JPH05240797A - 表面検査装置 - Google Patents

表面検査装置

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JPH05240797A
JPH05240797A JP4470192A JP4470192A JPH05240797A JP H05240797 A JPH05240797 A JP H05240797A JP 4470192 A JP4470192 A JP 4470192A JP 4470192 A JP4470192 A JP 4470192A JP H05240797 A JPH05240797 A JP H05240797A
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JP
Japan
Prior art keywords
inspected
light
container
humidified air
foreign matter
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Withdrawn
Application number
JP4470192A
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English (en)
Inventor
Yurie Uehara
由里江 上原
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05240797A publication Critical patent/JPH05240797A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体ウェーハ、マスク等の被検査物表面に
付着した微小な異物の有無を検査する表面検査装置に関
し、微小な異物を確実に検出することのできる表面検査
装置を提供することを目的とする。 【構成】 加湿空気を供給する加湿空気供給手段2を有
する容器1と、容器1中に設けられる被検査物支持装置
4と、被検査物支持装置4を冷却する冷却手段6と、被
検査物支持装置4に支持される被検査物5の全面に光ビ
ームを掃引する光照射装置7と、被検査物5からの散乱
光を受光する受光装置8とをもって構成される。なお、
被検査物支持装置に代えて、容器中に被検査物を搬送す
る搬送手段を設けることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハ、マス
ク等の被検査物表面に付着した微小な異物の有無を検査
する表面検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハ、マスク等の表面に付着
した異物の検査には光散乱式表面検査装置が伝統的に使
用されている。この装置は、被検査物の表面に光ビーム
を掃引し、被検査物表面に異物が付着している場合に発
生する散乱光を受光装置で受光して異物の有無を検査す
るものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】半導体デバイスの微細
化にともない、半導体ウェーハ、マスク等の表面に付着
する微小な異物が問題になってきた。そのため、検査し
うる異物の粒径をこれまでより小さくする必要がある。
【0004】しかしながら、異物の粒径が小さくなると
異物からの散乱光強度が弱くなり、ノイズレベルとの分
離が難しくなる。そこで、受光した散乱光強度のスライ
スレベルをシビアに決定することによって、何とか異物
の有無を検出するようにしている。
【0005】ところが、異物の面と照射ビームとのなす
角度の如何によって、また、照射ビームの中心が異物中
心から僅かにずれることによって散乱光強度が弱くな
り、異物からの散乱光がノイズレベルとみなされてしま
うことがある。
【0006】本発明の目的は、この欠点を解消すること
にあり、微小な異物を確実に検出することのできる表面
検査装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記いず
れの手段によっても達成される。第1の手段は、加湿空
気を供給する加湿空気供給手段(2)を有する容器
(1)と、この容器(1)中に設けられる被検査物支持
装置(4)と、この被検査物支持装置(4)を冷却する
冷却手段(6)と、前記の被検査物支持装置(4)に支
持される被検査物(5)の全面に光ビームを掃引する光
照射装置(7)と、前記の被検査物(5)からの散乱光
を受光する受光装置(8)とを有する表面検査装置であ
る。
【0008】第2の手段は、加湿空気を供給する加湿空
気供給手段(12)を有する容器(11)と、この容器(1
1)中に被検査物(15)を搬送する搬送手段(14)と、
この搬送手段(14)の下部に設けられた冷却手段(16)
と、前記の搬送手段(14)によって搬送される被検査物
(15)の全面に光ビームを掃引する光照射装置(17)
と、前記の被検査物(15)からの散乱光を受光する受光
装置(18)とを有する表面検査装置である。
【0009】
【作用】被検査物を冷却しておいて加湿空気を接触させ
ると、被検査物に付着している微小な異物の表面に水分
子が凝縮して異物の見かけ上の粒径が大きくなる。その
結果、散乱光強度が大きくなってノイズレベルとの分離
が容易になり、微小粒径の異物を確実に検出することが
可能になる。
【0010】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の二つの実施
例に係る表面検査装置について説明する。
【0011】第1実施例 図1参照 表面検査装置の構成図を図1に示す。図1において、1
は加湿空気供給手段2と加湿空気排出口3とを有する容
器である。容器1は必ずしも密閉構造の必要はない。4
は被検査物5を支持する被検査物支持装置であり、6は
被検査物支持装置4を冷却する冷却手段である。7は被
検査物支持装置4に支持された被検査物5の全面に光ビ
ームを掃引する光照射装置であり、8は光ビームを照射
された被検査物5の表面から乱反射する散乱光を受光す
る受光装置である。
【0012】冷却手段6によって冷却された被検査物5
に加湿空気供給手段2から加湿空気を供給すると、被検
査物5に付着している異物9に水分子が凝縮して異物9
の見かけ上の径が大きくなる。光照射装置7によって光
ビームを被検査物5の全面に掃引すると、異物が存在す
るところでは乱反射が発生し、その散乱光が受光装置8
によって受光されて異物の有無が検出される。なお、被
検査物5を常温の外気に晒せば異物表面に凝縮した水は
容易に除去される。
【0013】第2実施例 図2参照 表面検査装置の構成図を図2に示す。図2において、11
は加湿空気供給手段12と加湿空気排出口13とを有する容
器である。14は被検査物15を容器11内に搬送する搬送手
段であり、16は被検査物15を冷却するために搬送手段14
の下部に設けられた冷却手段である。なお、冷却手段16
は容器11の外に設けてもよい。17は容器11内に搬送され
る被検査物15の全面に光ビームを掃引する光照射手段で
あり、18は被検査物15から乱反射する散乱光を受光する
受光手段である。
【0014】搬送手段14によって容器11内に搬送される
被検査物15の表面に付着した微小異物は第1実施例と同
様の作用によって検出される。
【0015】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明に係る表面
検査装置においては、被検査物を冷却して加湿空気を接
触させることによって被検査物の表面に付着した異物の
表面に水分子を凝縮させ、異物の見かけ上の粒径を大き
くしているので、異物からの散乱光強度が大きくなり、
ノイズレベルとの分離が容易になって従来より小さな粒
径の異物まで検出可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る表面検査装置の構成図である。
【図2】被検査物搬送手段を有する表面検査装置の構成
図である。
【符号の説明】
1・11 容器 2・12 加湿空気供給手段 3・13 加湿空気排出口 4 被検査物支持装置 5・15 被検査物 6・16 冷却手段 7・17 光照射装置 8・18 受光装置 9 異物 14 搬送手段

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加湿空気を供給する加湿空気供給手段
    (2)を有する容器(1)と、 該容器(1)中に設けられる被検査物支持装置(4)
    と、 該被検査物支持装置(4)を冷却する冷却手段(6)
    と、 前記被検査物支持装置(4)に支持される被検査物
    (5)の全面に光ビームを掃引する光照射装置(7)
    と、 前記被検査物(5)からの散乱光を受光する受光装置
    (8)とを有することを特徴とする表面検査装置。
  2. 【請求項2】 加湿空気を供給する加湿空気供給手段
    (12)を有する容器(11)と、 該容器(11)中に被検査物(15)を搬送する搬送手段
    (14)と、 該搬送手段(14)の下部に設けられた冷却手段(16)
    と、 前記搬送手段(14)によって搬送される被検査物(15)
    の全面に光ビームを掃引する光照射装置(17)と、 前記被検査物(15)からの散乱光を受光する受光装置
    (18)とを有することを特徴とする表面検査装置。
JP4470192A 1992-03-02 1992-03-02 表面検査装置 Withdrawn JPH05240797A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09127006A (ja) * 1995-11-02 1997-05-16 Advanced Display:Kk 基板表面検査方法および該方法に用いる装置
JP2010107494A (ja) * 2008-09-30 2010-05-13 Espec Corp 結露核測定装置及び結露核測定方法
WO2010071277A1 (en) * 2008-12-19 2010-06-24 Secron Co., Ltd. Probe station
CN102778461A (zh) * 2012-08-21 2012-11-14 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示器中玻璃基板的检测方法及检测装置
TWI650544B (zh) * 2017-11-16 2019-02-11 致茂電子股份有限公司 表面量測系統
JP2020082076A (ja) * 2018-11-23 2020-06-04 致茂電子股▲分▼有限公司Chroma Ate Inc. 凝縮システム

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09127006A (ja) * 1995-11-02 1997-05-16 Advanced Display:Kk 基板表面検査方法および該方法に用いる装置
JP2010107494A (ja) * 2008-09-30 2010-05-13 Espec Corp 結露核測定装置及び結露核測定方法
WO2010071277A1 (en) * 2008-12-19 2010-06-24 Secron Co., Ltd. Probe station
KR101015602B1 (ko) * 2008-12-19 2011-02-17 세크론 주식회사 프로브 스테이션
TWI457569B (zh) * 2008-12-19 2014-10-21 Semes Co Ltd 探針台
CN102778461A (zh) * 2012-08-21 2012-11-14 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示器中玻璃基板的检测方法及检测装置
TWI650544B (zh) * 2017-11-16 2019-02-11 致茂電子股份有限公司 表面量測系統
US10436580B2 (en) 2017-11-16 2019-10-08 Chroma Ate Inc. Surface measurement system
JP2020082076A (ja) * 2018-11-23 2020-06-04 致茂電子股▲分▼有限公司Chroma Ate Inc. 凝縮システム
US11300491B2 (en) 2018-11-23 2022-04-12 Chroma Ate Inc. Condensing system

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