JP2001345639A - Voltage controlled oscillator - Google Patents

Voltage controlled oscillator

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JP2001345639A
JP2001345639A JP2000166122A JP2000166122A JP2001345639A JP 2001345639 A JP2001345639 A JP 2001345639A JP 2000166122 A JP2000166122 A JP 2000166122A JP 2000166122 A JP2000166122 A JP 2000166122A JP 2001345639 A JP2001345639 A JP 2001345639A
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JP
Japan
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electrode
conductive pattern
alumina substrate
circuit
controlled oscillator
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Application number
JP2000166122A
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Japanese (ja)
Inventor
Akiyuki Yoshisato
彰之 善里
Akihiko Inoue
明彦 井上
Kazuhiko Ueda
和彦 植田
Hiroshi Sakuma
博 佐久間
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Inductance-Capacitance Distribution Constants And Capacitance-Resistance Oscillators (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface mount voltage controlled oscillator suitable for size reduction. SOLUTION: Circuit elements, including capacitors C1-C10, resistors R1-R4, and inductance elements L1-L4, and a conductive pattern P connected with these circuit elements are formed in thin film on an alumia substrate 1. Semiconductor bare chips, i.e., a diode D1 and transistors Tr1, Tr2, are then wire bonded to the connection lands of the conductive pattern P and an end face electrode 3 being connected with the ground electrode, the input electrode and the output electrode of the conductive pattern P is provided on the side face of the alumia substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、携帯電話等の無線
通信機器に組み込まれて使用される面実装タイプの電圧
制御発振器(VCO)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface mount type voltage controlled oscillator (VCO) which is used in a wireless communication device such as a portable telephone.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より知られている電圧制御発振器
は、基板上に設けられた導電パターンの半田ランドに共
振回路と発振回路およびバッファ回路の各回路部品を半
田付けし、これら回路部品をシールドカバーで覆うよう
に概略構成されている。基板は多層基板にて構成され、
内層部に接地導体に挟まれてマイクロストリップライン
が設けられている。共振回路は該マイクロストリップラ
インとダイオードとチップコンデンサおよびインダクタ
の回路部品で構成され、これらの部品は基板に設けられ
たスルーホールと導電パターンを介して接続されてい
る。また、発振回路はトランジスタとチップ抵抗とチッ
プコンデンサおよびインダクタの回路部品で構成され、
同様にバッファ回路もトランジスタとチップ抵抗とチッ
プコンデンサおよびインダクタの回路部品で構成され、
これらの部品は導電パターンを介して接続されている。
そして、基板の側面に端面電極が設けられており、電圧
制御発振器を母基板上に面実装する際、端面電極は母基
板の半田ランドに半田付けされるようになっている。
2. Description of the Related Art A conventionally known voltage controlled oscillator solders each circuit component of a resonance circuit, an oscillation circuit and a buffer circuit to a solder land of a conductive pattern provided on a substrate, and shields these circuit components. It is schematically configured to be covered with a cover. The board is composed of a multilayer board,
A microstrip line is provided in the inner layer portion between the ground conductors. The resonance circuit is composed of circuit components such as the microstrip line, the diode, the chip capacitor, and the inductor, and these components are connected to a through hole provided on the substrate through a conductive pattern. The oscillation circuit is composed of transistor, chip resistor, chip capacitor and inductor circuit components.
Similarly, the buffer circuit is composed of circuit components such as transistors, chip resistors, chip capacitors, and inductors.
These components are connected via a conductive pattern.
An end surface electrode is provided on a side surface of the substrate. When the voltage controlled oscillator is surface-mounted on the motherboard, the end surface electrode is soldered to a solder land of the motherboard.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで近年、チップ
部品やトランジスタ等の回路部品を小形化する技術は著
しく進歩しており、例えば外形寸法を0.6×0.3mm程度ま
で小形化した超小形のチップ抵抗やチップコンデンサが
実用化され、トランジスタやダイオード等の半導体部品
の外形寸法も小形化されつつある。したがって、前述し
た従来技術においても、このような小形のチップ部品や
半導体部品を使用し、これらの回路部品をその部品間ピ
ッチを狭めた状態で基板上に実装すれば、電圧制御発振
器をある程度までは小型化することが可能となる。しか
しながら、チップ部品や半導体部品等の回路部品の小形
化には限界があり、しかも、多数の回路部品を基板上に
実装する際に、各回路部品の半田付け部分が短絡しない
ようにしなければならないため、部品間ピッチを狭める
のにも限界があり、これらのことが電圧制御発振器の更
なる小型化を妨げる大きな要因となっていた。
In recent years, techniques for miniaturizing circuit components such as chip components and transistors have been remarkably advanced. For example, an ultra-small chip resistor whose external dimensions have been reduced to about 0.6 × 0.3 mm has been developed. And chip capacitors have been put into practical use, and the external dimensions of semiconductor components such as transistors and diodes have also been reduced in size. Therefore, even in the prior art described above, if such a small chip component or semiconductor component is used and these circuit components are mounted on a substrate with a reduced pitch between the components, the voltage controlled oscillator can be increased to some extent. Can be reduced in size. However, there is a limit to the miniaturization of circuit components such as chip components and semiconductor components, and furthermore, when mounting a large number of circuit components on a substrate, it is necessary to prevent short-circuiting of the soldered portion of each circuit component. Therefore, there is a limit in narrowing the pitch between components, and these are major factors that hinder further miniaturization of the voltage controlled oscillator.

【0004】本発明は、このような従来技術の実情に鑑
みてなされたもので、その目的は、小型化に好適な面実
装タイプの電圧制御発振器を提供することにある。
[0004] The present invention has been made in view of such a situation of the prior art, and an object of the present invention is to provide a surface mount type voltage controlled oscillator suitable for miniaturization.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の電圧制御発振器では、導電パターンが膜
形成されたアルミナ基板上にトランジスタとダイオード
の半導体ベアチップが搭載され、これら半導体ベアチッ
プが前記導電パターンにワイヤーボンディングされると
共に、前記アルミナ基板の側面に前記導電パターンに接
続する端面電極が設けられているように構成した。
In order to achieve the above object, in a voltage controlled oscillator according to the present invention, a semiconductor bare chip of a transistor and a diode is mounted on an alumina substrate on which a conductive pattern is formed. Is wire-bonded to the conductive pattern, and an end face electrode connected to the conductive pattern is provided on a side surface of the alumina substrate.

【0006】このような構成によれば、VCO回路に必
要とされる回路部品のうち少なくとも、トランジスタと
ダイオードの半導体素子が、半導体ベアチップをアルミ
ナ基板上に膜形成した導電パターンにワイヤーボンディ
ングされているため、これら半導体素子をアルミナ基板
上に高密度に実装することができ、小型化に好適な面実
装タイプの電圧制御発振器を実現することができる。
According to such a configuration, at least the semiconductor elements of the transistor and the diode among the circuit components required for the VCO circuit are wire-bonded to the conductive pattern in which the semiconductor bare chip is formed on the alumina substrate. Therefore, these semiconductor elements can be mounted at a high density on an alumina substrate, and a surface mount type voltage controlled oscillator suitable for miniaturization can be realized.

【0007】上記の構成において、アルミナ基板上にコ
ンデンサと抵抗およびインダクタンス素子を含む回路素
子を膜形成し、これら回路素子を導電パターンに接続す
ることが好ましく、このようにすると、半導体素子のワ
イヤーボンディングと回路素子の成膜技術とを用いて、
アルミナ基板上に必要とされる回路部品を高密度に実装
することができる。
In the above structure, it is preferable that a film of a circuit element including a capacitor, a resistor, and an inductance element is formed on an alumina substrate, and the circuit element is connected to a conductive pattern. And circuit element film forming technology,
Necessary circuit components can be mounted on the alumina substrate at high density.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態例につい
て図面を参照して説明すると、図1は電圧制御発振器の
斜視図、図2は回路構成レイアウトを示すアルミナ基板
の平面図、図3はアルミナ基板の裏面図、図4はVCO
回路の説明図、図5は端面電極を示す斜視図、図6は端
面電極の断面図、図7は半導体ベアチップと接続ランド
の関係を示す説明図、図8は電圧制御発振器の製造工程
を示す説明図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a voltage controlled oscillator, FIG. 2 is a plan view of an alumina substrate showing a circuit configuration layout, and FIG. Is a back view of the alumina substrate, and FIG. 4 is a VCO
FIG. 5 is a perspective view showing an end face electrode, FIG. 6 is a sectional view of the end face electrode, FIG. 7 is an explanatory view showing a relationship between a semiconductor bare chip and connection lands, and FIG. 8 shows a manufacturing process of a voltage controlled oscillator. FIG.

【0009】図1に示すように、本実施形態例に係る電
圧制御発振器(VCO)は、後述するVCO回路の回路
構成素子を搭載したアルミナ基板1と、このアルミナ基
板1に取付けられたシールドカバー2とで構成されてお
り、携帯電話等の母基板(図示せず)に半田付けされる
面実装部品となっている。アルミナ基板1は方形平板状
に形成されており、大版基板を短冊状の分割片に切断し
た後、この分割片をさらに細分割することによって得ら
れる。シールドカバー2は金属板を箱形に折り曲げ加工
したもので、アルミナ基板1上の回路構成素子はこのシ
ールドカバー2によって覆われている。
As shown in FIG. 1, a voltage controlled oscillator (VCO) according to an embodiment of the present invention includes an alumina substrate 1 on which circuit components of a VCO circuit described later are mounted, and a shield cover attached to the alumina substrate 1. 2 and is a surface-mounted component to be soldered to a motherboard (not shown) of a mobile phone or the like. The alumina substrate 1 is formed in a rectangular flat plate shape. The alumina substrate 1 is obtained by cutting a large-sized substrate into strip-shaped divided pieces, and further subdividing the divided pieces. The shield cover 2 is formed by bending a metal plate into a box shape, and circuit components on the alumina substrate 1 are covered with the shield cover 2.

【0010】図2に示すように、アルミナ基板1の表面
にはVCO回路の回路構成素子とそれらを接続する導電
パターンが設けられており、また、図3に示すように、
アルミナ基板1の裏面には背面電極としての導電パター
ンが設けられている。本実施形態例に係るVCO回路は
図4に示すような回路構成となっており、図2に示され
る各回路構成素子には図4の回路図に対応する符号を付
してある。ただし、図4はVCO回路の一例を示すもの
であり、本発明はこれ以外のVCO回路にも適用可能で
ある。
As shown in FIG. 2, circuit components of the VCO circuit and a conductive pattern for connecting them are provided on the surface of the alumina substrate 1. As shown in FIG.
On the back surface of the alumina substrate 1, a conductive pattern as a back electrode is provided. The VCO circuit according to the present embodiment has a circuit configuration as shown in FIG. 4, and each circuit component shown in FIG. 2 is denoted by a reference numeral corresponding to the circuit diagram in FIG. However, FIG. 4 shows an example of the VCO circuit, and the present invention can be applied to other VCO circuits.

【0011】図4に示すように、VCO回路は共振回路
と発振回路およびバッファ回路からなり、これらの回路
構成素子であるコンデンサC1〜C10、抵抗R1〜R
4、インダクタンス素子L1〜L4、ダイオードD1、
トランジスタTr1,Tr2、導電路S1,S2、およ
び各回路構成素子を接続する導電パターンはアルミナ基
板1の表面に設けられている。この導電パターンは例え
ばCrやCu等をスパッタリング等の薄膜技術を用いて
形成したもので、図2中には符号Pを付してハッチング
によって表されている。
As shown in FIG. 4, the VCO circuit includes a resonance circuit, an oscillation circuit, and a buffer circuit.
4, inductance elements L1 to L4, diode D1,
The conductive patterns connecting the transistors Tr1 and Tr2, the conductive paths S1 and S2, and each circuit component are provided on the surface of the alumina substrate 1. This conductive pattern is formed, for example, of Cr, Cu, or the like by using a thin film technique such as sputtering, and is denoted by a symbol P in FIG.

【0012】図2に示すように、アルミナ基板1の端部
にはVCO回路の接地用電極(GND)と入力用電極
(Vcc,Vctl)および出力用電極(FRout)が形成さ
れており、これらは導電パターンPの一部によって構成
されている。接地用電極と入力用電極(Vcc,Vctl)
および出力用電極(FRout)は方形状のアルミナ基板
1の相対向する2つの長辺側にのみ形成され、それ以外
の相対向する2つの短辺側には形成されていない。すな
わち、アルミナ基板1の一方の長辺側の両隅部(コー
ナ)と中央部の3箇所にGND電極が形成され、これら
GND電極の間にVcc電極とVctl電極が形成されてい
る。また、アルミナ基板1の他方の長辺側の両隅部とそ
の近傍の3箇所にGND電極が形成され、これらGND
電極の間に2つのFRout電極が形成されている。な
お、後述するように、アルミナ基板1の2つの長辺は大
版基板を短冊状の分割片に切断したときの分割線に対応
し、アルミナ基板1の2つの短辺はこの分割片をさらに
細分割したときの分割線に対応する。
As shown in FIG. 2, a ground electrode (GND), input electrodes (Vcc, Vctl), and an output electrode (FRout) of a VCO circuit are formed at the end of the alumina substrate 1. Is constituted by a part of the conductive pattern P. Grounding electrode and input electrode (Vcc, Vctl)
The output electrode (FRout) is formed only on two long sides facing each other of the rectangular alumina substrate 1, and is not formed on the other two short sides facing each other. In other words, GND electrodes are formed at three places at both corners (corners) on one long side of the alumina substrate 1 and at the center, and a Vcc electrode and a Vctl electrode are formed between these GND electrodes. In addition, GND electrodes are formed at both corners on the other long side of the alumina substrate 1 and three places near the corners.
Two FRout electrodes are formed between the electrodes. As will be described later, the two long sides of the alumina substrate 1 correspond to the dividing lines when the large-sized substrate is cut into strip-shaped divided pieces, and the two short sides of the alumina substrate 1 further connect the divided pieces. It corresponds to the division line when subdividing.

【0013】一方、図3に示すように、アルミナ基板1
の裏面に設けられた導電パターンP1(背面電極)はそ
れぞれの接地用電極(GND)と入力用電極(Vcc,V
ctl)および出力用電極(FRout)に対向しており、図
5と図6に示すように、両者は端面電極3を介して導通
されている。この端面電極3はAg厚膜層の上にNi下
地メッキ層とAuメッキ層を順次積層したもので、最下
層のAg厚膜層は、ガラス成分を含まないAgペースト
を厚膜形成した後、これを200°C程度で焼成した低
温焼成材からなる。また、中間層のNi下地メッキ層は
Auメッキ層の付着を容易にするもので、最上層のAu
メッキ層は、端面電極3を図示せぬ母基板の半田ランド
に半田付けした際に、最下層のAgが半田に析出するの
を防止するためのものである。そして、シールドカバー
2がアルミナ基板1に取付けられた電圧制御発振器の完
成品において、シールドカバー2の側面に折り曲げ形成
された脚片2aが接地用電極(GND)と導通する端面
電極3に半田付けされており、シールドカバー2はアル
ミナ基板1の4隅で接地された状態となる。
On the other hand, as shown in FIG.
The conductive pattern P1 (rear electrode) provided on the back surface of each of the ground electrodes (GND) and the input electrodes (Vcc, V
ctl) and the output electrode (FRout), and both are electrically connected via the end face electrode 3 as shown in FIGS. The end face electrode 3 is obtained by sequentially laminating a Ni base plating layer and an Au plating layer on an Ag thick film layer. The lowermost Ag thick film layer is formed by forming a thick Ag paste containing no glass component. It is made of a low-temperature fired material fired at about 200 ° C. Further, the Ni underlayer plating layer of the intermediate layer facilitates adhesion of the Au plating layer, and the uppermost Au layer is used.
The plating layer is for preventing the lowermost layer of Ag from depositing on the solder when the end face electrode 3 is soldered to a solder land on a mother substrate (not shown). Then, in the completed product of the voltage-controlled oscillator in which the shield cover 2 is attached to the alumina substrate 1, the leg 2 a bent and formed on the side surface of the shield cover 2 is soldered to the end face electrode 3 which is electrically connected to the ground electrode (GND). The shield cover 2 is grounded at the four corners of the alumina substrate 1.

【0014】VCO回路の各回路構成素子のうち、コン
デンサC1〜C10は下部電極の上にSiO2等の誘電体膜
を介して上部電極を積層したもので、これらはスパッタ
リング等を用いて薄膜形成されている。上部電極の表面
にはCu層が設けられており、このCu層によって共振
回路のQが高められている。コンデンサC1〜C10の
下部電極と上部電極は導電パターンPに接続されてお
り、図2に示すように、コンデンサC8とVcc電極間の
導電パターンP、コンデンサC8とRFout電極間の導
電パターンP、コンデンサC10とVctl電極間の導電
パターンPには、それ放電用の近接部(エアーギャッ
プ)Gが形成されている。この近接部Gは互いに対向す
る導電パターンPとGND電極、または互いに対向して
並設された一対の導電パターンPのそれぞれに設けられ
た突部によって構成されており、両突部の尖端同士は所
定のギャップを存して対向している。この場合、導電パ
ターンPとGND電極の寸法精度はいずれも薄膜技術に
より高くなるため、近接部Gのギャップ寸法を狭めるこ
とができ、低電圧での放電が可能となっている。また、
各コンデンサC1〜C10のうち、コンデンサC1〜C
4とC6およびC7は単純な方形状に形成されている
が、コンデンサC5とC8〜C10については2つの方
形を組み合わせた異形状に形成されている。すなわち、
コンデンサC5とC8およびC10は1つの方形の一辺
から別の方形をずらして突出させた形状であり、コンデ
ンサC9は2つの方形をL字状に連続させた形状になっ
ている。コンデンサC1〜C10の一部(または全部)
をこのような異形状にすると、アルミナ基板1上の限ら
れたスペースが有効利用され、所望の容量値のコンデン
サを高密度実装することができる。
Among the circuit components of the VCO circuit, the capacitors C1 to C10 are formed by laminating an upper electrode on a lower electrode via a dielectric film such as SiO 2 , and these are formed as thin films by sputtering or the like. Have been. A Cu layer is provided on the surface of the upper electrode, and the Q of the resonance circuit is enhanced by the Cu layer. The lower and upper electrodes of the capacitors C1 to C10 are connected to a conductive pattern P. As shown in FIG. 2, the conductive pattern P between the capacitor C8 and the Vcc electrode, the conductive pattern P between the capacitor C8 and the RFout electrode, An adjacent portion (air gap) G for discharge is formed in the conductive pattern P between C10 and the Vctl electrode. The adjacent portion G is constituted by a protruding portion provided on each of the conductive pattern P and the GND electrode facing each other or a pair of conductive patterns P arranged side by side on each other. They face each other with a predetermined gap. In this case, since the dimensional accuracy of both the conductive pattern P and the GND electrode is improved by the thin film technology, the gap dimension of the adjacent portion G can be narrowed, and discharge at a low voltage is possible. Also,
Among the capacitors C1 to C10, the capacitors C1 to C10
4, C6 and C7 are formed in a simple square shape, but the capacitors C5 and C8 to C10 are formed in different shapes combining two squares. That is,
The capacitors C5, C8, and C10 have a shape in which another rectangle is shifted from one side of one rectangle and protrude, and the capacitor C9 has a shape in which two rectangles are connected in an L-shape. Part (or all) of capacitors C1 to C10
With such an irregular shape, a limited space on the alumina substrate 1 is effectively used, and a capacitor having a desired capacitance value can be mounted at a high density.

【0015】さらに、各コンデンサC1〜C10のう
ち、コンデンサC9は2つの接地用コンデンサで構成さ
れており、両者は互いに分離された一対の導電パターン
Pを介して並列接続されている。すなわち、図2に示す
ように、方形状に形成された接地用コンデンサC9とL
字状に形成された接地用コンデンサC9は、それぞれ各
一方の電極部はGND電極に繋がる導電パターンPに接
続されているが、各他方の電極部は互いに分離された別
々の導電パターンPを介して発振用トランジスタTr1
のコレクタ電極に接続されている。図4から明らかなよ
うに、コンデンサC9は発振用トランジスタTr1のコ
レクタと接地間に設けられており、このコンデンサC9
の容量値は互いに分離された一対の導電パターンPを介
して並列接続された2つの接地用コンデンサによって設
定されることになる。したがって、トランジスタTr1
のコレクタ電極からコンデンサC9を介して接地に至る
導電パターンP全体のインダクタンスが減少して、接地
用コンデンサC9による接地効果が向上することにな
り、また、各接地用コンデンサC9と各導電パターンP
とによる寄生発振周波数が高くなるため、この周波数を
トランジスタTr1の動作点周波数以上に設定すること
により、寄生振動をなくすことができる。
Further, of the capacitors C1 to C10, the capacitor C9 is constituted by two grounding capacitors, which are connected in parallel via a pair of conductive patterns P separated from each other. That is, as shown in FIG. 2, the grounding capacitors C9 and L
In the grounding capacitor C9 formed in the shape of a letter, each one electrode portion is connected to the conductive pattern P connected to the GND electrode, while each other electrode portion is connected via a separate conductive pattern P separated from each other. Oscillation transistor Tr1
Are connected to the collector electrode. As is clear from FIG. 4, the capacitor C9 is provided between the collector of the oscillation transistor Tr1 and the ground.
Is set by two grounding capacitors connected in parallel via a pair of conductive patterns P separated from each other. Therefore, the transistor Tr1
Of the entire conductive pattern P from the collector electrode to the ground through the capacitor C9, the grounding effect of the grounding capacitor C9 is improved, and each grounding capacitor C9 and each conductive pattern P
Therefore, the parasitic oscillation frequency can be increased by setting this frequency to be equal to or higher than the operating point frequency of the transistor Tr1.

【0016】VCO回路の各回路構成素子のうち、抵抗
R1〜R4は例えばTaSiO2等の抵抗膜をスパッタリング
等の薄膜技術を用いて形成したもので、その表面には必
要に応じてSiO2等の誘電体膜が設けられている。図2に
示すように、4つの抵抗R1〜R4のうち、抵抗R1〜
R3はアルミナ基板1上の互いに近接した位置に薄膜形
成され、残りの抵抗R4は抵抗R1〜R3から離れた位
置に並設して薄膜形成されている。このように抵抗R1
〜R3を近接した位置に薄膜形成してあるため、各抵抗
R1〜R3の抵抗値が所望値に対してバラツキを生じた
としても、抵抗R1〜R3全体のバラツキの比率を同じ
にすることができる。図4から明らかなように、抵抗R
1〜R3は発振用トランジスタTr1と増幅用トランジ
スタTr2のベースバイアス用分圧抵抗であり、(R1
+R2)/(R1+R2+R3)×Vccの電圧がトラン
ジスタTr1のベースに加わり、R1/(R1+R2+
R3)×Vccの電圧がトランジスタTr2のベースに加
わる。ここで、ベースバイアス用分圧抵抗である抵抗R
1〜R3全体のバラツキの比率は前述したように常に同
じであるため、これら抵抗R1〜R3に対する抵抗値の
トリミングは不要となる。一方、抵抗R4は発振用トラ
ンジスタTr1のエミッタ抵抗であり、電流はVcc電極
からトランジスタTr2のコレクタとエミッタを通って
トランジスタTr2のコレクタとエミッタに流れ、さら
に抵抗R4とインダクタンス素子L4を通って接地され
る。ここで、各抵抗R1〜R4のうち、エミッタ抵抗で
ある抵抗R4によるトランジスタTr1,Tr2の増幅
度への寄与が最も大きいため、電流値が一定になるよう
に抵抗R4のみをトリミングして出力調整するようにし
てある。
[0016] Among the circuit components of the VCO circuit, the resistor R1~R4 for example a resistive film such as TaSiO 2 which was formed by using a thin film technology such as sputtering, SiO 2 or the like, if necessary on the surface Is provided. As shown in FIG. 2, among the four resistors R1 to R4,
R3 is formed as a thin film at a position close to each other on the alumina substrate 1, and the remaining resistor R4 is formed as a thin film juxtaposed at a position distant from the resistors R1 to R3. Thus, the resistance R1
Since R3 to R3 are formed close to each other, even if the resistance values of the resistors R1 to R3 vary from a desired value, the ratio of the variation among the resistors R1 to R3 can be made the same. it can. As is clear from FIG.
Reference numerals 1 to R3 denote base bias voltage dividing resistors of the oscillation transistor Tr1 and the amplification transistor Tr2.
+ R2) / (R1 + R2 + R3) × Vcc is applied to the base of the transistor Tr1, and R1 / (R1 + R2 +
R3) × Vcc is applied to the base of the transistor Tr2. Here, a resistor R which is a voltage dividing resistor for base bias is used.
As described above, since the ratio of the variation among all the resistors 1 to R3 is always the same, the trimming of the resistance values of the resistors R1 to R3 becomes unnecessary. On the other hand, the resistor R4 is an emitter resistor of the oscillation transistor Tr1, and a current flows from the Vcc electrode through the collector and the emitter of the transistor Tr2 to the collector and the emitter of the transistor Tr2, and further grounded through the resistor R4 and the inductance element L4. You. Here, among the resistors R1 to R4, since the resistor R4, which is the emitter resistor, has the largest contribution to the amplification of the transistors Tr1 and Tr2, only the resistor R4 is trimmed so that the current value is constant, and the output is adjusted. I have to do it.

【0017】また、VCO回路の各回路構成素子のう
ち、インダクタンス素子L1〜L4と導電路S1,S2
は、CrやCu等をスパッタリング等の薄膜技術を用い
て形成したもので、導電パターンPに接続されている。
各インダクタンス素子L1〜L4の表面にはCu層が設
けられており、このCu層によって共振回路のQが高め
られている。インダクタンス素子L1とL2およびL4
はいずれも角形の渦巻き形状に形成されており、それぞ
れの一端はVctl電極や接地用の導電パターンPにワイ
ヤーボンディングされている。インダクタンス素子L2
は概略の共振周波数を設定する共振周波数設定用であ
り、インダクタンス素子L3はインダクタンス素子L2
の他端に連続している。インダクタンス素子L3は共振
周波数を調整するための調整用導電パターンであり、図
2の破線で示すように、インダクタンス素子L3をトリ
ミングして削ることにより、インダクタンス素子L2の
巻数が増加して共振周波数を調整するようになってい
る。この場合、トリミング後のインダクタンス素子L3
の導体幅がインダクタンス素子L2の導体幅と同じにな
るようにすれば、インダクタンス素子L2とインダクタ
ンス素子L3の特性インピーダンスが変わらなくなり、
C/N比が良好な発振を得ることができる。
Further, among the circuit components of the VCO circuit, the inductance elements L1 to L4 and the conductive paths S1, S2
Is formed of Cr, Cu, or the like by using a thin film technique such as sputtering, and is connected to the conductive pattern P.
A Cu layer is provided on the surface of each of the inductance elements L1 to L4, and the Cu layer enhances the Q of the resonance circuit. Inductance elements L1, L2 and L4
Are formed in a rectangular spiral shape, and one end of each is wire-bonded to a Vctl electrode or a conductive pattern P for grounding. Inductance element L2
Is for setting a resonance frequency for setting an approximate resonance frequency, and the inductance element L3 is an inductance element L2.
Is connected to the other end. The inductance element L3 is an adjustment conductive pattern for adjusting the resonance frequency. As shown by a broken line in FIG. 2, by trimming and cutting the inductance element L3, the number of turns of the inductance element L2 increases and the resonance frequency is reduced. Adjustments are made. In this case, the trimmed inductance element L3
Is made the same as the conductor width of the inductance element L2, the characteristic impedance of the inductance element L2 and the inductance element L3 does not change,
Oscillation with a good C / N ratio can be obtained.

【0018】導電路S1,S2は不平衡信号を平衡信号
に変換して出力する不平衡/平衡変換素子であり、前述
したようにアルミナ基板1上に薄膜形成されている。こ
れら導電路S1,S2はアルミナ基板1上で所定のギャ
ップを介して対向するようにクランク状に形成されてお
り、一方の導電路S1の両端はトランジスタTr2のコ
レクタ電極とコンデンサC8に接続された導電パターン
Pとに接続され、他方の導電路S2の両端は一対のRF
out電極に接続されている。この場合、薄膜形成された
導電路S1,S2の寸法精度が高いため、両導電路S
1,S2間のギャップを狭くして所望の結合度を確保す
ることができ、アルミナ基板1上の限られたスペース内
に小形の不平衡/平衡変換素子を設けることができる。
The conductive paths S1 and S2 are unbalanced / balanced conversion elements for converting an unbalanced signal into a balanced signal and outputting the signal, and are formed as a thin film on the alumina substrate 1 as described above. These conductive paths S1 and S2 are formed in a crank shape so as to face each other with a predetermined gap on the alumina substrate 1, and both ends of one conductive path S1 are connected to the collector electrode of the transistor Tr2 and the capacitor C8. The other end of the other conductive path S2 is connected to a pair of RFs.
connected to out electrode. In this case, since the dimensional accuracy of the conductive paths S1 and S2 formed as a thin film is high, both conductive paths S1 and S2 are formed.
A desired degree of coupling can be ensured by narrowing the gap between S1 and S2, and a small unbalanced / balanced conversion element can be provided in a limited space on the alumina substrate 1.

【0019】また、VCO回路の各回路構成素子のう
ち、ダイオードD1とトランジスタTr1,Tr2は、
アルミナ基板1上に薄膜形成された導電パターンPの接
続ランドに半導体ベアチップを搭載し、該半導体ベアチ
ップを導電パターンPにワイヤーボンディングしたもの
である。すなわち、図2に示すように、ダイオードD1
の半導体ベアチップは角形形状をなし、その下面に設け
られた一方の電極がクリーム半田や導電ペースト等の導
電性接着剤を用いて接続ランドに固定され、半導体ベア
チップの上面に設けられた他方の電極が導電パターンP
の所定部位にワイヤーボンディングされている。また、
両トランジスタTr1,Tr2の半導体ベアチップも角
形形状をなし、その下面に設けられたコレクタ電極が導
電性接着剤を用いて接続ランドに固定され、ベース電極
とエミッタ電極が導電パターンPの所定部位にワイヤー
ボンディングされている。前述した端面電極3と同様
に、これら接続ランド上にもNi下地メッキ層とAuメ
ッキ層が順次積層されている。ここで、図7(a)また
は(b)に示すように、半導体ベアチップ4の下面積に
対して接続ランド5の面積が小さく形成されており、こ
のような構成を採用することにより、半導体ベアチップ
4の下方に導電性接着剤の溜り部が確保されるため、導
電性接着剤が半導体ベアチップ4の外形からはみ出して
周囲の導電パターンPと短絡する事故を未然に防止する
ことができる。また、接続ランド5の内部に開口5aが
設けられており、これによって余剰の導電性接着剤が開
口5a内に溜められるため、導電性接着剤のはみ出しを
より確実に防止できるようになっている。
The diode D1 and the transistors Tr1 and Tr2 among the circuit components of the VCO circuit are
A semiconductor bare chip is mounted on a connection land of a conductive pattern P formed as a thin film on an alumina substrate 1 and the semiconductor bare chip is wire-bonded to the conductive pattern P. That is, as shown in FIG.
The semiconductor bare chip has a square shape, and one electrode provided on the lower surface thereof is fixed to a connection land using a conductive adhesive such as cream solder or conductive paste, and the other electrode provided on the upper surface of the semiconductor bare chip Is the conductive pattern P
Are wire-bonded to predetermined portions. Also,
The semiconductor bare chips of the transistors Tr1 and Tr2 also have a square shape, and the collector electrodes provided on the lower surfaces thereof are fixed to the connection lands using a conductive adhesive, and the base electrodes and the emitter electrodes are connected to predetermined portions of the conductive pattern P by wires. Bonded. Similarly to the end face electrode 3 described above, a Ni base plating layer and an Au plating layer are sequentially laminated on these connection lands. Here, as shown in FIG. 7A or 7B, the area of the connection land 5 is formed to be smaller than the lower area of the semiconductor bare chip 4, and by adopting such a configuration, the semiconductor bare chip Since the pool of the conductive adhesive is secured under the semiconductor chip 4, an accident that the conductive adhesive protrudes from the outer shape of the semiconductor bare chip 4 and short-circuits with the surrounding conductive pattern P can be prevented beforehand. Further, an opening 5a is provided in the connection land 5, and since an excess of the conductive adhesive is accumulated in the opening 5a, it is possible to more reliably prevent the conductive adhesive from protruding. .

【0020】次に、上記の如く構成された電圧制御発振
器の製造工程について主として図8を用いて説明する。
Next, the manufacturing process of the voltage controlled oscillator configured as described above will be described mainly with reference to FIG.

【0021】まず、図8(a)に示すように、アルミナ
基板1の表面全体にTaSiO2等をスパッタリングした後、
これを所望形状にエッチングして抵抗膜6を形成するこ
とにより、抵抗R1〜R4に相当する部分が構成され
る。次に、図8(b)に示すように、抵抗膜6の上から
CrやCu等をスパッタリングし、これを所望形状にエ
ッチングして下部電極7を形成した後、図8(c)に示
すように、下部電極7の上からSiO2等をスパッタリング
し、これを所望形状にエッチングして誘電体膜8を形成
する。次に、図8(d)に示すように、誘電体膜8の上
からCrやCu等をスパッタリングした後、これを所望
形状にエッチングして上部電極9を形成する。その結
果、下部電極7または上部電極9によって導電パターン
Pとインダクタンス素子L1〜L4および導電路S1,
S2に相当する部分が構成され、下部電極7と誘電体膜
8および上部電極9の積層体によってコンデンサC1〜
C10に相当する部分が構成される。次に、インダクタ
ンス素子L1〜L4とコンデンサC1〜C10に相当す
る部分の表面にCu層をメッキまたは薄膜技術で形成し
た後、図8(e)に示すように、導電パターンPを除く
部分に保護膜10を形成する。次に、図8(f)に示す
ように、アルミナ基板1の裏面全体にCrやCu等をス
パッタリングした後、これを所望形状にエッチングして
背面電極11を形成することにより、裏面側の導電パタ
ーンP1に相当する部分が構成される。
First, as shown in FIG. 8A, after sputtering the whole surface of the alumina substrate 1 with TaSiO 2 or the like,
This is etched into a desired shape to form the resistance film 6, thereby forming a portion corresponding to the resistors R1 to R4. Next, as shown in FIG. 8B, Cr or Cu or the like is sputtered from above the resistive film 6, and is etched into a desired shape to form the lower electrode 7, and then as shown in FIG. As described above, SiO 2 or the like is sputtered from above the lower electrode 7 and is etched into a desired shape to form the dielectric film 8. Next, as shown in FIG. 8D, after sputtering Cr, Cu, or the like from above the dielectric film 8, this is etched into a desired shape to form the upper electrode 9. As a result, the conductive pattern P and the inductance elements L1 to L4 and the conductive paths S1,
A portion corresponding to S2 is formed, and a laminate of the lower electrode 7, the dielectric film 8, and the upper electrode 9 forms the capacitors C1 to C1.
A portion corresponding to C10 is configured. Next, after a Cu layer is formed on the surfaces of the portions corresponding to the inductance elements L1 to L4 and the capacitors C1 to C10 by plating or thin film technology, as shown in FIG. The film 10 is formed. Next, as shown in FIG. 8 (f), after sputtering Cr, Cu, or the like on the entire back surface of the alumina substrate 1, this is etched into a desired shape to form the back electrode 11, whereby the conductive material on the back surface side is formed. A portion corresponding to the pattern P1 is configured.

【0022】なお、以上説明した図8(a)〜(f)の
工程は、縦横に格子状に延びる分割溝が刻設されたアル
ミナ材からなる大版基板に対して行なわれ、以下に説明
する図8(g)〜(j)の工程は、この大版基板を一方
向の分割溝に沿って切断することで得られる短冊状の分
割片に対して行なわれる。
The steps shown in FIGS. 8A to 8F described above are performed on a large-sized substrate made of an alumina material in which division grooves extending in a lattice pattern are cut in the vertical and horizontal directions. The steps shown in FIGS. 8G to 8J are performed on the strip-shaped divided pieces obtained by cutting the large-sized substrate along the dividing grooves in one direction.

【0023】すなわち、大版基板を短冊状の分割片に切
断した後、図8(g)に示すように、この分割片の切断
面であるアルミナ基板1の両端面にAg層12を厚膜形
成し、アルミナ基板1の表裏両面に設けられた導電パタ
ーンP,P1の接地用電極(GND)と入力用電極(V
cc,Vctl)および出力用電極(FRout)同志をAg層
12で導通する。このAg層12は前述した端面電極3
のAg厚膜層に相当し、ガラス成分を含まないAgペー
ストからなる低温焼成材である。なお、かかるAg層1
2の厚膜形成工程を1つの短冊状分割片に対して行なう
ことも可能であるが、複数の分割片を若干の隙間を存し
て重ね合わせた状態にすれば、Ag層12を複数の分割
片に対して同時に厚膜形成することができ、大量生産に
好適となる。次に、Ag層12と半導体ベアチップが搭
載される接続ランドの各表面にNi下地層とAu層を順
次メッキした後、図8(h)に示すように、各接続ラン
ド上にダイオードD1とトランジスタTr1,Tr2の
半導体ベアチップをクリーム半田や導電ペースト等の導
電性接着剤を用いて固定する。この場合、前述したよう
に、半導体ベアチップの下面積に対して接続ランドの面
積が小さく形成されているため、導電性接着剤の半導体
ベアチップからのはみ出しが防止され、導電性接着剤が
半導体ベアチップの周囲の導電パターンPと不所望に短
絡しないようになっている。次に、図8(i)に示すよ
うに、各半導体ベアチップを導電パターンPの所定部位
にワイヤーボンディングした後、図8(j)に示すよう
に、エミッタ抵抗である抵抗R4をトリミングして出力
調整すると共に、調整用導電パターンであるインダクタ
ンス素子L3をトリミングして共振周波数を調整する。
この場合、共振周波数の調整は個々のアルミナ基板1に
分割する前の短冊状分割片の状態で行なわれ、各アルミ
ナ基板1の隅部に接地用電極(GND)が設けられてい
るため、隣接するアルミナ基板1に設けられた入力用電
極(Vcc,Vctl)および出力用電極(FRout)間に必
ず接地用電極(GND)が位置することになり、共振周
波数調整が隣接するアルミナ基板1のVCO回路へ悪影
響を及ぼさないようになっている。
That is, after cutting the large-sized substrate into strip-shaped divided pieces, as shown in FIG. 8 (g), a thick Ag layer 12 is formed on both end faces of the alumina substrate 1 which is the cut surface of the divided pieces. The grounding electrode (GND) and the input electrode (V) of the conductive patterns P, P1 provided on the front and back surfaces of the alumina substrate 1 are formed.
(cc, Vctl) and the output electrode (FRout) are conducted by the Ag layer 12. The Ag layer 12 is formed on the end face electrode 3 described above.
Is a low-temperature fired material made of an Ag paste containing no glass component. In addition, such Ag layer 1
It is also possible to perform the thick film forming step 2 on one strip-shaped divided piece. However, if a plurality of divided pieces are overlapped with a slight gap, the Ag layer 12 can be divided into a plurality of pieces. A thick film can be formed simultaneously on the divided pieces, which is suitable for mass production. Next, after a Ni underlayer and an Au layer are sequentially plated on each surface of the connection land on which the Ag layer 12 and the semiconductor bare chip are mounted, as shown in FIG. 8H, a diode D1 and a transistor are provided on each connection land. The semiconductor bare chips of Tr1 and Tr2 are fixed using a conductive adhesive such as cream solder or conductive paste. In this case, as described above, since the area of the connection land is formed smaller than the lower area of the semiconductor bare chip, the conductive adhesive is prevented from protruding from the semiconductor bare chip, and the conductive adhesive is applied to the semiconductor bare chip. Undesired short circuit with the surrounding conductive pattern P is prevented. Next, as shown in FIG. 8 (i), each semiconductor bare chip is wire-bonded to a predetermined portion of the conductive pattern P, and then, as shown in FIG. 8 (j), a resistor R4 which is an emitter resistor is trimmed and output. At the same time, the resonance frequency is adjusted by trimming the inductance element L3, which is an adjustment conductive pattern.
In this case, the adjustment of the resonance frequency is performed in the state of the strip-shaped divided pieces before being divided into the individual alumina substrates 1, and the grounding electrodes (GND) are provided at the corners of each alumina substrate 1. The ground electrode (GND) is always located between the input electrode (Vcc, Vctl) and the output electrode (FRout) provided on the alumina substrate 1 to be adjusted. The circuit is not adversely affected.

【0024】次いで、短冊状分割片の個々のアルミナ基
板1にシールドカバー2を取付け、該シールドカバー2
の脚片2aを接地用電極(GND)に導通する端面電極
3に半田付けた後、分割片を他方の分割溝に沿って個々
のアルミナ基板1に細分割することにより、図1に示す
ような電圧制御発振器が得られる。
Next, a shield cover 2 is attached to each of the alumina substrates 1 of the strip-shaped divided pieces.
By soldering the leg piece 2a to the end face electrode 3 conducting to the ground electrode (GND), the divided piece is subdivided into the individual alumina substrates 1 along the other divided groove, as shown in FIG. A voltage-controlled oscillator can be obtained.

【0025】このように構成された上記実施形態例に係
る電圧制御発振器によれば、アルミナ基板1上にコンデ
ンサC1〜C10、抵抗R1〜R4、インダクタンス素
子L1〜L4、導電路S1,S2等の回路素子とこれら
回路素子に接続される導電パターンPとを薄膜形成する
と共に、このアルミナ基板1上にダイオードD1とトラ
ンジスタTr1,Tr2の半導体ベアチップをワイヤー
ボンディングし、かつ、アルミナ基板1の側面に導電パ
ターンの接地用電極と入出力用電極に接続される端面電
極3を設けたため、VCO回路用の構成素子を薄膜技術
と半導体素子のワイヤーボンディングとを用いてアルミ
ナ基板1上に高密度に実装でき、小型化に好適な面実装
タイプの電圧制御発振器を実現することができる。ま
た、薄膜形成されたコンデンサC1〜C10とインダク
タンス素子L1〜L4の表面にCu層を設けたため、共
振回路のQを高めることができるなお、上記実施形態例
では、コンデンサ等の回路素子とトランジスタ等の半導
体素子とを同一のアルミナ基板上に搭載した場合につい
て説明したが、半導体ベアチップのみをアルミナ基板上
にワイヤーボンディングし、このアルミナ基板をコンデ
ンサ等の回路素子を薄膜あるいは厚膜形成した別の基板
上に半田付けするように構成することも可能である。
According to the voltage controlled oscillator according to the above-described embodiment, the capacitors C1 to C10, the resistors R1 to R4, the inductance elements L1 to L4, and the conductive paths S1 and S2 are formed on the alumina substrate 1. A circuit element and a conductive pattern P connected to these circuit elements are formed as a thin film, a diode D1 and a semiconductor bare chip of transistors Tr1 and Tr2 are wire-bonded on the alumina substrate 1, and a conductive layer is formed on the side surface of the alumina substrate 1. Since the end electrodes 3 connected to the ground electrode and the input / output electrode of the pattern are provided, the components for the VCO circuit can be mounted on the alumina substrate 1 at high density using thin film technology and wire bonding of semiconductor elements. In addition, a surface-mount type voltage controlled oscillator suitable for miniaturization can be realized. Further, since the Cu layers are provided on the surfaces of the capacitors C1 to C10 and the inductance elements L1 to L4 formed as thin films, the Q of the resonance circuit can be increased. Although the case where the semiconductor element and the semiconductor element are mounted on the same alumina substrate has been described, only the semiconductor bare chip is wire-bonded to the alumina substrate, and this alumina substrate is formed on another substrate on which a circuit element such as a capacitor is formed as a thin film or a thick film. It is also possible to configure so as to be soldered on top.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
The present invention is embodied in the form described above and has the following effects.

【0027】導電パターンが膜形成されたアルミナ基板
上にトランジスタとダイオードの半導体ベアチップを搭
載し、これら半導体ベアチップを導電パターンにワイヤ
ーボンディングすると共に、アルミナ基板の側面に導電
パターンに接続される端面電極を設けたため、VCO回
路に必要とされる回路部品のうち、トランジスタとダイ
オードの半導体素子を半導体ベアチップのワイヤーボン
ディングを用いてアルミナ基板上に高密度に実装するこ
とができ、小型化に好適な面実装タイプの電圧制御発振
器を実現することができる。
Semiconductor bare chips of transistors and diodes are mounted on an alumina substrate on which a conductive pattern is formed, and these semiconductor bare chips are wire-bonded to the conductive pattern, and end electrodes connected to the conductive pattern are formed on the side surfaces of the alumina substrate. With this arrangement, among the circuit components required for the VCO circuit, semiconductor elements such as transistors and diodes can be densely mounted on an alumina substrate using wire bonding of a semiconductor bare chip, and surface mounting suitable for miniaturization. A type of voltage controlled oscillator can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態例に係る電圧制御発振器の斜
視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a voltage controlled oscillator according to an embodiment of the present invention.

【図2】回路構成レイアウトを示すアルミナ基板の平面
図である。
FIG. 2 is a plan view of an alumina substrate showing a circuit configuration layout.

【図3】アルミナ基板の裏面図である。FIG. 3 is a rear view of the alumina substrate.

【図4】VCO回路の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a VCO circuit.

【図5】端面電極を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing an end face electrode.

【図6】端面電極の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of an end face electrode.

【図7】半導体ベアチップと接続ランドの関係を示す説
明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship between a semiconductor bare chip and connection lands.

【図8】電圧制御発振器の製造工程を示す説明図であ
る。
FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating a manufacturing process of the voltage controlled oscillator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アルミナ基板 2 シールドカバー 3 端面電極 4 半導体ベアチップ 5 接続ランド 5a 開口 6 抵抗膜 7 下部電極 8 誘電体膜 9 上部電極 10 保護膜 11 背面電極 12 Ag層 C1〜C10 コンデンサ R1〜R4 抵抗 L1〜L4 インダクタンス素子 Tr1〜Tr2 トランジスタ S1,S2 導電路 P,P1 導電パターン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Alumina substrate 2 Shield cover 3 End face electrode 4 Semiconductor bare chip 5 Connection land 5a Opening 6 Resistive film 7 Lower electrode 8 Dielectric film 9 Upper electrode 10 Protective film 11 Back electrode 12 Ag layer C1-C10 Capacitors R1-R4 Resistance L1-L4 Inductance element Tr1 to Tr2 Transistor S1, S2 Conductive path P, P1 Conductive pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 植田 和彦 東京都大田区雪谷大塚町1番7号 アルプ ス電気株式会社内 (72)発明者 佐久間 博 東京都大田区雪谷大塚町1番7号 アルプ ス電気株式会社内 Fターム(参考) 5J081 AA03 AA11 BB01 CC42 DD03 DD26 EE02 EE03 EE09 EE18 FF04 GG05 GG07 JJ04 JJ12 JJ14 JJ15 JJ18 JJ23 KK02 KK03 KK09 KK11 KK12 KK22 KK25 LL01 MM01 MM07 MM08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kazuhiko Ueda 1-7 Yukitani Otsukacho, Ota-ku, Tokyo Alps Electric Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Sakuma 1-7 Yukitani Otsukacho, Ota-ku, Tokyo Alp F-term (reference) within SUMITOMO ELECTRIC CO., LTD.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電パターンが膜形成されたアルミナ基
板上にトランジスタとダイオードの半導体ベアチップが
搭載され、これら半導体ベアチップが前記導電パターン
にワイヤーボンディングされると共に、前記アルミナ基
板の側面に前記導電パターンに接続する端面電極が設け
られていることを特徴とする電圧制御発振器。
A semiconductor bare chip of a transistor and a diode is mounted on an alumina substrate on which a conductive pattern is formed, and these semiconductor bare chips are wire-bonded to the conductive pattern, and the conductive pattern is formed on a side surface of the alumina substrate. A voltage controlled oscillator comprising an end face electrode to be connected.
【請求項2】 請求項1の記載において、前記アルミナ
基板上にはコンデンサと抵抗およびインダクタンス素子
を含む回路素子が膜形成されており、これら回路素子が
前記導電パターンに接続されていることを特徴とする電
圧制御発振器。
2. The circuit according to claim 1, wherein a film of a circuit element including a capacitor, a resistor and an inductance element is formed on the alumina substrate, and the circuit element is connected to the conductive pattern. And a voltage controlled oscillator.
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