating layer, and the uppermost Au plating layer is formed when the end face electrode 3 is soldered to a solder land of a mother substrate (not shown). This is for preventing the lower layer Ag from depositing on the solder. Then, in a completed electronic circuit unit in which the shield cover 2 is attached to the alumina substrate 1, the leg pieces 2a formed by bending the side surfaces of the shield cover 2 are soldered to the end face electrodes 3 which are electrically connected to the ground electrode (GND). The shield cover 2 is grounded at the four corners of the alumina substrate 1.

【0017】前述した各回路構成素子のうち、コンデン
サC1〜C7は下部電極の上にSiO2等の誘電体膜を介し
て上部電極を積層したもので、これらはスパッタリング
等を用いて薄膜形成されている。上部電極の表面にはC
u層が設けられており、このCu層によって共振回路の
Qが高められている。コンデンサC1〜C7の下部電極
と上部電極は導電パターンPに接続されており、図2に
示すように、コンデンサC7とVcc電極間の導電パター
ンP、コンデンサC7とRFout電極間の導電パターン
P、コンデンサC2とVctl電極間の導電パターンPに
は、それぞれ放電用の近接部(エアーギャップ)Gが設
けられている。この近接部Gは互いに対向して並設され
た導電パターンPのそれぞれに設けられた一対の突部に
よって構成されており、両突部の尖端同士は所定のギャ
ップを存して対向している。この場合、導電パターンP
とGND電極の寸法精度はいずれも薄膜技術により高く
なるため、近接部Gのギャップ寸法を狭めることがで
き、低電圧での放電が可能となっている。また、各コン
デンサC1〜C7のうち、コンデンサC1とC3〜C5
は単純な方形状に形成されているが、コンデンサC2と
C7については2つ以上の方形を組み合わせた異形状に
形成されている。すなわち、コンデンサC2は1つの矩
形の一辺から2つの矩形を突出させた凹形状であり、コ
ンデンサC7は3つの矩形を長辺方向にずらして連続さ
せた形状になっている。これらコンデンサC2とC7は
比較的大きな容量値を必要とする接地用コンデンサであ
り、接地用コンデンサC2とC7をこのような異形状に
すると、アルミナ基板1上の限られたスペースが有効利
用され、所望の容量値のコンデンサを高密度実装するこ
とができる。
Among the above-described circuit components, the capacitors C1 to C7 are formed by laminating an upper electrode on a lower electrode via a dielectric film such as SiO 2 , and these are formed as thin films by sputtering or the like. ing. C on the surface of the upper electrode
A u layer is provided, and the Q of the resonance circuit is increased by the Cu layer. The lower electrode and the upper electrode of the capacitors C1 to C7 are connected to the conductive pattern P, and as shown in FIG. 2, the conductive pattern P between the capacitor C7 and the Vcc electrode, the conductive pattern P between the capacitor C7 and the RFout electrode, Each of the conductive patterns P between the C2 and Vctl electrodes is provided with a proximity part (air gap) G for discharge. The proximity portion G is constituted by a pair of protrusions provided on each of the conductive patterns P arranged side by side facing each other, and the tips of both protrusions face each other with a predetermined gap. . In this case, the conductive pattern P
In addition, since the dimensional accuracy of the gate electrode and the GND electrode is improved by the thin film technology, the gap dimension of the adjacent portion G can be narrowed, and discharge at a low voltage is possible. Further, among the capacitors C1 to C7, the capacitors C1 and C3 to C5
Is formed in a simple square shape, but the capacitors C2 and C7 are formed in different shapes by combining two or more square shapes. That is, the capacitor C2 has a concave shape in which two rectangles protrude from one side of one rectangle, and the capacitor C7 has a shape in which three rectangles are successively shifted in the long side direction. These capacitors C2 and C7 are grounding capacitors that require a relatively large capacitance value. When the grounding capacitors C2 and C7 are formed in such irregular shapes, the limited space on the alumina substrate 1 is effectively used, A capacitor having a desired capacitance value can be mounted at a high density.

【0018】さらに、各コンデンサC1〜C7のうち、
コンデンサC6は大きさを異にする2つの接地用コンデ
ンサで構成されており、両者は互いに分離された一対の
導電パターンPを介して並列接続されている。すなわ
ち、図2に示すように、両接地用コンデンサC6の各一
方の電極部はGND電極に繋がる接地用の導電パターン
Pに接続されているが、両接地用コンデンサC6の各他
方の電極部は互いに分離された2つの導電パターンPを
介してトランジスタTr1の接続ランドSLに接続され
ている。図4から明らかなように、コンデンサC6はト
ランジスタTr1のエミッタと接地間に設けられてお
り、前記接続ランドSLはトランジスタTr1のエミッ
タ電極がワイヤーボンディングされる箇所であるため、
コンデンサC6の容量値は互いに分離された導電パター
ンPを介して並列接続された2つの接地用コンデンサに
よって設定されることになる。したがって、トランジス
タTr1のエミッタ電極からコンデンサC6を介して接
地に至る導電パターンP全体のインダクタンスが減少し
て、接地用コンデンサC6による接続ランドSLの接地
効果が向上することになり、また、各接地用コンデンサ
C6と各導電パターンPとによる寄生発振周波数が高く
なるため、この周波数をトランジスタTr1の動作点周
波数以上に設定することにより、寄生振動をなくすこと
ができる。
Further, among the capacitors C1 to C7,
The capacitor C6 is composed of two grounding capacitors having different sizes, and both are connected in parallel via a pair of conductive patterns P separated from each other. That is, as shown in FIG. 2, each one electrode portion of both grounding capacitors C6 is connected to the grounding conductive pattern P connected to the GND electrode, while each other electrode portion of both grounding capacitors C6 is The transistor Tr1 is connected to the connection land SL of the transistor Tr1 via two conductive patterns P separated from each other. As is clear from FIG. 4, the capacitor C6 is provided between the emitter of the transistor Tr1 and the ground, and the connection land SL is a place where the emitter electrode of the transistor Tr1 is wire-bonded.
The capacitance value of the capacitor C6 is set by two grounding capacitors connected in parallel via the conductive patterns P separated from each other. Accordingly, the inductance of the entire conductive pattern P from the emitter electrode of the transistor Tr1 to the ground via the capacitor C6 is reduced, and the grounding effect of the connection land SL by the grounding capacitor C6 is improved. Since the parasitic oscillation frequency caused by the capacitor C6 and each conductive pattern P increases, the parasitic oscillation can be eliminated by setting this frequency to be equal to or higher than the operating point frequency of the transistor Tr1.

【0019】抵抗R1〜R3は例えばTaSiO2等の抵抗膜
をスパッタリング等の薄膜技術を用いて形成したもの
で、その表面には必要に応じてSiO2等の誘電体膜が設け
られている。図2に示すように、3つの抵抗R1〜R3
のうち、抵抗R1とR2はアルミナ基板1上の互いに近
接した位置に並設して薄膜形成され、残りの抵抗R3は
抵抗R1とR2から離れた位置に薄膜形成されている。
このように抵抗R1とR2を近接した位置に薄膜形成し
てあるため、各抵抗R1,R2の抵抗値が所望値に対し
てバラツキを生じたとしても、抵抗R1,R2全体のバ
ラツキの比率を同じにすることができる。図4から明ら
かなように、抵抗R1とR2はトランジスタTr1のベ
ースバイアス用分圧抵抗であり、R1/(R1+R2)
×Vccの電圧がトランジスタTr1のベースに印加され
る。ここで、ベースバイアス用分圧抵抗である抵抗R
1,R2全体のバラツキの比率は前述したように常に同
じであるため、これら抵抗R1,R2に対する抵抗値の
トリミングは不要となる。一方、抵抗R3はトランジス
タTr1のエミッタ抵抗であり、電流はVcc電極からト
ランジスタTr1のコレクタとエミッタに流れ、さらに
抵抗R3を通って接地される。ここで、各抵抗R1〜R
3のうち、エミッタ抵抗である抵抗R3によるトランジ
スタTr1の増幅度への寄与が最も大きいため、電流値
が一定になるように抵抗R3のみをトリミングして出力
調整するようにしてある。
The resistors R1 to R3 are each formed by forming a resistive film such as TaSiO 2 by using a thin film technique such as sputtering, and a dielectric film such as SiO 2 is provided on the surface thereof as required. As shown in FIG. 2, three resistors R1 to R3
Among them, the resistors R1 and R2 are formed as thin films side by side at positions close to each other on the alumina substrate 1, and the remaining resistor R3 is formed as a thin film at positions away from the resistors R1 and R2.
As described above, since the resistors R1 and R2 are formed as thin films at positions close to each other, even if the resistance values of the resistors R1 and R2 vary from a desired value, the ratio of the variation of the entire resistors R1 and R2 is reduced. Can be the same. As is clear from FIG. 4, the resistors R1 and R2 are voltage dividing resistors for the base bias of the transistor Tr1, and R1 / (R1 + R2)
A voltage of × Vcc is applied to the base of the transistor Tr1. Here, a resistor R which is a voltage dividing resistor for base bias is used.
As described above, the ratio of the variation between the resistors R1 and R2 is always the same, so that it is not necessary to trim the resistance values of the resistors R1 and R2. On the other hand, the resistor R3 is an emitter resistor of the transistor Tr1, and a current flows from the Vcc electrode to the collector and the emitter of the transistor Tr1, and is further grounded through the resistor R3. Here, each of the resistors R1 to R
3, the emitter R3 has the largest contribution to the amplification of the transistor Tr1. Therefore, only the resistor R3 is trimmed to adjust the output so that the current value is constant.

【0020】なお、図9に示すように、トランジスタT
r1に別のトランジスタTr2を直列接続した回路構成
の場合は、両トランジスタTr1,Tr2のベースバイ
アス用分圧抵抗である抵抗R1,R2,R4をアルミナ
基板1上の互いに近接した位置に薄膜形成すれば、これ
ら抵抗R1,R2,R4に対する抵抗値のトリミングは
不要となる。したがって、この場合においても、エミッ
タ抵抗である抵抗R3のみをトリミングすることによ
り、両トランジスタTr1,Tr2の電流値を設定する
ことができる。
Incidentally, as shown in FIG.
In the case of a circuit configuration in which another transistor Tr2 is connected in series to r1, resistors R1, R2, and R4, which are voltage dividing resistors for base bias of both transistors Tr1 and Tr2, are formed as thin films at positions close to each other on the alumina substrate 1. If this is the case, trimming of the resistance values for these resistors R1, R2, R4 becomes unnecessary. Therefore, also in this case, the current value of both transistors Tr1 and Tr2 can be set by trimming only the resistor R3 which is the emitter resistor.

【0021】また、インダクタンス素子L1〜L3と導
電路S1,S2は、CrやCu等をスパッタリング等の
薄膜技術を用いて形成したもので、導電パターンPに接
続されている。各インダクタンス素子L1〜L3の表面
にはCu層が設けられており、このCu層によって共振
回路のQが高められている。インダクタンス素子L1と
L2はいずれも角形の渦巻き形状に形成されており、そ
れぞれの一端はVctl電極や接地用の導電パターンPに
ワイヤーボンディングされている。インダクタンス素子
L2は概略の共振周波数を設定する共振周波数設定用で
あり、インダクタンス素子L3はインダクタンス素子L
2の他端に連続している。インダクタンス素子L3は共
振周波数を調整するための調整用導電パターンであり、
図2の破線で示すように、インダクタンス素子L3をト
リミングして削ることにより、インダクタンス素子L2
の巻数が増加して共振周波数を調整するようになってい
る。この場合、トリミング後のインダクタンス素子L3
の導体幅が共振周波数設定用のインダクタンス素子L2
の導体幅と同じになるようにすれば、インダクタンス素
子L2とインダクタンス素子L3の特性インピーダンス
が変わらなくなり、C/N比が良好な発振を得ることが
できる。
The inductance elements L1 to L3 and the conductive paths S1 and S2 are formed of Cr, Cu, or the like by using a thin film technique such as sputtering, and are connected to the conductive pattern P. A Cu layer is provided on the surface of each of the inductance elements L1 to L3, and the Cu layer enhances the Q of the resonance circuit. Each of the inductance elements L1 and L2 is formed in a rectangular spiral shape, and one end of each is wire-bonded to a Vctl electrode or a conductive pattern P for grounding. The inductance element L2 is for setting a resonance frequency for setting an approximate resonance frequency, and the inductance element L3 is for setting the inductance element L.
2 is continuous with the other end. The inductance element L3 is an adjustment conductive pattern for adjusting the resonance frequency,
As shown by the broken line in FIG. 2, the inductance element L3
Are increased to adjust the resonance frequency. In this case, the trimmed inductance element L3
Is the inductance element L2 for setting the resonance frequency.
, The characteristic impedances of the inductance element L2 and the inductance element L3 do not change, and oscillation with a good C / N ratio can be obtained.

【0022】前述したように、不平衡/平衡変換素子T
は互いに結合した一対の導電路S1,S2からなるイン
ダクタンス素子によって構成され、これら導電路S1,
S2はアルミナ基板1上に薄膜形成されている。これら
導電路S1,S2はアルミナ基板1上で所定のギャップ
を介して対向するように渦巻き状に形成されており、一
方の導電路S1の両端はトランジスタTr1のコレクタ
電極とコンデンサC7に接続された導電パターンPとに
接続され、他方の導電路S2の両端は一対のRFout電
極に接続されている。この場合、薄膜形成された導電路
S1,S2の寸法精度が高いため、両導電路S1,S2
間のギャップを狭くして所望の結合度を確保することが
でき、アルミナ基板1上の限られたスペース内に小形の
不平衡/平衡変換素子Tを設けることができる。なお、
図10に示すように、所定のギャップを介して対向する
一対の導電路S1,S2をアルミナ基板1上にジグザグ
状に形成しても良い。
As described above, the unbalanced / balanced conversion element T
Is formed by an inductance element composed of a pair of conductive paths S1 and S2 coupled to each other.
S2 is formed on the alumina substrate 1 as a thin film. These conductive paths S1 and S2 are spirally formed on the alumina substrate 1 so as to face each other with a predetermined gap therebetween. Both ends of one conductive path S1 are connected to the collector electrode of the transistor Tr1 and the capacitor C7. The other end of the other conductive path S2 is connected to a pair of RFout electrodes. In this case, since the dimensional accuracy of the conductive paths S1 and S2 formed as a thin film is high, both the conductive paths S1 and S2
A desired coupling degree can be ensured by narrowing the gap between them, and a small unbalanced / balanced conversion element T can be provided in a limited space on the alumina substrate 1. In addition,
As shown in FIG. 10, a pair of conductive paths S <b> 1 and S <b> 2 facing each other via a predetermined gap may be formed on the alumina substrate 1 in a zigzag shape.

【0023】また、ダイオードD1とトランジスタTr
1は、アルミナ基板1上に薄膜形成された導電パターン
Pの接続ランドに半導体ベアチップを搭載し、該半導体
ベアチップを導電パターンPにワイヤーボンディングし
たものである。すなわち、図2に示すように、ダイオー
ドD1の半導体ベアチップは角形形状をなし、その下面
に設けられた一方の電極がクリーム半田や導電ペースト
等の導電性接着剤を用いて接続ランドに固定され、半導
体ベアチップの上面に設けられた他方の電極が導電パタ
ーンPの所定部位にワイヤーボンディングされている。
また、トランジスタTr1の半導体ベアチップも角形形
状をなし、その下面に設けられたコレクタ電極が導電性
接着剤を用いて接続ランドに固定され、ベース電極とエ
ミッタ電極が導電パターンPの所定部位にワイヤーボン
ディングされている。前述した端面電極3と同様に、こ
れら接続ランド上にもNi下地メッキ層とAuメッキ層
が順次積層されている。ここで、図7(a)または
(b)に示すように、半導体ベアチップ4の下面積に対
して接続ランド5の面積が小さく形成されており、この
ような構成を採用することにより、半導体ベアチップ4
の下方に導電性接着剤の溜り部が確保されるため、導電
性接着剤が半導体ベアチップ4の外形からはみ出して周
囲の導電パターンPと短絡する事故を未然に防止するこ
とができる。また、接続ランド5の内部に開口5aが設
けられており、これによって余剰の導電性接着剤が開口
5a内に溜められるため、導電性接着剤のはみ出しをよ
り確実に防止できるようになっている。
The diode D1 and the transistor Tr
Reference numeral 1 denotes a semiconductor bare chip mounted on a connection land of a conductive pattern P formed as a thin film on an alumina substrate 1, and the semiconductor bare chip is wire-bonded to the conductive pattern P. That is, as shown in FIG. 2, the semiconductor bare chip of the diode D1 has a square shape, and one electrode provided on the lower surface thereof is fixed to the connection land using a conductive adhesive such as cream solder or conductive paste. The other electrode provided on the upper surface of the semiconductor bare chip is wire-bonded to a predetermined portion of the conductive pattern P.
The semiconductor bare chip of the transistor Tr1 also has a square shape, a collector electrode provided on the lower surface thereof is fixed to a connection land using a conductive adhesive, and a base electrode and an emitter electrode are wire-bonded to predetermined portions of the conductive pattern P. Have been. Similarly to the end face electrode 3 described above, a Ni base plating layer and an Au plating layer are sequentially laminated on these connection lands. Here, as shown in FIG. 7A or 7B, the area of the connection land 5 is formed to be smaller than the lower area of the semiconductor bare chip 4, and by adopting such a configuration, the semiconductor bare chip 4
, A reservoir of the conductive adhesive is secured below the semiconductor chip 4, so that an accident that the conductive adhesive protrudes from the outer shape of the semiconductor bare chip 4 and short-circuits with the surrounding conductive pattern P can be prevented beforehand. Further, an opening 5a is provided in the connection land 5, and since an excess of the conductive adhesive is accumulated in the opening 5a, it is possible to more reliably prevent the conductive adhesive from protruding. .

【0024】次に、上記の如く構成された電子回路ユニ
ットの製造工程について主として図8を用いて説明す
る。
Next, the manufacturing process of the electronic circuit unit configured as described above will be described mainly with reference to FIG.

【0025】まず、図8(a)に示すように、アルミナ
基板1の表面全体にTaSiO2等をスパッタリングした後、
これを所望形状にエッチングして抵抗膜6を形成するこ
とにより、抵抗R1〜R3に相当する部分が構成され
る。次に、図8(b)に示すように、抵抗膜6の上から
CrやCu等をスパッタリングし、これを所望形状にエ
ッチングして下部電極7を形成した後、図8(c)に示
すように、下部電極7の上からSiO2等をスパッタリング
し、これを所望形状にエッチングして誘電体膜8を形成
する。次に、図8(d)に示すように、誘電体膜8の上
からCrやCu等をスパッタリングした後、これを所望
形状にエッチングして上部電極9を形成する。その結
果、下部電極7または上部電極9によって導電パターン
Pとインダクタンス素子L1〜L3および導電路S1,
S2に相当する部分が構成され、下部電極7と誘電体膜
8および上部電極9の積層体によってコンデンサC1〜
C7に相当する部分が構成される。次に、インダクタン
ス素子L1〜L3と導電路S1,S2およびコンデンサ
C1〜C7に相当する部分の表面にCu層をメッキまた
は薄膜技術で形成した後、図8(e)に示すように、導
電パターンPを除く部分に保護膜10を形成する。次
に、図8(f)に示すように、アルミナ基板1の裏面全
体にCrやCu等をスパッタリングした後、これを所望
形状にエッチングして背面電極11を形成することによ
り、裏面側の導電パターンP1に相当する部分が構成さ
れる。
First, as shown in FIG. 8A, after sputtering the whole surface of the alumina substrate 1 with TaSiO 2 or the like,
This is etched into a desired shape to form the resistive film 6, thereby forming a portion corresponding to the resistors R1 to R3. Next, as shown in FIG. 8B, Cr or Cu or the like is sputtered from above the resistive film 6, and is etched into a desired shape to form the lower electrode 7, and then as shown in FIG. As described above, SiO 2 or the like is sputtered from above the lower electrode 7 and is etched into a desired shape to form the dielectric film 8. Next, as shown in FIG. 8D, after sputtering Cr, Cu, or the like from above the dielectric film 8, this is etched into a desired shape to form the upper electrode 9. As a result, the conductive pattern P and the inductance elements L1 to L3 and the conductive paths S1,
A portion corresponding to S2 is formed, and a laminate of the lower electrode 7, the dielectric film 8, and the upper electrode 9 forms the capacitors C1 to C1.
A portion corresponding to C7 is configured. Next, after a Cu layer is formed on the surfaces of the portions corresponding to the inductance elements L1 to L3, the conductive paths S1 and S2, and the capacitors C1 to C7 by plating or thin film technology, as shown in FIG. The protective film 10 is formed in a portion excluding P. Next, as shown in FIG. 8 (f), after sputtering Cr, Cu, or the like on the entire back surface of the alumina substrate 1, this is etched into a desired shape to form the back electrode 11, whereby the conductive material on the back surface side is formed. A portion corresponding to the pattern P1 is configured.

【0026】なお、以上説明した図8(a)〜(f)の
工程は、縦横に格子状に延びる分割溝が刻設されたアル
ミナ材からなる大版基板に対して行なわれ、以下に説明
する図8(g)〜(j)の工程は、この大版基板を一方
向の分割溝に沿って切断することで得られる短冊状の分
割片に対して行なわれる。
The steps shown in FIGS. 8A to 8F described above are performed on a large-sized substrate made of an alumina material in which divisional grooves extending in a grid pattern are cut in the vertical and horizontal directions. The steps shown in FIGS. 8G to 8J are performed on the strip-shaped divided pieces obtained by cutting the large-sized substrate along the dividing grooves in one direction.

【0027】すなわち、大版基板を短冊状の分割片に切
断した後、図8(g)に示すように、この分割片の切断
面であるアルミナ基板1の両端面にAg層12を厚膜形
成し、アルミナ基板1の表裏両面に設けられた導電パタ
ーンP,P1の接地用電極(GND)と入力用電極(V
cc,Vctl,RFin)および出力用電極(RFout)同志
をAg層12で導通する。このAg層12は前述した端
面電極3のAg厚膜層に相当し、ガラス成分を含まない
Agペーストからなる低温焼成材である。なお、かかる
Ag層12の厚膜形成工程を1つの短冊状分割片に対し
て行なうことも可能であるが、複数の分割片を若干の隙
間を存して重ね合わせた状態にすれば、Ag層12を複
数の分割片に対して同時に厚膜形成することができ、大
量生産に好適となる。次に、Ag層12と半導体ベアチ
ップが搭載される接続ランドの各表面にNi下地層とA
u層を順次メッキした後、図8(h)に示すように、各
接続ランド上にダイオードD1とトランジスタTr1の
半導体ベアチップをクリーム半田や導電ペースト等の導
電性接着剤を用いて固定する。この場合、前述したよう
に、半導体ベアチップの下面積に対して接続ランドの面
積が小さく形成されているため、導電性接着剤の半導体
ベアチップからのはみ出しが防止され、導電性接着剤が
半導体ベアチップの周囲の導電パターンPと不所望に短
絡しないようになっている。次に、図8(i)に示すよ
うに、各半導体ベアチップを導電パターンPの所定部位
にワイヤーボンディングした後、図8(j)に示すよう
に、エミッタ抵抗である抵抗R3をトリミングして出力
調整すると共に、調整用導電パターンであるインダクタ
ンス素子L3をトリミングして共振周波数を調整する。
この場合、共振周波数の調整は個々のアルミナ基板1に
分割する前の短冊状分割片の状態で行なわれ、各アルミ
ナ基板1の隅部に接地用電極(GND)が設けられてい
るため、隣接するアルミナ基板1に設けられた入力用電
極(Vcc,Vctl,RFin)および出力用電極(RFou
t)間に必ず接地用電極(GND)が位置することにな
り、共振周波数の調整が隣接するアルミナ基板1の回路
へ悪影響を及ぼさないようになっている。
That is, after cutting the large-sized substrate into strip-shaped divided pieces, as shown in FIG. 8 (g), a thick Ag layer 12 is formed on both end faces of the alumina substrate 1, which are cut surfaces of the divided pieces. The grounding electrode (GND) and the input electrode (V) of the conductive patterns P, P1 provided on the front and back surfaces of the alumina substrate 1 are formed.
(cc, Vctl, RFin) and the output electrode (RFout) are conducted through the Ag layer 12. The Ag layer 12 corresponds to the Ag thick film layer of the end face electrode 3 described above, and is a low-temperature fired material made of an Ag paste containing no glass component. Note that the thick film forming step of the Ag layer 12 can be performed on one strip-shaped divided piece. However, when a plurality of divided pieces are overlapped with a slight gap therebetween, Ag can be obtained. The layer 12 can be simultaneously formed into a thick film on a plurality of divided pieces, which is suitable for mass production. Next, on each surface of the connection land on which the Ag layer 12 and the semiconductor bare chip are mounted, a Ni underlayer and an A
After the u layers are sequentially plated, as shown in FIG. 8 (h), the diode D1 and the semiconductor bare chip of the transistor Tr1 are fixed on each connection land using a conductive adhesive such as cream solder or conductive paste. In this case, as described above, since the area of the connection land is formed smaller than the lower area of the semiconductor bare chip, the conductive adhesive is prevented from protruding from the semiconductor bare chip, and the conductive adhesive is applied to the semiconductor bare chip. Undesired short circuit with the surrounding conductive pattern P is prevented. Next, as shown in FIG. 8 (i), after each semiconductor bare chip is wire-bonded to a predetermined portion of the conductive pattern P, as shown in FIG. 8 (j), a resistor R3 which is an emitter resistor is trimmed and output. At the same time, the resonance frequency is adjusted by trimming the inductance element L3, which is an adjustment conductive pattern.
In this case, the adjustment of the resonance frequency is performed in the state of the strip-shaped divided pieces before being divided into the individual alumina substrates 1, and the grounding electrodes (GND) are provided at the corners of each alumina substrate 1. Electrodes (Vcc, Vctl, RFin) and output electrodes (RFou
The ground electrode (GND) is always located during t), so that the adjustment of the resonance frequency does not adversely affect the circuit of the adjacent alumina substrate 1.

【0028】次いで、短冊状分割片の個々のアルミナ基
板1にシールドカバー2を取付け、該シールドカバー2
の脚片2aを接地用電極(GND)に導通する端面電極
3に半田付けた後、分割片を他方の分割溝に沿って個々
のアルミナ基板1に細分割することにより、図1に示す
ような電子回路ユニットが得られる。
Next, a shield cover 2 is attached to each of the alumina substrates 1 of the strip-shaped divided pieces.
By soldering the leg piece 2a to the end face electrode 3 conducting to the ground electrode (GND), the divided piece is subdivided into the individual alumina substrates 1 along the other divided groove, as shown in FIG. A simple electronic circuit unit is obtained.

【0029】このように構成された上記実施形態例に係
る電子回路ユニットによれば、アルミナ基板1上にコン
デンサC1〜C7、抵抗R1〜R3、インダクタンス素
子L1〜L3、導電路S1,S2等の回路素子とこれら
回路素子に接続される導電パターンPとを薄膜形成する
と共に、このアルミナ基板1上にダイオードD1とトラ
ンジスタTr1の半導体ベアチップをワイヤーボンディ
ングし、かつ、アルミナ基板1の側面に導電パターンの
接地用電極と入出力用電極に接続される端面電極3を設
けたため、必要とされる回路構成素子を薄膜技術と半導
体素子のワイヤーボンディングとを用いてアルミナ基板
1上に高密度に実装でき、小型化に好適な面実装タイプ
の電子回路ユニットを実現することができる。また、ア
ルミナ基板1上に薄膜形成した一対の導電路S1,S2
によって不平衡/平衡変換回路を構成したため、両導電
路S1,S2間のギャップを狭くして所望の結合度を確
保することができ、この点からも電子回路ユニットの小
型化に有利となる。
According to the electronic circuit unit according to the above-described embodiment, the capacitors C1 to C7, the resistors R1 to R3, the inductance elements L1 to L3, and the conductive paths S1 and S2 are formed on the alumina substrate 1. A circuit element and a conductive pattern P connected to these circuit elements are formed as a thin film, a diode D1 and a semiconductor bare chip of a transistor Tr1 are wire-bonded on the alumina substrate 1, and a conductive pattern is formed on the side surface of the alumina substrate 1. Since the end face electrode 3 connected to the grounding electrode and the input / output electrode is provided, required circuit components can be mounted on the alumina substrate 1 at a high density using thin film technology and semiconductor device wire bonding. A surface-mount type electronic circuit unit suitable for downsizing can be realized. A pair of conductive paths S1, S2 formed as a thin film on the alumina substrate 1
Since the unbalanced / balanced conversion circuit is formed by this, the gap between the two conductive paths S1 and S2 can be narrowed to secure a desired degree of coupling, which is also advantageous for miniaturization of the electronic circuit unit.

【0030】なお、上記実施形態例では、不平衡/平衡
変換回路を構成する一対の導電路S1,S2をアルミナ
基板1の同一面上に薄膜形成した場合について説明した
が、コンデンサC1〜C7の構成と同様に、一対の導電
路S1,S2をアルミナ基板1上にSiO2等の絶縁物を介
して積層することも可能であり、このようにすると、ア
ルミナ基板1上に占める両導電路の設置スペースをより
一層狭めることができる。
In the above-described embodiment, the case where the pair of conductive paths S1 and S2 constituting the unbalanced / balanced conversion circuit are formed as a thin film on the same surface of the alumina substrate 1 has been described. Similarly to the configuration, a pair of conductive paths S1 and S2 can be laminated on the alumina substrate 1 with an insulator such as SiO 2 interposed therebetween. The installation space can be further reduced.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
The present invention is embodied in the form described above and has the following effects.

【0032】アルミナ基板上にコンデンサおよび抵抗を
含む回路素子と導電パターンとを薄膜形成すると共に、
このアルミナ基板上に半導体素子のベアチップをワイヤ
ーボンディングし、かつ、アルミナ基板上に一対の導電
路からなるインダクタンス素子を薄膜形成して不平衡/
平衡変換回路を構成したため、アルミナ基板上に必要と
される回路部品を高密度に実装できるのみならず、不平
衡/平衡変換回路を構成する両導電路間のギャップを狭
くして所望の結合度を確保することができ、電子回路ユ
ニットの小型化を図ることができる。
A circuit element including a capacitor and a resistor and a conductive pattern are formed on an alumina substrate in a thin film.
A bare chip of a semiconductor element is wire-bonded on this alumina substrate, and an inductance element composed of a pair of conductive paths is formed as a thin film on the alumina substrate to form an unbalanced / unbalanced chip.
Since the balanced conversion circuit is formed, not only can the required circuit components be mounted on the alumina substrate with high density, but also the gap between both conductive paths forming the unbalanced / balanced conversion circuit can be narrowed to achieve a desired degree of coupling. , And the size of the electronic circuit unit can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態例に係る電子回路ユニットの
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of an electronic circuit unit according to an embodiment of the present invention.

【図2】回路構成レイアウトを示すアルミナ基板の平面
図である。
FIG. 2 is a plan view of an alumina substrate showing a circuit configuration layout.

【図3】アルミナ基板の裏面図である。FIG. 3 is a rear view of the alumina substrate.

【図4】回路構成の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a circuit configuration.

【図5】端面電極を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing an end face electrode.

【図6】端面電極の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of an end face electrode.

【図7】半導体ベアチップと接続ランドの関係を示す説
明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship between a semiconductor bare chip and connection lands.

【図8】電子回路ユニットの製造工程を示す説明図であ
る。
FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating a manufacturing process of the electronic circuit unit.

【図9】他の回路構成の説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of another circuit configuration.

【図10】他の回路構成レイアウトを示すアルミナ基板
の平面図である。
FIG. 10 is a plan view of an alumina substrate showing another circuit configuration layout.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アルミナ基板 2 シールドカバー 3 端面電極 4 半導体ベアチップ 5 接続ランド 5a 開口 6 抵抗膜 7 下部電極 8 誘電体膜 9 上部電極 10 保護膜 11 背面電極 12 Ag層 C1〜C7 コンデンサ R1〜R3 抵抗 L1〜L3 インダクタンス素子 Tr1,Tr2 トランジスタ S1,S2 導電路 P,P1 導電パターン SL 接続ランド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Alumina substrate 2 Shield cover 3 End face electrode 4 Semiconductor bare chip 5 Connection land 5a Opening 6 Resistive film 7 Lower electrode 8 Dielectric film 9 Upper electrode 10 Protective film 11 Back electrode 12 Ag layer C1-C7 Capacitors R1-R3 Resistance L1-L3 Inductance element Tr1, Tr2 Transistor S1, S2 Conductive path P, P1 Conductive pattern SL Connection land

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−51179(JP,A) 特開 平7−106811(JP,A) 特開 平5−251629(JP,A) 特開 平5−36857(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 25/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-8-51179 (JP, A) JP-A-7-106811 (JP, A) JP-A-5-251629 (JP, A) JP-A-5-251629 36857 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 25/00

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アルミナ基板上にコンデンサおよび抵抗
を含む回路素子とこれら回路素子に接続される導電パタ
ーンとを薄膜形成し、前記アルミナ基板上に半導体ベア
チップを搭載すると共に、この半導体ベアチップを前記
導電パターンにワイヤーボンディングし、かつ、前記ア
ルミナ基板上に所定間隔を存して対向する一対の導電路
からなるインダクタンス素子を薄膜形成し、このインダ
クタンス素子によって不平衡/平衡変換回路を構成した
ことを特徴とする電子回路ユニット。
1. A circuit element including a capacitor and a resistor and a conductive pattern connected to these circuit elements are formed in a thin film on an alumina substrate, and a semiconductor bare chip is mounted on the alumina substrate. The method is characterized in that an inductance element composed of a pair of conductive paths facing each other at a predetermined interval is formed on the alumina substrate by wire bonding to a pattern, and an unbalanced / balanced conversion circuit is formed by the inductance element. Electronic circuit unit.
【請求項2】 請求項1の記載において、前記一対の導
電路を前記アルミナ基板の同一面上に形成したことを特
徴とする電子回路ユニット。
2. The electronic circuit unit according to claim 1, wherein said pair of conductive paths are formed on the same surface of said alumina substrate.
【請求項3】 請求項1または2の記載において、前記
一対の導電路を前記アルミナ基板上に絶縁物を介して積
層したことを特徴とする電子回路ユニット。
3. The electronic circuit unit according to claim 1, wherein the pair of conductive paths are laminated on the alumina substrate via an insulator.
【請求項4】 請求項1から3のいずれかの記載におい
て、前記一対の導電路を渦巻き状あるいはジグザグ状に
形成したことを特徴とする電子回路ユニット。
4. The electronic circuit unit according to claim 1, wherein the pair of conductive paths are formed in a spiral shape or a zigzag shape.
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