JP3246909B2 - Manufacturing method of electronic circuit unit - Google Patents

Manufacturing method of electronic circuit unit

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic circuit unit which is suitable for miniaturization and can be mass-produced excellently. SOLUTION: This electronic circuit unit is manufactured in such a way that, after circuit elements containing capacitors C1-C7, resistors R1-R3, inductance elements L1-L3, etc., are formed on a large-sized alumina substrate 1A in the form of thin films, and a bare semiconductor chip of a diode D1 and a transistor Tr1 is wire-bonded, the substrate 1A is divided into strip-like substrates 1B, and end-face electrodes 3 are provided on both side faces of each divided strip-like substrate 1B. Then a continuous cover body 2A having a U-shaped cross section is put on each substrate 1B by sliding, and leg pieces 2a of the cover body 2A formed by bending the body 2A are soldered to the end-face electrodes 3 of each substrate 1B. Thereafter, the finished product of the electronic circuit unit having a cover 2 attached to each alumina substrate 1 are obtained by cutting the cover body 2A and substrate 1B at intervals in the lengthwise direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シールド用のカバ
ーを備えた電子回路ユニットの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an electronic circuit unit having a cover for shielding.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に、この種の電子回路ユニット
は、方形平板状の基板上に設けられた導電パターンの半
田ランドに抵抗やコンデンサ等のチップ部品あるいはト
ランジスタ等の半導体部品を半田付けし、これらの回路
部品をシールド用のカバーで覆うように概略構成されて
いる。基板は多層基板にて構成され、その内層部には接
地導体に挟まれてマイクロストリップラインが設けられ
ている。また、基板の側面には複数の接地用電極と入力
用電極および出力用電極とが設けられており、これら電
極のうち、接地用電極は基板に被着されたカバーの脚片
に半田付けされ、入力用電極と出力用電極は電子回路ユ
ニットを面実装するための母基板の半田ランドに半田付
けされる。通常、このような基板は大版基板を格子状の
分割線に沿って細分割することによって得られ、細分割
後の個々の基板に対してカバーが取り付けられる。
2. Description of the Related Art Generally, an electronic circuit unit of this type is formed by soldering a chip component such as a resistor or a capacitor or a semiconductor component such as a transistor to a solder land of a conductive pattern provided on a rectangular flat board. , And these circuit components are schematically configured to be covered with a cover for shielding. The substrate is composed of a multi-layer substrate, and a microstrip line is provided in the inner layer between the ground conductors. A plurality of grounding electrodes, input electrodes and output electrodes are provided on the side surface of the substrate, and among these electrodes, the grounding electrode is soldered to a leg of a cover attached to the substrate. The input electrode and the output electrode are soldered to solder lands on a motherboard for surface mounting the electronic circuit unit. Usually, such a substrate is obtained by subdividing a large-sized substrate along a grid-like dividing line, and a cover is attached to each of the subdivided substrates.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで近年、チップ
部品や半導体部品等の回路部品を小形化する技術は著し
く進歩しており、例えば外形寸法が0.6×0.3mm程度の超
小形のチップ抵抗やチップコンデンサも実用化されてい
る。したがって、前述した従来技術においても、このよ
うな小形の回路部品を使用し、これらの回路部品を部品
間ピッチを狭めた状態で基板上に実装すれば、電子回路
ユニットをある程度までは小型化することが可能とな
る。しかしながら、チップ部品や半導体部品等の回路部
品の小形化には限界があり、しかも、多数の回路部品を
基板上に実装する際に、各回路部品の半田付け部分が短
絡しないようにしなければならないため、部品間ピッチ
を狭めるのにも限界があり、これらのことが電子回路ユ
ニットの更なる小型化を妨げる要因となっていた。さら
に、電子回路ユニットの小型化に伴って基板とカバーの
外形寸法が小形になると、カバーを基板に取り付ける作
業が煩雑になり、量産性が低下するという問題も発生す
る。
In recent years, techniques for miniaturizing circuit components such as chip components and semiconductor components have been remarkably advanced. For example, ultra-small chip resistors or chips having an outer dimension of about 0.6 × 0.3 mm have been developed. Capacitors have also been put to practical use. Therefore, in the prior art described above, if such small circuit components are used and these circuit components are mounted on a board with a reduced pitch between the components, the electronic circuit unit can be downsized to some extent. It becomes possible. However, there is a limit to the miniaturization of circuit components such as chip components and semiconductor components, and furthermore, when mounting a large number of circuit components on a substrate, it is necessary to prevent short-circuiting of the soldered portion of each circuit component. For this reason, there is a limit in narrowing the pitch between components, and these are factors that hinder further miniaturization of the electronic circuit unit. Further, when the external dimensions of the substrate and the cover are reduced with the miniaturization of the electronic circuit unit, the work of attaching the cover to the substrate becomes complicated, and there is a problem that mass productivity is reduced.

【0004】本発明は、このような従来技術の実情に鑑
みてなされたもので、その目的は、小型化に好適で量産
性に優れた電子回路ユニットを提供することにある。
[0004] The present invention has been made in view of such a situation of the prior art, and an object of the present invention is to provide an electronic circuit unit suitable for miniaturization and excellent in mass productivity.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明による電子回路ユニットの製造方法では、
アルミナ材料からなる大版基板上に、コンデンサと抵抗
およびインダクタンス素子を含む回路素子を薄膜形成す
ると共に半導体ベアチップをワイヤーボンディングした
後、該大版基板を複数の短冊状基板に分割する工程と、
前記短冊状基板の長手方向に沿う両側面に端面電極を設
ける工程と、金属板を断面コ字状に折り曲げ加工したカ
バー連続体を前記短冊状基板に被着した後、該カバー連
続体の長手方向両側に折り曲げ形成された脚片を前記端
面電極に半田付けする工程と、半田付け後の前記カバー
連続体と前記短冊状基板を長手方向に所定の間隔を存し
て複数に切断し、個々のアルミナ基板にカバーが取り付
けられた完成品を得る工程と、を具備することを特徴と
している。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing an electronic circuit unit according to the present invention comprises:
After forming a thin film of a circuit element including a capacitor, a resistor and an inductance element and wire bonding a semiconductor bare chip on a large-sized substrate made of an alumina material, a step of dividing the large-sized substrate into a plurality of strip-shaped substrates,
Providing end surface electrodes on both side surfaces along the longitudinal direction of the strip-shaped substrate, and applying a cover continuum obtained by bending a metal plate to a U-shaped cross section on the strip-shaped substrate; Soldering the leg pieces bent on both sides in the direction to the end surface electrode, cutting the continuous cover and the strip-shaped substrate into a plurality at predetermined intervals in the longitudinal direction after soldering, and Obtaining a finished product in which a cover is attached to an alumina substrate.

【0006】このような構成によれば、コンデンサと抵
抗およびインダクタンス素子を含む回路素子が薄膜技術
を用いて高精度に形成され、しかも、半導体素子はベア
チップをワイヤーボンディングしたものであるため、ア
ルミナ基板上に必要とされる回路部品が高密度に実装さ
れ、小型化に好適な面実装タイプの電子回路ユニットを
実現することができる。また、短冊状基板とカバー連続
体を組み合わせて一体化した後、両者をレーザやダイシ
ング等で切断することにより電子回路ユニットの完成品
が得られるため、量産性を高めることができる。
According to such a structure, a circuit element including a capacitor, a resistor and an inductance element is formed with high precision by using a thin film technique, and a semiconductor element is formed by wire bonding a bare chip. The required circuit components are mounted at a high density, and a surface mount type electronic circuit unit suitable for miniaturization can be realized. Further, after combining and integrating the strip-shaped substrate and the cover continuous body, the both are cut by laser, dicing, or the like, so that a completed electronic circuit unit is obtained, so that mass productivity can be improved.

【0007】上記の構成において、短冊状基板とカバー
連続体を組み合わせる際に、カバー連続体と短冊状基板
のいずれか一方を他方に対して長手方向へスライド移動
することにより、カバー連続体の脚片間に短冊状基板を
挿入することが好ましく、このようにすると、カバー連
続体の脚片の変形を防止することができる。この場合、
カバー連続体の長手方向の端部に短冊状基板の短手方向
に沿う幅寸法よりも幅広な挿入ガイドを設けると、短冊
状基板をカバー連続体の脚片間にスムーズに挿入するこ
とができる。
In the above arrangement, when combining the strip-shaped substrate and the cover continuum, one of the cover continuum and the strip-shaped substrate is slid in the longitudinal direction with respect to the other, so that the leg of the cover continuity is moved. It is preferable to insert a strip-shaped substrate between the pieces, so that deformation of the leg pieces of the continuous cover can be prevented. in this case,
By providing an insertion guide wider than the width of the strip-shaped substrate along the width direction at the longitudinal end of the continuous cover, the strip-shaped substrate can be smoothly inserted between the legs of the continuous cover. .

【0008】また、上記の構成において、カバー連続体
に繋ぎ部を残して短手方向へ延びる切り込みを予め形成
しておくと、カバー連続体の切断箇所が繋ぎ部だけで済
むため、カバー連続体と短冊状基板を一括して簡単に切
断することができる。
In the above structure, if a notch extending in the lateral direction is formed in advance in the cover continuum while leaving the connecting portion, the cut portion of the cover continuum can be only the connecting portion. And the strip-shaped substrate can be easily cut at once.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態例につい
て図面を参照して説明すると、図1は電子回路ユニット
の斜視図、図2は回路構成レイアウトを示すアルミナ基
板の平面図、図3はアルミナ基板の裏面図、図4は回路
構成の説明図、図5は端面電極を示す斜視図、図6は端
面電極の断面図、図7は半導体ベアチップと接続ランド
の関係を示す説明図、図8は短冊状基板を得るまでの製
造工程を示す説明図、図9は短冊状基板とカバー連続体
から電子回路ユニットの完成品を得るまでの製造工程を
示す説明図である。
1 is a perspective view of an electronic circuit unit, FIG. 2 is a plan view of an alumina substrate showing a circuit configuration layout, and FIG. 4 is a back view of the alumina substrate, FIG. 4 is an explanatory view of a circuit configuration, FIG. 5 is a perspective view showing an end face electrode, FIG. 6 is a sectional view of the end face electrode, FIG. 7 is an explanatory view showing a relationship between a semiconductor bare chip and a connection land. FIG. 8 is an explanatory diagram showing a manufacturing process until a strip-shaped substrate is obtained, and FIG. 9 is an explanatory diagram showing a manufacturing process until a completed electronic circuit unit is obtained from the strip-shaped substrate and the continuous cover.

【0010】本実施形態例に係る電子回路ユニットは周
波数同調型ブースタアンプへの適用例であり、この周波
数同調型ブースタアンプは携帯型テレビ機器の受信性能
(特に、受信感度と耐妨害特性)向上のために図示せぬ
UHFチューナと組み合わせて使用され、希望周波数の
TV信号を選択すると共に、選択したTV信号を増幅し
てUHFチューナに入力する機能を有する。
The electronic circuit unit according to the present embodiment is an example of application to a frequency tuning type booster amplifier, and this frequency tuning type booster amplifier improves the reception performance (particularly, reception sensitivity and anti-jamming characteristics) of a portable television device. It has a function of selecting a TV signal of a desired frequency, amplifying the selected TV signal and inputting the amplified signal to the UHF tuner.

【0011】図1はかかる周波数同調型ブースタアンプ
(電子回路ユニット)の外観を示し、同図に示すよう
に、この周波数同調型ブースタアンプは、後述する回路
構成素子を搭載したアルミナ基板1と、このアルミナ基
板1に取付けられたシールド用のカバー2とで構成され
ており、図示せぬ母基板に半田付けされる面実装部品と
なっている。アルミナ基板1は方形平板状に形成されて
おり、大版基板を短冊状の分割片に切断した後、この分
割片をさらに細分割することによって得られる。カバー
2は金属板製のカバー連続体を切断することによって得
られ、アルミナ基板1上の回路構成素子はこのカバー2
によって覆われている。
FIG. 1 shows an appearance of such a frequency tuning type booster amplifier (electronic circuit unit). As shown in FIG. 1, the frequency tuning type booster amplifier includes an alumina substrate 1 on which circuit components described later are mounted, and It comprises a shield cover 2 attached to the alumina substrate 1 and is a surface mount component to be soldered to a mother substrate (not shown). The alumina substrate 1 is formed in a rectangular flat plate shape. The alumina substrate 1 is obtained by cutting a large-sized substrate into strip-shaped divided pieces, and further subdividing the divided pieces. The cover 2 is obtained by cutting a continuous cover made of a metal plate.
Covered by

【0012】図2に示すように、アルミナ基板1の表面
には回路構成素子とそれらを接続する導電パターンが設
けられており、また、図3に示すように、アルミナ基板
1の裏面には背面電極としての導電パターンが設けられ
ている。本実施形態例に係る周波数同調型ブースタアン
プは、TV信号の選択と増幅のために同調回路と増幅回
路とを有し、図4に示すような回路構成となっており、
図2に示される各回路構成素子には図4の回路図に対応
する符号を付してある。ただし、図4は回路構成の一例
を示すものであり、本発明はこれ以外の回路構成を有す
る電子回路ユニットにも適用可能である。
As shown in FIG. 2, circuit components and conductive patterns for connecting them are provided on the front surface of the alumina substrate 1, and as shown in FIG. A conductive pattern as an electrode is provided. The frequency tuning type booster amplifier according to the present embodiment has a tuning circuit and an amplifier circuit for selecting and amplifying a TV signal, and has a circuit configuration as shown in FIG.
Each circuit component shown in FIG. 2 is denoted by a reference numeral corresponding to the circuit diagram of FIG. However, FIG. 4 shows an example of the circuit configuration, and the present invention can be applied to an electronic circuit unit having another circuit configuration.

【0013】図4に示すように、周波数同調型ブースタ
アンプは、同調回路および増幅回路の回路構成素子であ
るコンデンサC1〜C7、抵抗R1〜R3、インダクタ
ンス素子L1〜L3、ダイオードD1、トランジスタT
r1、導電路S1,S2等を有し、これらの回路構成素
子とそれを接続する導電パターンはアルミナ基板1の表
面に設けられている。この導電パターンは例えばCrや
Cu等をスパッタリング等の薄膜技術を用いて形成した
もので、図2中には符号Pを付してハッチングによって
表されている。
As shown in FIG. 4, the frequency tuning type booster amplifier includes capacitors C1 to C7, resistors R1 to R3, inductance elements L1 to L3, a diode D1, a transistor T1 which are circuit components of a tuning circuit and an amplifier circuit.
r 1, conductive paths S 1, S 2, etc., and these circuit components and the conductive patterns connecting them are provided on the surface of the alumina substrate 1. This conductive pattern is formed, for example, of Cr, Cu, or the like by using a thin film technique such as sputtering, and is denoted by a symbol P in FIG.

【0014】周波数同調型ブースタアンプの回路構成に
ついて簡単に説明すると、希望周波数のTV信号を選択
と増幅するために、インダクタンス素子L2,L3とコ
ンデンサC3,C4およびダイオードD1とからなる同
調回路と、トランジスタTr1とその周辺回路素子(抵
抗R1〜R3、コンデンサC6)および不平衡/平衡変
換素子Tとからなる増幅回路から構成されている。複数
の周波数のTV信号はコンデンサC1を介して同調回路
に入力される。同調回路の同調周波数(共振周波数)は
ダイオードD1のカソードに加える電圧(Vctl)の制
御により可変するので、希望するTV信号の周波数に一
致させることによって、希望するTV信号だけが選択さ
れ、コンデンサC5を介して増幅回路のトランジスタT
r1のベースに入力される。トランジスタTr1のベー
スにはベースバイアス用分圧抵抗R1,R2にバイアス
電圧が与えられ、トランジスタTr1のコレクタ電流
(≒エミッタ電流)はエミッタ抵抗R3の抵抗値によっ
て設定される。トランジスタTr1によって増幅された
TV信号はコレクタから出力され、コレクタには不平衡
/平衡変換素子Tが設けられている。この不平衡/平衡
変換素子Tは互いに結合した一対の導電路S1,S2か
らなるインダクタンス素子によって構成され、導電路S
2の両端から平衡TV信号が出力され、前述したUHF
チューナに入力される。
The circuit configuration of the frequency tuning type booster amplifier will be briefly described. In order to select and amplify a TV signal of a desired frequency, a tuning circuit including inductance elements L2 and L3, capacitors C3 and C4 and a diode D1; It comprises an amplifier circuit comprising a transistor Tr1, its peripheral circuit elements (resistors R1 to R3, capacitor C6) and an unbalanced / balanced conversion element T. TV signals of a plurality of frequencies are input to the tuning circuit via the capacitor C1. Since the tuning frequency (resonance frequency) of the tuning circuit is variable by controlling the voltage (Vctl) applied to the cathode of the diode D1, by matching the frequency of the desired TV signal, only the desired TV signal is selected and the capacitor C5 is selected. Through the transistor T of the amplifier circuit
Input to the base of r1. A bias voltage is applied to the base bias voltage dividing resistors R1 and R2 at the base of the transistor Tr1, and the collector current (≒ emitter current) of the transistor Tr1 is set by the resistance value of the emitter resistor R3. The TV signal amplified by the transistor Tr1 is output from a collector, and the collector is provided with an unbalanced / balanced conversion element T. The unbalanced / balanced conversion element T is constituted by an inductance element composed of a pair of conductive paths S1 and S2 coupled to each other.
2 output a balanced TV signal from both ends of the UHF
Input to the tuner.

【0015】図2に示すように、アルミナ基板1の端部
には接地用電極(GND)と入力用電極(Vcc,Vct
l,RFin)および出力用電極(RFout)が形成されて
おり、これらは導電パターンPの一部によって構成され
ている。接地用電極と入力用電極および出力用電極は方
形状のアルミナ基板1の相対向する2つの長辺側にのみ
形成され、それ以外の相対向する2つの短辺側には形成
されていない。すなわち、アルミナ基板1の一方の長辺
側の両隅部(コーナ)にGND電極が形成され、これら
GND電極の間にVcc電極とRFin電極およびVctl電
極が形成されている。また、アルミナ基板1の他方の長
辺側の両隅部とその近傍の3箇所にGND電極が形成さ
れ、これらGND電極の間に2つのRFout電極が形成
されている。なお、後述するように、アルミナ基板1の
2つの長辺は大版基板を短冊状の分割片に切断したとき
の分割線に対応し、アルミナ基板1の2つの短辺はこの
分割片をさらに細分割したときの分割線に対応する。
As shown in FIG. 2, the ground electrode (GND) and the input electrodes (Vcc, Vct)
1, RFin) and an output electrode (RFout), which are formed by a part of the conductive pattern P. The ground electrode, the input electrode, and the output electrode are formed only on the two long sides facing each other of the rectangular alumina substrate 1, and are not formed on the other two short sides facing each other. That is, GND electrodes are formed at both corners (corners) on one long side of the alumina substrate 1, and a Vcc electrode, an RFin electrode, and a Vctl electrode are formed between these GND electrodes. In addition, GND electrodes are formed at both corners on the other long side of the alumina substrate 1 and three places near the two corners, and two RFout electrodes are formed between these GND electrodes. As will be described later, the two long sides of the alumina substrate 1 correspond to the dividing lines when the large-sized substrate is cut into strip-shaped divided pieces, and the two short sides of the alumina substrate 1 further connect the divided pieces. It corresponds to the division line when subdividing.

【0016】一方、図3に示すように、アルミナ基板1
の裏面に設けられた導電パターンP1(背面電極)はそ
れぞれの接地用電極(GND)と入力用電極(Vcc,V
ctl,RFin)および出力用電極(RFout)に対向して
おり、図5と図6に示すように、両者は端面電極3を介
して導通されている。この端面電極3はAg厚膜層の上
にNi下地メッキ層とAuメッキ層を順次積層したもの
で、最下層のAg厚膜層は、ガラス成分を含まないAg
ペーストを厚膜形成した後、これを200°C程度で焼
成した低温焼成材からなる。また、中間層のNi下地メ
ッキ層はAuメッキ層の付着を容易にするもので、最上
層のAuメッキ層は、端面電極3を図示せぬ母基板の半
田ランドに半田付けした際に、最下層のAgが半田に析
出するのを防止するためのものである。そして、カバー
2がアルミナ基板1に取付けられた電子回路ユニットの
完成品において、カバー2の側面に折り曲げ形成された
脚片2aが接地用電極(GND)と導通する端面電極3
に半田付けされており、カバー2はアルミナ基板1の4
隅で接地された状態となる。
On the other hand, as shown in FIG.
The conductive pattern P1 (rear electrode) provided on the back surface of each of the ground electrodes (GND) and the input electrodes (Vcc, V
ctl, RFin) and the output electrode (RFout), and both are electrically connected via the end face electrode 3 as shown in FIGS. The end face electrode 3 is obtained by sequentially laminating a Ni base plating layer and an Au plating layer on an Ag thick film layer, and the lowermost Ag thick film layer is made of Ag containing no glass component.
After the paste is formed into a thick film, the paste is made of a low-temperature fired material fired at about 200 ° C. The intermediate Ni plating layer facilitates the adhesion of the Au plating layer, and the uppermost Au plating layer is formed when the end face electrode 3 is soldered to a solder land of a mother substrate (not shown). This is for preventing the lower layer Ag from depositing on the solder. Then, in a completed electronic circuit unit in which the cover 2 is attached to the alumina substrate 1, a leg piece 2a formed by bending the side surface of the cover 2 is connected to the ground electrode (GND).
, And the cover 2 is connected to the 4
The corner is grounded.

【0017】前述した各回路構成素子のうち、コンデン
サC1〜C7は下部電極の上にSiO2等の誘電体膜を介し
て上部電極を積層したもので、これらはスパッタリング
等を用いて薄膜形成されている。上部電極の表面にはC
u層が設けられており、このCu層によって共振回路の
Qが高められている。コンデンサC1〜C7の下部電極
と上部電極は導電パターンPに接続されており、図2に
示すように、コンデンサC7とVcc電極間の導電パター
ンP、コンデンサC7とRFout電極間の導電パターン
P、コンデンサC2とVctl電極間の導電パターンPに
は、それぞれ放電用の近接部(エアーギャップ)Gが設
けられている。この近接部Gは互いに対向して並設され
た導電パターンPのそれぞれに設けられた一対の突部に
よって構成されており、両突部の尖端同士は所定のギャ
ップを存して対向している。この場合、導電パターンP
とGND電極の寸法精度はいずれも薄膜技術により高く
なるため、近接部Gのギャップ寸法を狭めることがで
き、低電圧での放電が可能となっている。また、各コン
デンサC1〜C7のうち、コンデンサC1とC3〜C5
は単純な方形状に形成されているが、コンデンサC2と
C7については2つ以上の方形を組み合わせた異形状に
形成されている。すなわち、コンデンサC2は1つの矩
形の一辺から2つの矩形を突出させた凹形状であり、コ
ンデンサC7は3つの矩形を長辺方向にずらして連続さ
せた形状になっている。これらコンデンサC2とC7は
比較的大きな容量値を必要とする接地用コンデンサであ
り、接地用コンデンサC2とC7をこのような異形状に
すると、アルミナ基板1上の限られたスペースが有効利
用され、所望の容量値のコンデンサを高密度実装するこ
とができる。
Among the above-described circuit components, the capacitors C1 to C7 are formed by laminating an upper electrode on a lower electrode via a dielectric film such as SiO 2 , and these are formed as thin films by sputtering or the like. ing. C on the surface of the upper electrode
A u layer is provided, and the Q of the resonance circuit is increased by the Cu layer. The lower electrode and the upper electrode of the capacitors C1 to C7 are connected to the conductive pattern P, and as shown in FIG. 2, the conductive pattern P between the capacitor C7 and the Vcc electrode, the conductive pattern P between the capacitor C7 and the RFout electrode, Each of the conductive patterns P between the C2 and Vctl electrodes is provided with a proximity part (air gap) G for discharge. The proximity portion G is constituted by a pair of protrusions provided on each of the conductive patterns P arranged side by side facing each other, and the tips of both protrusions face each other with a predetermined gap. . In this case, the conductive pattern P
In addition, since the dimensional accuracy of the gate electrode and the GND electrode is improved by the thin film technology, the gap dimension of the adjacent portion G can be narrowed, and discharge at a low voltage is possible. Further, among the capacitors C1 to C7, the capacitors C1 and C3 to C5
Is formed in a simple square shape, but the capacitors C2 and C7 are formed in different shapes by combining two or more square shapes. That is, the capacitor C2 has a concave shape in which two rectangles protrude from one side of one rectangle, and the capacitor C7 has a shape in which three rectangles are successively shifted in the long side direction. These capacitors C2 and C7 are grounding capacitors that require a relatively large capacitance value. When the grounding capacitors C2 and C7 are formed in such irregular shapes, the limited space on the alumina substrate 1 is effectively used, A capacitor having a desired capacitance value can be mounted at a high density.

【0018】さらに、各コンデンサC1〜C7のうち、
コンデンサC6は大きさを異にする2つの接地用コンデ
ンサで構成されており、両者は互いに分離された一対の
導電パターンPを介して並列接続されている。すなわ
ち、図2に示すように、両接地用コンデンサC6の各一
方の電極部はGND電極に繋がる接地用の導電パターン
Pに接続されているが、両接地用コンデンサC6の各他
方の電極部は互いに分離された2つの導電パターンPを
介してトランジスタTr1の接続ランドSLに接続され
ている。図4から明らかなように、コンデンサC6はト
ランジスタTr1のエミッタと接地間に設けられてお
り、前記接続ランドSLはトランジスタTr1のエミッ
タ電極がワイヤーボンディングされる箇所であるため、
コンデンサC6の容量値は互いに分離された導電パター
ンPを介して並列接続された2つの接地用コンデンサに
よって設定されることになる。したがって、トランジス
タTr1のエミッタ電極からコンデンサC6を介して接
地に至る導電パターンP全体のインダクタンスが減少し
て、接地用コンデンサC6による接続ランドSLの接地
効果が向上することになり、また、各接地用コンデンサ
C6と各導電パターンPとによる寄生発振周波数が高く
なるため、この周波数をトランジスタTr1の動作点周
波数以上に設定することにより、寄生振動をなくすこと
ができる。
Further, among the capacitors C1 to C7,
The capacitor C6 is composed of two grounding capacitors having different sizes, and both are connected in parallel via a pair of conductive patterns P separated from each other. That is, as shown in FIG. 2, each one electrode portion of both grounding capacitors C6 is connected to the grounding conductive pattern P connected to the GND electrode, while each other electrode portion of both grounding capacitors C6 is The transistor Tr1 is connected to the connection land SL of the transistor Tr1 via two conductive patterns P separated from each other. As is clear from FIG. 4, the capacitor C6 is provided between the emitter of the transistor Tr1 and the ground, and the connection land SL is a place where the emitter electrode of the transistor Tr1 is wire-bonded.
The capacitance value of the capacitor C6 is set by two grounding capacitors connected in parallel via the conductive patterns P separated from each other. Accordingly, the inductance of the entire conductive pattern P from the emitter electrode of the transistor Tr1 to the ground via the capacitor C6 is reduced, and the grounding effect of the connection land SL by the grounding capacitor C6 is improved. Since the parasitic oscillation frequency caused by the capacitor C6 and each conductive pattern P increases, the parasitic oscillation can be eliminated by setting this frequency to be equal to or higher than the operating point frequency of the transistor Tr1.

【0019】抵抗R1〜R3は例えばTaSiO2等の抵抗膜
をスパッタリング等の薄膜技術を用いて形成したもの
で、その表面には必要に応じてSiO2等の誘電体膜が設け
られている。図2に示すように、3つの抵抗R1〜R3
のうち、抵抗R1とR2はアルミナ基板1上の互いに近
接した位置に並設して薄膜形成され、残りの抵抗R3は
抵抗R1とR2から離れた位置に薄膜形成されている。
このように抵抗R1とR2を近接した位置に薄膜形成し
てあるため、各抵抗R1,R2の抵抗値が所望値に対し
てバラツキを生じたとしても、抵抗R1,R2全体のバ
ラツキの比率を同じにすることができる。図4から明ら
かなように、抵抗R1とR2はトランジスタTr1のベ
ースバイアス用分圧抵抗であり、R1/(R1+R2)
×Vccの電圧がトランジスタTr1のベースに印加され
る。ここで、ベースバイアス用分圧抵抗である抵抗R
1,R2全体のバラツキの比率は前述したように常に同
じであるため、これら抵抗R1,R2に対する抵抗値の
トリミングは不要となる。一方、抵抗R3はトランジス
タTr1のエミッタ抵抗であり、電流はVcc電極からト
ランジスタTr1のコレクタとエミッタに流れ、さらに
抵抗R3を通って接地される。ここで、各抵抗R1〜R
3のうち、エミッタ抵抗である抵抗R3によるトランジ
スタTr1の増幅度への寄与が最も大きいため、電流値
が一定になるように抵抗R3のみをトリミングして出力
調整するようにしてある。
The resistors R1 to R3 are each formed by forming a resistive film such as TaSiO 2 by using a thin film technique such as sputtering, and a dielectric film such as SiO 2 is provided on the surface thereof as required. As shown in FIG. 2, three resistors R1 to R3
Among them, the resistors R1 and R2 are formed as thin films side by side at positions close to each other on the alumina substrate 1, and the remaining resistor R3 is formed as a thin film at positions away from the resistors R1 and R2.
As described above, since the resistors R1 and R2 are formed as thin films at positions close to each other, even if the resistance values of the resistors R1 and R2 vary from a desired value, the ratio of the variation of the entire resistors R1 and R2 is reduced. Can be the same. As is clear from FIG. 4, the resistors R1 and R2 are voltage dividing resistors for the base bias of the transistor Tr1, and R1 / (R1 + R2)
A voltage of × Vcc is applied to the base of the transistor Tr1. Here, a resistor R which is a voltage dividing resistor for base bias is used.
As described above, the ratio of the variation between the resistors R1 and R2 is always the same, so that it is not necessary to trim the resistance values of the resistors R1 and R2. On the other hand, the resistor R3 is an emitter resistor of the transistor Tr1, and a current flows from the Vcc electrode to the collector and the emitter of the transistor Tr1, and is further grounded through the resistor R3. Here, each of the resistors R1 to R
3, the emitter R3 has the largest contribution to the amplification of the transistor Tr1. Therefore, only the resistor R3 is trimmed to adjust the output so that the current value is constant.

【0020】また、インダクタンス素子L1〜L3と導
電路S1,S2は、CrやCu等をスパッタリング等の
薄膜技術を用いて形成したもので、導電パターンPに接
続されている。各インダクタンス素子L1〜L3の表面
にはCu層が設けられており、このCu層によって共振
回路のQが高められている。インダクタンス素子L1と
L2はいずれも角形の渦巻き形状に形成されており、そ
れぞれの一端はVctl電極や接地用の導電パターンPに
ワイヤーボンディングされている。インダクタンス素子
L2は概略の共振周波数を設定する共振周波数設定用で
あり、インダクタンス素子L3はインダクタンス素子L
2の他端に連続している。インダクタンス素子L3は共
振周波数を調整するための調整用導電パターンであり、
図2の破線で示すように、インダクタンス素子L3をト
リミングして削ることにより、インダクタンス素子L2
の巻数が増加して共振周波数を調整するようになってい
る。この場合、トリミング後のインダクタンス素子L3
の導体幅が共振周波数設定用のインダクタンス素子L2
の導体幅と同じになるようにすれば、インダクタンス素
子L2とインダクタンス素子L3の特性インピーダンス
が変わらなくなり、C/N比が良好な発振を得ることが
できる。
The inductance elements L1 to L3 and the conductive paths S1 and S2 are made of Cr, Cu, or the like by using a thin film technique such as sputtering, and are connected to the conductive pattern P. A Cu layer is provided on the surface of each of the inductance elements L1 to L3, and the Cu layer enhances the Q of the resonance circuit. Each of the inductance elements L1 and L2 is formed in a rectangular spiral shape, and one end of each is wire-bonded to a Vctl electrode or a conductive pattern P for grounding. The inductance element L2 is for setting a resonance frequency for setting an approximate resonance frequency, and the inductance element L3 is for setting the inductance element L.
2 is continuous with the other end. The inductance element L3 is an adjustment conductive pattern for adjusting the resonance frequency,
As shown by the broken line in FIG. 2, the inductance element L3
Are increased to adjust the resonance frequency. In this case, the trimmed inductance element L3
Is the inductance element L2 for setting the resonance frequency.
, The characteristic impedances of the inductance element L2 and the inductance element L3 do not change, and oscillation with a good C / N ratio can be obtained.

【0021】前述したように、不平衡/平衡変換素子T
は互いに結合した一対の導電路S1,S2からなるイン
ダクタンス素子によって構成され、これら導電路S1,
S2はアルミナ基板1上に薄膜形成されている。これら
導電路S1,S2はアルミナ基板1上で所定のギャップ
を介して対向するように渦巻き状に形成されており、一
方の導電路S1の両端はトランジスタTr1のコレクタ
電極とコンデンサC7に接続された導電パターンPとに
接続され、他方の導電路S2の両端は一対のRFout電
極に接続されている。この場合、薄膜形成された導電路
S1,S2の寸法精度が高いため、両導電路S1,S2
間のギャップを狭くして所望の結合度を確保することが
でき、アルミナ基板1上の限られたスペース内に小形の
不平衡/平衡変換素子Tを設けることができる。
As described above, the unbalanced / balanced conversion element T
Is formed by an inductance element composed of a pair of conductive paths S1 and S2 coupled to each other.
S2 is formed on the alumina substrate 1 as a thin film. These conductive paths S1 and S2 are spirally formed on the alumina substrate 1 so as to face each other with a predetermined gap therebetween. Both ends of one conductive path S1 are connected to the collector electrode of the transistor Tr1 and the capacitor C7. The other end of the other conductive path S2 is connected to a pair of RFout electrodes. In this case, since the dimensional accuracy of the conductive paths S1 and S2 formed as a thin film is high, both the conductive paths S1 and S2
A desired coupling degree can be ensured by narrowing the gap between them, and a small unbalanced / balanced conversion element T can be provided in a limited space on the alumina substrate 1.

【0022】また、ダイオードD1とトランジスタTr
1は、アルミナ基板1上に薄膜形成された導電パターン
Pの接続ランドに半導体ベアチップを搭載し、該半導体
ベアチップを導電パターンPにワイヤーボンディングし
たものである。すなわち、図2に示すように、ダイオー
ドD1の半導体ベアチップは角形形状をなし、その下面
に設けられた一方の電極がクリーム半田や導電ペースト
等の導電性接着剤を用いて接続ランドに固定され、半導
体ベアチップの上面に設けられた他方の電極が導電パタ
ーンPの所定部位にワイヤーボンディングされている。
また、トランジスタTr1の半導体ベアチップも角形形
状をなし、その下面に設けられたコレクタ電極が導電性
接着剤を用いて接続ランドに固定され、ベース電極とエ
ミッタ電極が導電パターンPの所定部位にワイヤーボン
ディングされている。前述した端面電極3と同様に、こ
れら接続ランド上にもNi下地メッキ層とAuメッキ層
が順次積層されている。ここで、図7(a)または
(b)に示すように、半導体ベアチップ4の下面積に対
して接続ランド5の面積が小さく形成されており、この
ような構成を採用することにより、半導体ベアチップ4
の下方に導電性接着剤の溜り部が確保されるため、導電
性接着剤が半導体ベアチップ4の外形からはみ出して周
囲の導電パターンPと短絡する事故を未然に防止するこ
とができる。また、接続ランド5の内部に開口5aが設
けられており、これによって余剰の導電性接着剤が開口
5a内に溜められるため、導電性接着剤のはみ出しをよ
り確実に防止できるようになっている。
The diode D1 and the transistor Tr
Reference numeral 1 denotes a semiconductor bare chip mounted on a connection land of a conductive pattern P formed as a thin film on an alumina substrate 1, and the semiconductor bare chip is wire-bonded to the conductive pattern P. That is, as shown in FIG. 2, the semiconductor bare chip of the diode D1 has a square shape, and one electrode provided on the lower surface thereof is fixed to the connection land using a conductive adhesive such as cream solder or conductive paste. The other electrode provided on the upper surface of the semiconductor bare chip is wire-bonded to a predetermined portion of the conductive pattern P.
The semiconductor bare chip of the transistor Tr1 also has a square shape, a collector electrode provided on the lower surface thereof is fixed to a connection land using a conductive adhesive, and a base electrode and an emitter electrode are wire-bonded to predetermined portions of the conductive pattern P. Have been. Similarly to the end face electrode 3 described above, a Ni base plating layer and an Au plating layer are sequentially laminated on these connection lands. Here, as shown in FIG. 7A or 7B, the area of the connection land 5 is formed to be smaller than the lower area of the semiconductor bare chip 4, and by adopting such a configuration, the semiconductor bare chip 4
, A reservoir of the conductive adhesive is secured below the semiconductor chip 4, so that an accident that the conductive adhesive protrudes from the outer shape of the semiconductor bare chip 4 and short-circuits with the surrounding conductive pattern P can be prevented beforehand. Further, an opening 5a is provided in the connection land 5, and since an excess of the conductive adhesive is accumulated in the opening 5a, it is possible to more reliably prevent the conductive adhesive from protruding. .

【0023】次に、上記の如く構成された電子回路ユニ
ットの製造工程について主として図8と図9を用いて説
明する。
Next, the manufacturing process of the electronic circuit unit configured as described above will be described mainly with reference to FIGS.

【0024】まず、縦横に格子状に延びる分割溝が刻設
されたアルミナ材からなる大版基板1Aを準備し、図8
(a)に示すように、この大版基板1Aの表面全体にTa
SiO2等をスパッタリングした後、これを所望形状にエッ
チングして抵抗膜6を形成することにより、抵抗R1〜
R3に相当する部分が構成される。次に、図8(b)示
すように、抵抗膜6の上からCrやCu等をスパッタリ
ングし、これを所望形状にエッチングして下部電極7を
形成した後、図8(c)に示すように、下部電極7の上
からSiO2等をスパッタリングし、これを所望形状にエッ
チングして誘電体膜8を形成する。次に、図8(d)に
示すように、誘電体膜8の上からCrやCu等をスパッ
タリングした後、これを所望形状にエッチングして上部
電極9を形成する。その結果、下部電極7または上部電
極9によって導電パターンPとインダクタンス素子L1
〜L3および導電路S1,S2に相当する部分が構成さ
れ、下部電極7と誘電体膜8および上部電極9の積層体
によってコンデンサC1〜C7に相当する部分が構成さ
れる。次に、インダクタンス素子L1〜L3とコンデン
サC1〜C7および導電路S1,S2に相当する部分の
表面にCu層をメッキまたは薄膜技術で形成した後、図
8(e)に示すように、導電パターンPを除く部分に保
護膜10を形成する。次に、図8(f)に示すように、
大版基板1Aの裏面全体にCrやCu等をスパッタリン
グした後、これを所望形状にエッチングして背面電極1
1を形成することにより、裏面側の導電パターンP1に
相当する部分が構成される。
First, a large plate substrate 1A made of an alumina material having division grooves extending vertically and horizontally in a grid pattern is prepared.
As shown in (a), the entire surface of the large substrate 1A is covered with Ta.
After sputtering of SiO 2 or the like, this is etched into a desired shape to form the resistance film 6, thereby forming the resistances R 1 to R 1.
A part corresponding to R3 is configured. Next, as shown in FIG. 8B, Cr or Cu or the like is sputtered from above the resistive film 6, and is etched into a desired shape to form the lower electrode 7, and as shown in FIG. Then, SiO 2 or the like is sputtered from above the lower electrode 7 and etched into a desired shape to form a dielectric film 8. Next, as shown in FIG. 8D, after sputtering Cr, Cu, or the like from above the dielectric film 8, this is etched into a desired shape to form the upper electrode 9. As a result, the conductive pattern P and the inductance element L1 are formed by the lower electrode 7 or the upper electrode 9.
L3 and the portions corresponding to the conductive paths S1 and S2 are formed, and the laminated body of the lower electrode 7, the dielectric film 8 and the upper electrode 9 forms the portions corresponding to the capacitors C1 to C7. Next, after a Cu layer is formed on the surfaces of the portions corresponding to the inductance elements L1 to L3, the capacitors C1 to C7, and the conductive paths S1 and S2 by plating or thin film technology, as shown in FIG. The protective film 10 is formed in a portion excluding P. Next, as shown in FIG.
After sputtering Cr, Cu, or the like on the entire back surface of the large plate substrate 1A, this is etched into a desired shape to form a back electrode 1
By forming No. 1, a portion corresponding to the conductive pattern P1 on the back surface side is formed.

【0025】以上説明した図8(a)〜(f)の工程は
大版基板1Aに対して行なわれ、以下に説明する図8
(g)〜(j)の工程は、この大版基板1Aを一方向の
分割溝に沿って切断することで得られる短冊状基板1B
に対して行なわれる。
The steps of FIGS. 8A to 8F described above are performed on the large-size substrate 1A.
Steps (g) to (j) are performed by cutting the large substrate 1A along the one-way dividing groove.
Is performed on

【0026】すなわち、大版基板1Aを複数の短冊状基
板1Bに分割した後、図8(g)に示すように、この短
冊状基板1Bの分割面であるアルミナ基板1の両端面に
Ag層12を厚膜形成し、アルミナ基板1の表裏両面に
設けられた導電パターンP,P1の接地用電極(GN
D)と入力用電極(Vcc,Vctl,RFin)および出力
用電極(RFout)同志をAg層12で導通する。この
Ag層12は前述した端面電極3のAg厚膜層に相当
し、ガラス成分を含まないAgペーストからなる低温焼
成材である。なお、かかるAg層12の厚膜形成工程を
1つの短冊状基板1Bに対して行なうことも可能である
が、複数の短冊状基板1Bを若干の隙間を存して重ね合
わせた状態にすれば、Ag層12を複数の短冊状基板1
Bに対して同時に厚膜形成することができ、大量生産に
好適となる。次に、Ag層12と半導体ベアチップが搭
載される接続ランドの各表面にNi下地層とAu層を順
次メッキした後、図8(h)に示すように、各接続ラン
ド上にダイオードD1とトランジスタTr1の半導体ベ
アチップをクリーム半田や導電ペースト等の導電性接着
剤を用いて固定する。この場合、前述したように、半導
体ベアチップの下面積に対して接続ランドの面積が小さ
く形成されているため、導電性接着剤の半導体ベアチッ
プからのはみ出しが防止され、導電性接着剤が半導体ベ
アチップの周囲の導電パターンPと不所望に短絡しない
ようになっている。次に、図8(i)に示すように、各
半導体ベアチップを導電パターンPの所定部位にワイヤ
ーボンディングした後、図8(j)に示すように、エミ
ッタ抵抗である抵抗R3をトリミングして出力調整する
と共に、調整用導電パターンであるインダクタンス素子
L3をトリミングして共振周波数を調整する。この場
合、共振周波数の調整は個々のアルミナ基板1に分割す
る前の短冊状基板1Bの状態で行なわれ、各アルミナ基
板1の隅部に接地用電極(GND)が設けられているた
め、隣接するアルミナ基板1に設けられた入力用電極
(Vcc,Vctl,RFin)および出力用電極(RFout)
間に必ず接地用電極(GND)が位置することになり、
共振周波数の調整が隣接するアルミナ基板1の回路へ悪
影響を及ぼさないようになっている。
That is, after dividing the large-sized substrate 1A into a plurality of strip-shaped substrates 1B, as shown in FIG. 8 (g), Ag layers are formed on both end surfaces of the alumina substrate 1 which is a divided surface of the strip-shaped substrate 1B. 12 is formed as a thick film, and the grounding electrodes (GN) of the conductive patterns P and P1 provided on the front and back surfaces of the alumina substrate 1 are formed.
D), the input electrode (Vcc, Vctl, RFin) and the output electrode (RFout) are electrically connected through the Ag layer 12. The Ag layer 12 corresponds to the Ag thick film layer of the end face electrode 3 described above, and is a low-temperature fired material made of an Ag paste containing no glass component. Note that the thick film forming step of the Ag layer 12 can be performed on one strip-shaped substrate 1B. However, if a plurality of strip-shaped substrates 1B are overlapped with a slight gap therebetween, , Ag layer 12 and a plurality of strip-shaped substrates 1
B can be simultaneously formed into a thick film, which is suitable for mass production. Next, after a Ni underlayer and an Au layer are sequentially plated on each surface of the connection land on which the Ag layer 12 and the semiconductor bare chip are mounted, as shown in FIG. 8H, a diode D1 and a transistor are provided on each connection land. The semiconductor bare chip of Tr1 is fixed using a conductive adhesive such as cream solder or conductive paste. In this case, as described above, since the area of the connection land is formed smaller than the lower area of the semiconductor bare chip, the conductive adhesive is prevented from protruding from the semiconductor bare chip, and the conductive adhesive is applied to the semiconductor bare chip. Undesired short circuit with the surrounding conductive pattern P is prevented. Next, as shown in FIG. 8 (i), after each semiconductor bare chip is wire-bonded to a predetermined portion of the conductive pattern P, as shown in FIG. 8 (j), a resistor R3 which is an emitter resistor is trimmed and output. At the same time, the resonance frequency is adjusted by trimming the inductance element L3, which is an adjustment conductive pattern. In this case, the adjustment of the resonance frequency is performed in the state of the strip-shaped substrate 1B before being divided into the individual alumina substrates 1, and since the grounding electrode (GND) is provided at the corner of each alumina substrate 1, Electrodes (Vcc, Vctl, RFin) and output electrodes (RFout) provided on the alumina substrate 1
The ground electrode (GND) is always located between them,
Adjustment of the resonance frequency does not adversely affect the circuit of the adjacent alumina substrate 1.

【0027】このようにして必要とされる回路構成素子
や端面電極3を短冊状基板1Bに全て形成した後、図9
(a)に示すように、短冊状基板1Bに対してカバー連
続体2Aを矢印方向へスライド移動することにより、短
冊状基板1Bにカバー連続体2Aを被着する。このカバ
ー連続体2Aは金属板を断面コ字状に折り曲げ加工した
もので、その長手方向両側の折り曲げ部分には複数の脚
片2aが形成されている。また、カバー連続体2Aには
長手方向に所定の間隔を存して複数の繋ぎ部2bが形成
されており、各繋ぎ部2bの両側には短手方向へ延びる
切り込み2cが形成されている。さらに、カバー連続体
2Aの長手方向の一端部は挿入ガイド2dとなってお
り、この挿入ガイド2dは短冊状基板1Bの短手方向に
沿う幅寸法Wよりも幾分幅広に形成されている。したが
って、カバー連続体2Aをこの挿入ガイド2d側から短
冊状基板1Bにスライド挿入すると、カバー連続体2A
を短冊状基板1Bに対してスムーズに挿入することがで
き、脚片2aの変形も防止することができる。
After all the necessary circuit components and end face electrodes 3 are formed on the strip-shaped substrate 1B in this manner, FIG.
As shown in (a), the cover continuous body 2A is attached to the strip-shaped substrate 1B by sliding the cover continuous body 2A in the arrow direction with respect to the strip-shaped substrate 1B. The cover continuous body 2A is formed by bending a metal plate into a U-shaped cross section, and a plurality of leg pieces 2a are formed at bent portions on both sides in the longitudinal direction. In the cover continuous body 2A, a plurality of connecting portions 2b are formed at predetermined intervals in the longitudinal direction, and cutouts 2c extending in the lateral direction are formed on both sides of each connecting portion 2b. Further, one end of the continuous cover 2A in the longitudinal direction is an insertion guide 2d, and the insertion guide 2d is formed to be somewhat wider than the width W of the strip-shaped substrate 1B in the short direction. Therefore, when the cover continuous body 2A is slid and inserted into the strip-shaped substrate 1B from the insertion guide 2d side, the cover continuous body 2A
Can be smoothly inserted into the strip-shaped substrate 1B, and deformation of the leg 2a can be prevented.

【0028】このようにカバー連続体2Aを短冊状基板
1Bに被着した後、カバー連続体2Aの脚片2aを短冊
状基板1Bの接地用電極(GND)に導通する端面電極
3にディスペンサ等を用いて半田付けする。しかる後、
図9(b)に示すように、レーザ加工機13あるいは図
示せぬダイシングカッタを用い、カバー連続体2Aと短
冊状基板1Bを同図の2点鎖線で示す方向に切断するこ
とにより、短冊状基板1Bが複数のアルミナ基板1に分
割されると共に、カバー連続体2Aが複数のカバー2に
分割され、個々のアルミナ基板1にカバー2が取り付け
られた電子回路ユニットの完成品が得られる(図1参
照)。この場合、カバー連続体2Aは切り込み2cに沿
って切断されるため、その切断代は繋ぎ部2bのみで済
み、カバー連続体2Aと短冊状基板1Bを一括して簡単
に切断することができる。なお、カバー連続体2Aの全
長を短冊状基板1Bよりも幾分長めに設定しておき、カ
バー連続体2Aを短冊状基板1Bに被着した状態で、挿
入ガイド2dのみが短冊状基板1Bから突出するように
しておけば、挿入ガイド2dを切断によって破棄処分す
ることができる。
After the continuous cover 2A is attached to the strip-shaped substrate 1B as described above, the leg piece 2a of the continuous cover 2A is connected to the end face electrode 3 which is electrically connected to the ground electrode (GND) of the strip-shaped substrate 1B. Solder using. After a while
As shown in FIG. 9 (b), the cover continuous body 2A and the strip-shaped substrate 1B are cut in a direction indicated by a two-dot chain line in FIG. The substrate 1B is divided into a plurality of alumina substrates 1, and the cover continuous body 2A is divided into a plurality of covers 2, thereby obtaining a completed electronic circuit unit in which the cover 2 is attached to each alumina substrate 1. 1). In this case, since the cover continuous body 2A is cut along the cuts 2c, only the connecting portion 2b needs to be cut, and the cover continuous body 2A and the strip-shaped substrate 1B can be easily and collectively cut. It should be noted that the entire length of the continuous cover 2A is set to be slightly longer than the rectangular substrate 1B, and only the insertion guide 2d is moved from the rectangular substrate 1B while the continuous cover 2A is attached to the rectangular substrate 1B. If it is made to protrude, the insertion guide 2d can be discarded by cutting.

【0029】上記実施形態例に係る電子回路ユニットに
よれば、アルミナ基板1上にコンデンサC1〜C7、抵
抗R1〜R3、インダクタンス素子L1〜L3、導電路
S1,S2等の回路素子とこれら回路素子に接続される
導電パターンPとを薄膜形成すると共に、このアルミナ
基板1上にダイオードD1とトランジスタTr1の半導
体ベアチップをワイヤーボンディングし、かつ、アルミ
ナ基板1の側面に導電パターンの接地用電極と入力用電
極および出力用電極に接続される端面電極3を設けたた
め、必要とされる回路構成素子を薄膜技術と半導体素子
のワイヤーボンディングとを用いてアルミナ基板1上に
高密度に実装でき、小型化に好適な面実装タイプの電子
回路ユニットを実現することができる。また、短冊状基
板1Bとカバー連続体2Aを組み合わせて一体化した
後、両者をレーザやダイシング等で切断して複数のアル
ミナ基板1とカバー2に分割するようにしたため、アル
ミナ基板1にカバー2が取り付けられた電子回路ユニッ
トの完成品を複数個同時に得ることができ、量産性を高
めることができる。さらに、短冊状基板1Bとカバー連
続体2Aを組み合わせる際に、カバー連続体2Aを短冊
状基板1Bに対して長手方向へスライド移動することに
より、カバー連続体2Aの脚片2a間に短冊状基板1B
を挿入するようにしたため、カバー連続体2Aの脚片2
aの変形を防止することができ、しかも、カバー連続体
2Aの挿入端に短冊状基板1Bの幅寸法よりも幅広な挿
入ガイド2dが形成されているため、カバー連続体2A
を短冊状基板1Bにスムーズに挿入することができる。
さらにまた、カバー連続体2Aに繋ぎ部2bを残して短
手方向へ延びる切り込み2cが形成されているため、カ
バー連続体2Aの切断箇所が繋ぎ部2bだけで済み、カ
バー連続体2Aと短冊状基板1Bを一括して簡単に切断
することができる。
According to the electronic circuit unit according to the above embodiment, circuit elements such as capacitors C1 to C7, resistors R1 to R3, inductance elements L1 to L3, conductive paths S1 and S2, and these circuit elements are formed on the alumina substrate 1. And a semiconductor bare chip of a transistor Tr1 are wire-bonded on the alumina substrate 1 and a grounding electrode of the conductive pattern and an input terminal are formed on the side surface of the alumina substrate 1. Since the end face electrode 3 connected to the electrode and the output electrode is provided, required circuit components can be mounted on the alumina substrate 1 at a high density by using thin film technology and wire bonding of a semiconductor element, thereby reducing the size. A suitable surface-mount type electronic circuit unit can be realized. Further, after combining and integrating the strip-shaped substrate 1B and the cover continuous body 2A, the both are cut by laser, dicing, or the like, so as to be divided into a plurality of alumina substrates 1 and the cover 2. A plurality of completed electronic circuit units to which is attached can be obtained at the same time, and mass productivity can be improved. Furthermore, when combining the strip-shaped substrate 1B and the cover continuous body 2A, the cover continuous body 2A is slid in the longitudinal direction with respect to the strip-shaped substrate 1B, so that the strip-shaped substrate 1B
Is inserted, the leg piece 2 of the cover continuum 2A is inserted.
a can be prevented, and the insertion guide 2d wider than the width of the strip-shaped substrate 1B is formed at the insertion end of the cover continuum 2A.
Can be smoothly inserted into the strip-shaped substrate 1B.
Furthermore, since the cut 2c extending in the lateral direction is formed in the cover continuum 2A, leaving the connecting portion 2b, the cut portion of the cover continuum 2A is only the connecting portion 2b, and the cover continuum 2A and the strip shape are formed. The substrate 1B can be easily cut at once.

【0030】なお、上記実施形態例では、カバー連続体
2Aを短冊状基板1Bに対して長手方向へスライド移動
する場合について説明したが、その逆に、短冊状基板1
Bをカバー連続体2Aに対して長手方向へスライド移動
するようにしてもよい。また、カバー連続体2Aと短冊
状基板1Bは同一手段で一度に切断する必要はなく、例
えば、カバー連続体2Aをレーザで切断した後、短冊状
基板1Bをダイシングで切断するようにしてもよい。あ
るいは、カバー連続体2Aに挿入ガイド2dを形成する
代わりに、短冊状基板1Bの挿入端の両側をテーパ状に
面取りし、この面取り部分を挿入ガイドとして機能させ
るようにしてもよい。
In the above-described embodiment, the case where the continuous cover 2A is slid in the longitudinal direction with respect to the strip-shaped substrate 1B has been described.
B may be slid in the longitudinal direction with respect to the cover continuum 2A. Further, the continuous cover 2A and the strip-shaped substrate 1B do not need to be cut at once by the same means. For example, after cutting the continuous cover 2A with a laser, the strip-shaped substrate 1B may be cut by dicing. . Alternatively, instead of forming the insertion guide 2d in the cover continuous body 2A, both sides of the insertion end of the strip-shaped substrate 1B may be chamfered in a tapered shape, and the chamfered portion may function as an insertion guide.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
The present invention is embodied in the form described above and has the following effects.

【0032】コンデンサと抵抗およびインダクタンス素
子を含む回路素子が薄膜技術を用いて高精度に形成され
ると共に、半導体素子はベアチップをワイヤーボンディ
ングしたものであるため、アルミナ基板上に必要とされ
る回路部品が高密度に実装された小型化に好適な電子回
路ユニットを実現することができ、しかも、このような
電子回路ユニットの完成品は、短冊状基板とカバー連続
体を組み合わせて一体化した後、両者を個々のアルミナ
基板とカバーに切断することによって得られるため、量
産性を高めることができる。
Circuit elements including capacitors, resistors and inductance elements are formed with high precision using thin film technology, and the semiconductor elements are formed by wire bonding of bare chips, so that circuit components required on an alumina substrate are required. It is possible to realize an electronic circuit unit suitable for miniaturization, which is mounted at high density, and furthermore, after a completed product of such an electronic circuit unit is integrated by combining a strip-shaped substrate and a cover continuous body, Since both are obtained by cutting each into an alumina substrate and a cover, mass productivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態例に係る電子回路ユニットの
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of an electronic circuit unit according to an embodiment of the present invention.

【図2】回路構成レイアウトを示すアルミナ基板の平面
図である。
FIG. 2 is a plan view of an alumina substrate showing a circuit configuration layout.

【図3】アルミナ基板の裏面図である。FIG. 3 is a rear view of the alumina substrate.

【図4】回路構成の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a circuit configuration.

【図5】端面電極を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing an end face electrode.

【図6】端面電極の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of an end face electrode.

【図7】半導体ベアチップと接続ランドの関係を示す説
明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship between a semiconductor bare chip and connection lands.

【図8】短冊状基板を得るまでの製造工程を示す説明図
である。
FIG. 8 is an explanatory view showing a manufacturing process until a strip-shaped substrate is obtained.

【図9】短冊状基板とカバー連続体から電子回路ユニッ
トの完成品を得るまでの製造工程を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a manufacturing process until a completed electronic circuit unit is obtained from a strip-shaped substrate and a continuous cover.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アルミナ基板 1A 大版基板 1B 短冊状基板 2 カバー 2A カバー連続体 2a 脚片 2b 繋ぎ部 2c 切り込み 2d 挿入ガイド 3 端面電極 4 半導体ベアチップ 5 接続ランド 6 抵抗膜 7 下部電極 8 誘電体膜 9 上部電極 10 保護膜 11 背面電極 12 Ag層 13 レーザ加工機 C1〜C7 コンデンサ R1〜R3 抵抗 L1〜L3 インダクタンス素子 Tr1 トランジスタ S1,S2 導電路 P,P1 導電パターン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Alumina substrate 1A Large plate 1B Strip-shaped substrate 2 Cover 2A Cover continuous body 2a Leg piece 2b Connecting part 2c Cut 2d Insertion guide 3 End face electrode 4 Semiconductor bare chip 5 Connection land 6 Resistive film 7 Lower electrode 8 Dielectric film 9 Upper electrode DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Protective film 11 Back electrode 12 Ag layer 13 Laser processing machine C1-C7 Capacitor R1-R3 Resistance L1-L3 Inductance element Tr1 Transistor S1, S2 Conduction path P, P1 Conduction pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 25/00 H01L 23/12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 25/00 H01L 23/12

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アルミナ材料からなる大版基板上に、コ
ンデンサと抵抗およびインダクタンス素子を含む回路素
子を薄膜形成すると共に半導体ベアチップをワイヤーボ
ンディングした後、該大版基板を複数の短冊状基板に分
割する工程と、 前記短冊状基板の長手方向に沿う両側面に端面電極を設
ける工程と、 金属板を断面コ字状に折り曲げ加工したカバー連続体を
前記短冊状基板に被着した後、該カバー連続体の長手方
向両側に折り曲げ形成された脚片を前記端面電極に半田
付けする工程と、 半田付け後の前記カバー連続体と前記短冊状基板を長手
方向に所定の間隔を存して複数に切断し、個々のアルミ
ナ基板にカバーが取り付けられた完成品を得る工程と、
を具備することを特徴とする電子回路ユニットの製造方
法。
1. After forming a thin film of a circuit element including a capacitor, a resistor, and an inductance element on a large substrate made of an alumina material and wire bonding a semiconductor bare chip, the large substrate is divided into a plurality of strip-shaped substrates. Performing a step of providing end electrodes on both side surfaces along the longitudinal direction of the strip-shaped substrate; and applying a cover continuous body obtained by bending a metal plate to a U-shaped cross section on the strip-shaped substrate. Soldering the leg pieces bent on both sides in the longitudinal direction of the continuum to the end surface electrode; and arranging the cover continuum and the strip-shaped substrate after soldering into a plurality at predetermined intervals in the longitudinal direction. Cutting and obtaining a finished product with a cover attached to each alumina substrate,
A method for manufacturing an electronic circuit unit, comprising:
【請求項2】 請求項1の記載において、前記カバー連
続体と前記短冊状基板を相対的に長手方向へスライド移
動することにより、該カバー連続体の脚片間に前記短冊
状基板を挿入したことを特徴とする電子回路ユニットの
製造方法。
2. The strip-shaped substrate according to claim 1, wherein the strip-shaped substrate is inserted between legs of the cover-continuous body by sliding the cover-continuous body and the strip-shaped substrate relatively in the longitudinal direction. A method for manufacturing an electronic circuit unit, comprising:
【請求項3】 請求項2の記載において、前記カバー連
続体の長手方向の端部に前記短冊状基板の短手方向に沿
う幅寸法よりも幅広な挿入ガイドを設けたことを特徴と
する電子回路ユニットの製造方法。
3. The electronic device according to claim 2, wherein an insertion guide wider than a width of the strip-shaped substrate along a width direction is provided at an end in a longitudinal direction of the cover continuum. A method for manufacturing a circuit unit.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかの記載におい
て、前記カバー連続体に繋ぎ部を残して短手方向へ延び
る切り込みを形成し、前記繋ぎ部を切断することによ
り、前記カバー連続体から前記カバーを得ることを特徴
とする電子回路ユニットの製造方法。
4. The cover continuum according to any one of claims 1 to 3, wherein a cut is formed in the cover continuum, extending in the lateral direction while leaving a connection portion, and the connection portion is cut. A method for manufacturing an electronic circuit unit, comprising: obtaining the cover from a substrate.
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