JP2023037588A - バブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法 - Google Patents

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Abstract

Figure 2023037588000001
【課題】液供給ユニットの内部を流動する液に含まれたバブルを測定することができるバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法を提供する。
【解決手段】本発明は基板を処理する装置を提供する。基板を処理する装置は基板に対して液を供給する液供給ユニット、前記液供給ユニットに提供された部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバー、及び前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットを含み、前記検査ユニットは前記カバーの外側で前記検査領域に向かって光を照射する光源、前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部及び前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部を含むことができる。
【選択図】図９

Description

本発明はバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法に関し、さらに詳細には流動する液に含まれるバブルを測定するバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法に関する。
半導体素子を製造するためには洗浄、蒸着、写真、蝕刻、そしてイオン注入のような様々な工程が遂行される。このような工程の中で写真工程は基板の表面にフォトレジストのような感光液を塗布して膜を形成する塗布工程、基板に形成された膜に回路パターンを転写する露光工程、露光処理された領域、又はその反対領域で選択的に基板上に形成された膜を除去する現像工程を含む。
洗浄、蒸着、写真、蝕刻、そしてイオン注入のような様々な工程において、液を供給する装置を構成する部品の内部を流動する液にはバブルが形成されることができる。バブルが含まれた液が基板上に供給される場合、基板上に形成される液の厚さの均一性を低下させる。したがって、基板の収率が減少する問題点を引き起こす。
したがって、部品の内部を流動するバブルの数及びサイズを感知して部品の内部を流動する液からバブルを除去しなければならない。したがって、部品の内部を流動する液に含まれたバブルの数及びサイズを正確に測定しなければならない。液供給装置を構成する部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成されることができる。部品の断面が曲線をなす場合、部品の境界面に向かって照射された光が反射又は屈折されることができる。光が反射されるか、或いは屈折されることによって、部品の内部を流動するバブルの形状が歪むことができる。したがって、部品に向かって光を照射して部品の内部を流動する液に含まれるバブルを検出することは難しい。これは部品の内部に流動するバブルのサイズ及び数を正確に測定することを妨害する。このような問題は部品の内部に流動するバブルのサイズが１０μm以下の微細なサイズを有するバブルの場合、さらに深くなる。
国際特許公開第ＷＯ２０１６０８４９２７Ａ１号公報
本発明の目的は液供給ユニットの内部を流動する液に含まれたバブルを測定することができるバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法を提供することにある。
また、本発明の目的は液供給ユニットに提供される部品の境界面で入射された光が屈折されることを最小化することができるバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法を提供することにある。
また、本発明の目的は液供給ユニットに提供される部品の断面形状とは無関係に一定のバブルイメージを獲得することができるバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法を提供することにある。
本発明の目的はここに制限されなく、言及されないその他の目的は下の記載から当業者に明確に理解されるべきである。
基板を処理する装置は基板に対して液を供給する液供給ユニット、前記液供給ユニットに提供された部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバー、及び前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットを含み、、前記検査ユニットは前記カバーの外側で前記検査領域に向かって光を照射する光源、前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部、及び前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部を含むことができる。
一実施形態によれば、前記カバーと前記部品との間に空間が提供されるように前記カバーは前記部品を囲むように提供され、前記空間には前記検査領域に提供された前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質で満たされることができる。
一実施形態によれば、前記カバーは前記空間に満たされる前記物質より高い屈折率を有する材質で提供されることができる。
一実施形態によれば、前記物質は液体であり得る。
一実施形態によれば、前記部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、前記光源と対向する前記カバーの第１面は平面で提供され、前記光源は前記第１面に垂直になる方向に前記光を照射することができる。
一実施形態によれば、前記第１面と対向する前記カバーの第２面は前記第１面と平行に提供されることができる。
一実施形態によれば、前記検査ユニットは前記光源と前記第１面との間に位置し、前記光源で照射される前記光を拡散させる拡散板をさらに含むことができる。
一実施形態によれば、前記液供給ユニットは基板に液を吐出する液供給ノズル、前記液が貯蔵されるタンク及び前記液供給ノズルに供給される前記液に流動圧を提供するポンプ及び前記タンクから前記液供給ノズルに前記液が供給される液供給ラインを含むことができる。
一実施形態によれば、前記カバーは前記液供給ラインに設置されることができる。
一実施形態によれば、前記カバーは前記タンクに設置されることができる。
一実施形態によれば、前記カバーは前記ポンプに設置されることができる。
また、本発明は部品の内部で流動する液に含まれたバブルを測定するユニットを提供する。バブル測定ユニットは前記部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバー及び前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットを含み、、前記検査ユニットは前記カバーの外側で前記検査領域に向かって光を照射する光源、前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部、及び前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部を含むことができる。
一実施形態によれば、前記カバーと前記部品との間に空間が提供されるように前記カバーは前記部品を囲むように提供され、前記空間には前記検査領域に提供された前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質で満たされることができる。
一実施形態によれば、前記カバーは前記空間に満たされる前記物質より高い屈折率を有する材質で提供されることができる。
一実施形態によれば、前記部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、前記光源と対向する前記カバーの第１面は平面で提供され、前記第１面と対向する前記カバーの第２面は前記第１面と平行に提供され、前記光源は前記第１面に垂直になる方向に前記光を照射することができる。
また、本発明は部品内に貯蔵されるか、或いは部品の内部を流れる液に含まれたバブルを測定する方法を提供する。バブル測定方法は前記部品の検査領域をカバーで囲み、前記カバーの外側で前記検査領域に光を照射し、前記検査領域を通過した前記光を受光して前記部品の内部に貯蔵されるか、或いは前記部品の内部に流れる前記液に含まれたバブルのイメージを獲得し、前記イメージから前記部品の内部に形成された前記バブルを検査することができる。
一実施形態によれば、前記カバーと前記部品との間には前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質が満たされることができる。
一実施形態によれば、前記カバーは前記物質より高い屈折率を有する材質で提供されることができる。
一実施形態によれば、前記部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、前記光が照射される光源と対向する前記カバーの第１面は平面で提供され、前記第１面と対向する前記カバーの第２面は前記第１面と平行に提供され、前記光源は前記第１面に垂直になる方向に前記光を照射することができる。
本発明の一実施形態によれば、液供給ユニットの内部を流動する液に含まれたバブルを測定することができる。
また、本発明の一実施形態によれば、液供給ユニットに提供される部品の境界面で入射された光が屈折されることを最小化することができる。
また、本発明の一実施形態によれば、液供給ユニットに提供される部品の断面形状とは無関係に一定のバブルイメージを獲得することができる。
本発明の効果が上述した効果によって限定されることではなく、言及されない効果は本明細書及び添付された図面から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるべきである。
本発明の一実施形態による基板処理装置を概略的に示す斜視図である。 図１の塗布ブロック又は現像ブロックを概略的に示す基板処理装置の正面図である。 図１の基板処理装置を概略的に示す平面図である。 図３の搬送チャンバーに提供されるハンドの一例を示す図面である。 図３の熱処理チャンバーの一例を概略的に示す平面図である。 図５の熱処理チャンバーの正面図である。 図３の液処理チャンバーの一例を概略的に示す図面である。 図７の液処理チャンバーに液を供給する液供給ユニットを概略的に示す図面である。 図８の液供給ユニットに提供されるバブル測定ユニットを概略的に示す斜視図である。 図８のカバーを上部から見た図面である。 図８のバブル測定ユニットを正面から見た図面である。 本発明の一実施形態によるバブル測定方法に対する順序図である。
以下、本発明の実施形態を添付された図面を参照してさらに詳細に説明する。本発明の実施形態は々な形態に変形されることができ、本発明の範囲が下で説明する実施形態によって限定されないことと解釈されてはならない。本実施形態は当業界で平均的な知識を有する者に本発明をさらに完全に説明するために提供されることである。したがって、図面での構成要素の形状はより明確な説明を強調するために誇張されたものである。
以下、図１乃至図１２を参照して本発明の一例を詳細に説明する。下の実施形態では基板処理装置に基板上にフォトレジストを塗布し、露光後基板を現像する工程を遂行する装置を例として説明する。しかし、本発明はこれに限定されななく、回転する基板に液を供給して基板を処理する多様な種類の装置に適用可能である。例えば、基板処理装置は基板に洗浄液を供給して基板上に異物を除去するか、又は基板に薬液を供給して基板で薄膜を除去する工程を遂行する装置であり得る。
図１は本発明の一実施形態による基板処理装置を概略的に示す斜視図であり、図２は図１の基板処理装置の正面図である。図３は図１の基板処理装置の平面図である。
図１乃至図３を参照すれば、基板処理装置１はインデックスモジュール１０（Ｉｎｄｅｘ ｍｏｄｕｌｅ）、処理モジュール２０（Ｔｒｅａｔｉｎｇ ｍｏｄｕｌｅ）、そしてインターフェイスモジュール３０（Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ ｍｏｄｕｌｅ）を含む。一実施形態によれば、インデックスモジュール１０、処理モジュール２０、そしてインターフェイスモジュール３０は順次的に一列に配置される。以下、インデックスモジュール１０、処理モジュール２０、そしてインターフェイスモジュール３０が配列された方向を第１方向２とし、上部から見る時、第１方向２と垂直になる方向を第２方向４とし、第１方向２及び第２方向４を全て含む平面に垂直になる方向を第３方向６と定義する。
インデックスモジュール１０は基板Ｗが収納された容器Ｆから基板Ｗを処理する処理モジュール２０に基板Ｗを搬送する。インデックスモジュール１０は処理モジュール２０で処理が完了された基板Ｗを容器Ｆに収納する。インデックスモジュール１０の長さ方向は第２方向４に提供される。インデックスモジュール１０はロードポート１２０とインデックスフレーム１４０を有する。
ロードポート１２０には基板Ｗが収納された容器Ｆが安着される。ロードポート１２０はインデックスフレーム１４０を基準に処理モジュール２０の反対側に位置する。ロードポート１２０は複数が提供されることができ、複数のロードポート１２０は第２方向４に沿って一列に配置されることができる。ロードポート１２０の数は処理モジュール２０の工程効率及びフットプリント条件等に応じて増加するか、又は減少することができる。
容器Ｆには基板Ｗを地面に対して水平に配置した状態に収納するための多数のスロット（図示せず）が形成される。容器Ｆとしては前面開放一体型ポッド（Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｅｄ Ｐｏｄ；ＦＯＵＰ）のような密閉用容器が使用されることができる。容器Ｆはオーバーヘッドトランスファー（Ｏｖｅｒｈｅａｄ Ｔｒａｎｓｆｅｒ）、オーバーヘッドコンベア（Ｏｖｅｒｈｅａｄ Ｃｏｎｖｅｙｏｒ）、又は自動案内車両（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｇｕｉｄｅｄ Ｖｅｈｉｃｌｅ）のような移送手段（図示せず）や作業者によってロードポート１２０に置かれることがきる。
インデックスフレーム１４０の内部にはインデックスレール１４２とインデックスロボット１４４が提供される。インデックスレール１４２はインデックスフレーム１４０内にその長さ方向が第２方向４に沿って提供される。インデックスロボット１４４は基板Ｗを搬送することができる。インデックスロボット１４４はインデックスモジュール１０、そして後述するバッファチャンバー２４０の間に基板Ｗを搬送することができる。インデックスロボット１４４はインデックスハンド１４４０を含むことができる。インデックスハンド１４４０には基板Ｗが置かれることができる。インデックスハンド１４４０は円周の一部が対称されるように切断された環状のリング形状を有するインデックスベース１４４２とインデックスベース１４４２を移動させるインデックス支持部１４４４を含むことができる。インデックスハンド１４４０の構成は後述する搬送ハンド２２４０の構成と同一又は類似である。インデックスハンド１４４０はインデックスレール１４２上で第２方向４に沿って移動可能に提供されることができる。したがって、インデックスハンド１４４０はインデックスレール１４２に沿って前進及び後進移動が可能である。また、インデックスハンド１４４０は第３方向６を軸とする回転、そして第３方向６に沿って移動可能に提供されることができる。
処理モジュール２０は容器Ｆに収納された基板Ｗが伝達されて基板Ｗに対して塗布工程及び現像工程を遂行する。処理モジュール２０は塗布ブロック２０ａ及び現像ブロック２０ｂを有する。塗布ブロック２０ａは基板Ｗに対して塗布工程（Ｃｏａｔｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）を遂行する。現像ブロック２０ｂは基板Ｗに対して現像工程（Ｄｅｖｅｌｏｐｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）を遂行する。塗布ブロック２０ａは複数が提供され、塗布ブロック２０ａは互いに積層されるように提供される。現像ブロック２０ｂは複数が提供され、現像ブロック２０ｂは互いに積層されるように提供される。図１の実施形態によれば、塗布ブロック２０ａは２つが提供され、現像ブロック２０ｂは２つが提供される。塗布ブロック２０ａは現像ブロック２０ｂの下に配置されることができる。一例によれば、２つの塗布ブロック２０ａは互いに同一な工程を実行し、互いに同一な構造で提供されることができる。また、２つの現像ブロック２０ｂは互いに同一な工程を実行し、互いに同一な構造で提供されることができる。
図３を参照すれば、塗布ブロック２０ａは搬送チャンバー２２０、バッファチャンバー２４０、熱処理チャンバー２６０、そして液処理チャンバー２８０を有する。搬送チャンバー２２０はバッファチャンバー２４０と熱処理チャンバー２６０との間に、バッファチャンバー２４０と液処理チャンバー２８０との間に、そして熱処理チャンバー２６０と液処理チャンバー２８０との間に基板Ｗを搬送する空間を提供する。バッファチャンバー２４０は塗布ブロック２０ａ内に搬入される基板Ｗと塗布ブロック２０ａから搬出される基板Ｗが一時的に留まる空間を提供する。熱処理チャンバー２６０は基板Ｗに対して熱処理工程を遂行する。熱処理工程は冷却工程及び加熱工程を含むことができる。液処理チャンバー２６０は基板Ｗ上に液を供給して液膜を形成する。液膜はフォトレジスト膜又は反射防止膜であり得る。
搬送チャンバー２２０は長さ方向が第１方向２に提供されることができる。搬送チャンバー２２０にはガイドレール２２２と搬送ロボット２２４が提供される。ガイドレール２２２は長さ方向が第１方向２に搬送チャンバー２２０内に提供される。搬送ロボット２２４はガイドレール２２２上で第１方向２に沿って直線移動可能に提供されることができる。搬送ロボット２２４はバッファチャンバー２４０と熱処理チャンバー２６０との間に、バッファチャンバー２４０と液処理チャンバー２８０との間に、そして熱処理チャンバー２６０と液処理チャンバー２８０との間に基板Ｗを搬送する。
一例によれば、搬送ロボット２２４は基板Ｗが置かれる搬送ハンド２２４０を有する。搬送ハンド２２４０は前進及び後進移動、第３方向６を軸とする回転、そして第３方向６に沿って移動可能に提供されることができる。
図４は図３の搬送チャンバーに提供される搬送ハンドの一実施形態を示す図面である。図４を参照すれば、搬送ハンド２２４０はベース２２４２及び支持突起２２４４を有する。ベース２２４２は円周の一部が切断された環状のリング形状を有することができる。ベース２２４２は円周の一部が対称されるように切断されたリング形状を有することができる。ベース２２４２は基板Ｗの直径より大きい内径を有する。支持突起２２４４はベース２２４２から内側に延長される。支持突起２２４４は複数が提供され、基板Ｗの縁領域を支持する。一例によれば、支持突起２２４４は等間隔に４つが提供されることができる。
再び図２及び図３を参照すれば、バッファチャンバー２４０は複数に提供される。バッファチャンバー２４０の中で一部はインデックスモジュール１０と搬送チャンバー２２０との間に配置される。以下、これらのバッファチャンバーを前段バッファ２４２（ｆｒｏｎｔ ｂｕｆｆｅｒ）として定義する。前段バッファ２４２は複数に提供され、上下方向に沿って互いに積層されるように位置される。バッファチャンバー２４０の中で他の一部は搬送チャンバー２２０とインターフェイスモジュール３０との間に配置される。以下、これらのバッファチャンバーを後段バッファ２４４（ｒｅａｒ ｂｕｆｆｅｒ）として定義する。後段バッファ２４４は複数に提供され、上下方向に沿って互いに積層されるように位置される。前段バッファ２４２及び後段バッファ２４４の各々は複数の基板Ｗを一時的に保管する。前段バッファ２４２に保管された基板Ｗはインデックスロボット１４４及び搬送ロボット２２４によって搬入又は搬出される。後段バッファ２４４に保管された基板Ｗは搬送ロボット２２４及び後述する第１ロボット３８２０によって搬入又は搬出される。
バッファチャンバー２４０の一側にはバッファロボット２４２０、２４４０が提供されることができる。バッファロボット２４２０、２４４０は前段バッファロボット２４２０と後段バッファロボット２４４０を含むことができる。前段バッファロボット２４２０は前段バッファ２４２の一側に提供されることができる。後段バッファロボット２４４０は後段バッファ２４４の一側に提供されることができる。これに限定されることではなく、バッファロボット２４２０、２４４０はバッファチャンバー２４０の両側に提供されることができる。
前段バッファロボット２４２０は前段バッファ２４２の間に基板Ｗを搬送することができる。前段バッファロボット２４２０は前段バッファハンド２４２２を含むことができる。前段バッファハンド２４２２は第３方向６に沿って上下方向に移動されることができる。前段バッファハンド２４２２は回転されることができる。前段バッファハンド２４２２は基板Ｗを搬送することができる。前段バッファハンド２４２２は後述する支持プレート２４８２に提供されるピン２４８６に基板Ｗをローディング又はアンローディングすることができる。後段バッファロボット２４４０は後段バッファ２４４との間に基板Ｗを搬送することができる。後段バッファロボット２４４０は後段バッファハンド２４４２を含むことができる。後段バッファハンド２４４２の構成は前段バッファハンド２４２２の構成と同一又は類似である。したがって、後段バッファハンド２４４２に対する説明は省略する。
図５は図３の熱処理チャンバーの一実施形態を概略的に示す平面図であり、図６は図５の熱処理チャンバーの平面図である。図５及び図６を参照すれば、熱処理チャンバー２６０は複数に提供される。熱処理チャンバー２６０は第１方向２に沿って配置される。熱処理チャンバー２６０は搬送チャンバー２２０の一側に位置する。熱処理チャンバー２６０はハウジング２６２０、冷却ユニット２６４０、加熱ユニット２６６０、そして搬送プレート２６８０を含む。
ハウジング２６２０は大体に直方体の形状に提供される。ハウジング２６２０は内部に空間を提供する。ハウジング２６２０の側壁には、基板Ｗが出入される出入口（図示せず）が形成される。出入口は開放された状態に維持されることができる。選択的に、出入口を開閉するようにドア（図示せず）が提供されることができる。
ハウジング２６２０の内部空間には冷却ユニット２６４０、加熱ユニット２６６０、そして搬送プレート２６８０が提供される。冷却ユニット２６４０と加熱ユニット２６６０は第２方向４に沿って並べて提供される。一例によれば、冷却ユニット２６４０は加熱ユニット２６６０より相対的に搬送チャンバー２２０にさらに近く位置することができる。冷却ユニット２６４０は冷却プレート２６４２を含む。冷却プレート２６４２は上部から見る時、大体に円形の形状を有することができる。冷却プレート２６４２には冷却部材２６４４が提供される。一例によれば、冷却部材２６４４は冷却プレート２６４２の内部に形成され、冷却流体が流れる流路として提供されることができる。
熱処理チャンバー２６０の中で一部の熱処理チャンバー２６０に提供された加熱ユニット２６６０は基板Ｗを加熱する際に、ガスを供給してフォトレジストの基板Ｗ付着率を向上させることができる。一例によれば、ガスはヘキサメチルジシラン（ｈｅｘａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌａｎｅ）であり得る。
加熱ユニット２６６０は加熱プレート２６６１、ヒーター２６６３、カバー２６６５、そして駆動器２６６７を含む。加熱プレート２６６１は上部から見る時、大体に円形の形状を有する。加熱プレート２６６１は基板Ｗより大きい直径を有する。加熱プレート２６６１にはヒーター２６６３が設置される。ヒーター２６６３は電流が印加される発熱抵抗体で提供されることができる。
加熱プレート２６６１には第３方向６に沿って上下方向に駆動可能なリフトピン２６６９が提供される。リフトピン２６６９は加熱ユニット２６６０外部の搬送手段から基板Ｗを引き受けて加熱プレート２６６１上に置くか、或いは加熱プレート２６６１から基板Ｗを持ち上げて加熱ユニット２６６０外部の搬送手段に引き渡す。一例によれば、リフトピン２６６９は３つが提供されることができる。
カバー２６６５は内部に下部が開放された空間を有する。カバー２６６５は加熱プレート２６６１の上部に位置され、駆動器２６６７によって上下方向に移動される。カバー２６６５が移動されてカバー２６６５と加熱プレート２６６１が形成する空間は基板Ｗを加熱する加熱空間として提供される。
搬送プレート２６８０は大体に円板形状に提供され、基板Ｗと対応される直径を有する。搬送プレート２６８０の縁にはノッチ２６８２が形成される。ノッチ２６８２は搬送ロボット２２４の搬送ハンド２２４０に形成された支持突起２２４４と対応される数で提供され、支持突起２２４４と対応される位置に形成される。搬送ハンド２２４０と搬送プレート２６８０が上下方向に整列された位置で搬送ハンド２２４０と搬送プレート２６８０の上下位置が変更されれば、搬送ハンド２２４０と搬送プレート２６８０との間に基板Ｗの伝達が行われる。搬送プレート２６８０はガイドレール２６９２上に装着され、駆動器２６９４によってガイドレール２６９２に沿って第１領域２６９６と第２領域２６９８との間に移動することができる。
搬送プレート２６８０にはスリット形状のガイド溝２６８４が複数に提供される。ガイド溝２６８４は搬送プレート２６８０の終端から搬送プレート２６８０の内部まで延長される。ガイド溝２６８４はその長さ方向が第２方向４に沿って提供され、ガイド溝２６８４は第１方向２に沿って互いに離隔されるように位置する。ガイド溝２６８４は搬送プレート２６８０と加熱ユニット２６６０との間に基板Ｗの引受引渡が行われる時、搬送プレート２６８０とリフトピン２６６９が互いに干渉されることを防止する。
基板Ｗの冷却は基板Ｗが置かれる搬送プレート２６８０が冷却プレート２６４２に接触された状態で行われる。冷却プレート２６４２と基板Ｗとの間に熱伝達が良く行われるように搬送プレート２６８０は熱伝導性が高い材質で提供される。一例によれば、搬送プレート２６８０は金属材質で提供されることができる。
再び図２及び図３を参照すれば、液処理チャンバー２８０は複数に提供される。液処理チャンバー２８０の中で一部は互いに積層されるように提供されることができる。液処理チャンバー２８０は搬送チャンバー２２０の一側に配置される。液処理チャンバー２８０は第１方向２に沿って並べて配列される。液処理チャンバー２８０の中でいずれかの一部はインデックスモジュール１０と隣接する位置に提供される。以下、これらの液処理チャンバー２８０を前段液処理チャンバー２８２（ｆｒｏｎｔ ｌｉｑｕｉｄ ｔｒｅａｔｉｎｇ ｃｈａｍｂｅｒ）と定義する。液処理チャンバー２８０の中で他の一部はインターフェイスモジュール３０と隣接する位置に提供される。以下、これらの液処理チャンバー２８０を後段液処理チャンバー２８４（ｒｅａｒ ｌｉｑｕｉｄ ｔｒｅａｔｉｎｇ ｃｈａｍｂｅｒ）と定義する。
前段液処理チャンバー２８２は基板Ｗ上に第１液を塗布し、後段液処理チャンバー２８４は基板Ｗ上に第２液を塗布する。第１液と第２液は互いに異なる種類の液であり得る。一実施形態によれば、第１液は反射防止膜であり、第２液はフォトレジストである。フォトレジストは反射防止膜が塗布された基板Ｗ上に塗布されることができる。選択的に、第１液はフォトレジストであり、第２液は反射防止膜であり得る。この場合、反射防止膜はフォトレジストが塗布された基板Ｗ上に塗布されることができる。選択的に、第１液と第２液は同一な種類の液であり、これらは全てフォトレジストであり得る。
図７は図３の液処理チャンバーの一実施形態を概略的に示す図面である。図７を参照すれば、液処理チャンバー２８０はハウジング２８１０、処理容器２８２０、そして支持ユニット２８３０を含む。
ハウジング２８１０は内部に空間を提供する。ハウジング２８１０は大体に直方体形状に提供される。ハウジング２８１０の一側には開口（図示せず）が形成されることができる。開口は基板Ｗが内部空間に搬入されるか、或いは内部空間で基板Ｗが搬出される出入口として機能する。また、出入口を選択的に密閉させるため、出入口に隣接する領域にはドア（図示せず）が設置されることができる。ドアは内部空間に搬入された基板Ｗに対する処理工程が遂行される間に出入口を遮断して内部空間を密閉することができる。処理容器２８２０、そして支持ユニット２８３０、ハウジング２８１０内に配置される。
処理容器２８２０は上部が開放された処理空間を有することができる。処理容器２８２０は処理空間を有するボウル（ｂｏｗｌ）であり得る。内部空間は処理空間を囲むように提供されることができる。処理容器２８２０は上部が開放されたカップ形状を有することができる。処理容器２８２０が有する処理空間は後述する支持ユニット２８３０が基板Ｗを支持、そして回転させる空間であり得る。処理空間は後述する液供給ユニット３０００が流体を供給して基板Ｗが処理される空間であり得る。
一例によれば、処理容器２８２０は内側カップ２８２２と外側カップ２８２４を含むことができる。外側カップ２８２４は支持ユニット２８３０の周辺を囲むように提供され、内側カップ２８２２は外側カップ２８２４の内側に位置することができる。内側カップ２８２２及び外側カップ２８２４の各々は上部から見る時、環状のリング形状を有することができる。内側カップ２８２２及び外側カップ２８２４の間の空間は処理空間に流入された流体が回収される回収経路として提供されることができる。
内側カップ２８２２は上部から見る時、後述する支持ユニット２８３０の支持軸２８３２を囲む形状に提供されることができる。例えば、内側カップ２８２２は上部から見る時、支持軸２８３２を囲む円形の板形状に提供されることができる。上部から見る時、内側カップ２８２２はハウジング２８１０に結合される後述する排気ライン２８６０と重畳されるように位置されることができる。
内側カップ２８２２は内側部及び外側部を有することができる。内側部と外側部の各々の上面は仮想の水平線を基準に互いに異なる角度を有するように提供されることができる。例えば、内側部は上部から見る時、後述する支持ユニット２８３０の本体２８３１と重畳されるように位置されることができる。内側部は支持軸２８３２と対向するように位置されることができる。内側部は支持軸２８３２から遠くなるほど、その上面が上向傾いた方向に向かい、外側部は内側部から外側方向に延長されることができる。外側部は上面が支持軸２８３２から遠くなるほど、下方に傾いた方向に向かうことができる。内側部の上端は基板Ｗの側端部と上下方向に一致されることができる。一例によれば、外側部と内側部が出会う地点は内側部の上端より低い位置であり得る。内側部と外側部が互いに出会う地点はラウンドになるように提供されることができる。外側部は外側カップ２８２４と互いに組み合わせて処理媒体が回収される回収経路を形成することができる。
外側カップ２８２４は支持ユニット２８３０及び内側カップ２８２２を囲むカップ形状に提供されることができる。外側カップ２８２４は底部２８２４ａ、側部２８２４ｂ、傾斜部２８２４ｃを含むことができる。
底部２８２４ａは中空を有する円形の板形状を有することができる。底部２８２４ａには回収ライン２８７０が連結されることができる。回収ライン２８７０は基板Ｗ上に供給された処理媒体を回収することができる。回収ライン２８７０によって回収された処理媒体は外部の再生システム（図示せず）によって再使用されることができる。
側部２８２４ｂは支持ユニット２８３０を囲む環状のリング形状を有することができる。側部２８２４ｂは底部２８２４ａの側端から垂直になる方向に延長されることができる。側部２８２４ｂは底部２８２４ａから上に延長されることができる。
傾斜部２８２４ｃは側部２８２４ｂの上端から外側カップ２８２４の中心軸に向かう方向に延長されることができる。傾斜部２８２４ｃの内側面は支持ユニット２８３０に近くなるように上向に傾くように提供されることができる。傾斜部２８２４ｃはリング形状を有するように提供されることができる。基板Ｗに対する処理工程の進行中には傾斜部２８２４ｃの上端が支持ユニット２８３０に支持された基板Ｗより高く位置されることができる。
支持ユニット２８３０は基板Ｗを処理空間内で基板Ｗを支持し、基板Ｗを回転させる。支持ユニット２８３０は基板Ｗを支持、そして回転させるチャックであり得る。支持ユニット２８３０は本体２８３２、支持軸２８３４、そして駆動部２８３６を含むことができる。本体２８３２は基板Ｗが安着される上部面を有することができる。本体２８３２の上部面は上部から見る時、大体に円形に提供される。本体２８３２の上部面は基板Ｗより小さい直径を有するように提供されることができる。本体２８３２には吸着ホール（図示せず）が形成されて真空吸着方式に基板Ｗをチャッキング（ｃｈｕｃｋｉｎｇ）することができる。選択的に、本体２８３２には静電板（図示せず）が提供されて静電気を利用した静電吸着方式に基板Ｗをチャッキングすることができる。選択的に、本体２８３２には基板Ｗを支持する支持ピンが提供されて支持ピンと基板Ｗが互いに物理的に接触されて基板Ｗをチャッキングすることができる。
支持軸２８３４は本体２８３２と結合する。支持軸２８３４は本体２８３２の下面と結合することができる。支持軸２８３４は長さ方向が上下方向に向かうように提供されることができる。支持軸２８３４は駆動部２８３６から動力が伝達されて回転可能するように提供される。支持軸２８３４が駆動部２８３６の回転によって回転することによって本体２８３２を回転させる。駆動部２８３６は支持軸２８３４の回転速度を可変することができる。駆動部２８３６は駆動力を提供するモーターであり得る。しかし、これに限定されることではなく、駆動力を提供する公知された装置で多様に変形されることができる。
昇降ユニット２８４０はハウジング２８１０内に配置される。昇降ユニット２８４０は処理容器２８２０と支持ユニット２８３０との間の相対高さを調節する。昇降ユニット２８４０は処理容器２８２０を第３方向６に直線移動させる。昇降ユニット２８４０は内側昇降部材２８４２、そして外側昇降部材２８４４を含むことができる。内側昇降部材２８４２は内側カップ２８２２を昇降移動させることができる。外側昇降部材２８４４は外側カップ２８２４を昇降移動させることができる。
排気ライン２８６０は液処理チャンバー２８０の外部に提供されることができる。排気ライン２８６０は減圧ユニット（図示せず）が設置される。排気ライン２８６０は減圧ユニットによって処理空間の内部の雰囲気を排気する。排気ライン２８６０は処理容器２８２０と結合することができる。選択的に、排気ライン２８６０は外側カップ２８２４の底部２８２４ａに結合することができる。上部から見る時、排気ライン２８６０は内側カップ２８２２と重畳されるように位置されることができる。
気流供給ユニット２８８０はハウジング２８１０の内部空間に気流を供給する。気流供給ユニット２８８０は内部空間に下降気流を供給することができる。気流供給ユニット２８８０は温度及び／又は湿度が調節された気流を内部空間に供給することができる。気流供給ユニット２８８０はハウジング２８１０に設置されることができる。気流供給ユニット２８８０は処理容器２８２０と支持ユニット２８３０より上部に設置されることができる。気流供給ユニット２８８０はファン２８８２、気流供給ライン２８８４、そしてフィルター２８８６を含むことができる。気流供給ライン２８８４は温度及び／又は湿度が調節された外部の気流を内部空間に供給することができる。気流供給ライン２８８４にはフィルター２８８６が設置されることができる。フィルター２８８６は気流供給ライン２８８４に流れる外部の気流が有する不純物を除去することができる。ファン２８８２が駆動されれば、気流供給ライン２８８４が供給する外部の気流を内部空間に均一に伝達することができる。
図８は図７の液処理チャンバーに液を供給する液供給ユニットを概略的に示す図面である。以下では、図８を参照して本発明の一実施形態による液供給ユニットに対して詳細に説明する。
液供給ユニット３０００は液処理チャンバー２８０に位置した基板Ｗに液を供給することができる。液供給ユニット３０００は支持ユニット２８３０に支持された基板Ｗ上に液を供給することができる。液供給ユニット３０００が基板Ｗに供給する液は塗布液であり得る。例えば、塗布液はフォトレジスト（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ、ＰＲ）のような感光液であり得る。また、液供給ユニット３０００は支持ユニット２８３０に支持された基板Ｗにプリウェット液を供給することができる。液供給ユニット３０００が基板Ｗに供給するプリウェット液は基板Ｗの表面性質を変化させることができる液であり得る。例えば、プリウェット液は基板Ｗの表面性質を疎水性性質を有するように変化させることができる液であり得る。例えば、プリウェット液はシンナー（Ｔｈｉｎｎｅｒ）であり得る。以下では、説明の便宜のために液供給ユニットが供給する液がフォトレジストである場合を例として説明する。
液供給ユニット３０００はメーンタンク３１００、トラップタンク３２００、ポンプ３３００、フィルター３４００、液供給ノズル３５００、液供給ライン３６００、そして廃液タンク３７００を含むことができる。メーンタンク３１００は密閉された内部空間を形成することができる。メーンタンク３１００の内部空間には液が格納される。一例として、メーンタンク３１００にはフォトレジスト液が貯蔵されることができる。メーンタンク３１００には第１不活性ガス供給ライン３１１０と後述する第１供給ライン３６１０が連結されることができる。
第１不活性ガス供給ライン３１１０はメーンタンク３１００の内部空間に不活性ガスを供給することができる。第１不活性ガス供給ライン３１１０にはレギュレータ３１２０、ガスフィルター３１３０、そしてエア作動バルブ３１４０が順次的に設置されることができる。不活性ガスはレギュレータ３１２０を通じて供給されることができる。一例として、不活性ガスはヘリウムガス又は窒素ガスであり得る。メーンタンク３１００の内部に不活性ガスが供給された場合、メーンタンク３１００の内部に貯蔵されたフォトレジスト液は相対的な圧力差によって後述するトラップタンク３２００に移動されることができる。ガスフィルター３１３０は第１不活性ガス供給ライン３１１０を流動する不活性ガスを濾過することができる。例えば、ガスフィルター３１３０は不活性ガスに含まれることができる不純物を濾過することができる。エア作動バルブ３１４０は第１不活性ガス供給ライン３１１０を開閉することができる。例えば、エア作動バルブ３１４０はメーンタンク３１００の交替の時のみに第１不活性ガス供給ライン３１１０を閉鎖することができる。
トラップタンク３２００は密閉された内部空間を形成することができる。トラップタンク３２００の内部空間には液が貯蔵される。一例として、トラップタンク３２００にはフォトレジスト液が貯蔵されることができる。トラップタンク３２００には第１供給ライン３７１０を通じて提供されたフォトレジスト液が貯蔵されることができる。トラップタンク３２００の一側には水位感知センサー３２２０が設置されることができる。水位感知センサー３２２０はトラップタンク３２００に貯蔵されたフォトレジスト液の水位を感知して適正水位までフォトレジスト液が継続的に充填されるようにすることができる。
トラップタンク３２００には第２不活性ガス供給ライン３２１０、第１供給ライン３６１０、後述する第２供給ライン３６２０、そして第１ドレーンライン３７１０が連結されることができる。トラップタンク３２００の上端には第２不活性ガス供給ライン３２１０が連結されることができる。第２不活性ガス供給ライン３２１０はトラップタンク３２００の内部空間に不活性ガスを供給することができる。第２不活性ガス供給ライン３２１０は上述した第１不活性ガス供給ライン３１１０と類似に提供されるので、重複される説明を避けるため、以下では、説明を省略する。
トラップタンク３２００の上端には第１供給ライン３６１０は第１ガス供給ライン３６１０と第１ドレーンライン３７１０が連結されることができる。第１ガス供給ライン３６１０はメーンタンク３１００からトラップタンク３２００にフォトレジスト液を供給することができる。第１ドレーンライン３７１０は後述する廃液タンク３７００と連結されることができる。トラップタンク３２００の下端には第２供給ライン３６２０が連結されることができる。第２供給ライン３６２０は後述するポンプ３３００と連結されてトラップタンク３２００からポンプ３３００にフォトレジスト液を供給することができる。
ポンプ３３００はトラップタンク３２００に貯蔵された液を液供給ノズル３５００に供給する。一例として、ポンプ３３００はトラップタンク３２００に貯蔵されたフォトレジスト液を液供給ノズル３５００に供給することができる。ポンプ３３００はトラップタンク３２００に貯蔵されたフォトレジスト液を定量供給することができる。例えば、ポンプ３３００は吸引及び排出動作によって発生される流動圧によってトラップタンク３２００に貯蔵されたフォトレジスト液を液供給ノズル３５００に供給するベローズ駆動型チューブフラムポンプであり得る。一例として、ポンプ３３００はトラップタンク３２００から基板Ｗ上に供給することができる１回分のフォトレジスト液をポンプ３３００に吸引して置き、基板Ｗに対して塗布処理する時、液供給ノズル３５００に一定の圧力及び流量にフォトレジスト液を排出することができる。但し、これに限定されななく、ポンプ３３００は流動圧を提供することができる公知された様々なポンプで提供されることができる。
ポンプ３３００には第２供給ライン３６２０、第３供給ライン３６３０、そして第２ドレーンライン３７２０が連結されることができる。一例として、第２供給ライン３６２０はポンプ３３００の下端に提供されることができる。第２供給ライン３６２０には逆流防止バルブ（図示せず）が設置されることができる。第２供給ライン３６２０を通じてトラップタンク３２００からポンプ３３００にフォトレジスト液が供給されることができる。
一例として、第３供給ライン３６３０はポンプ３３００の上端に提供されることができる。第３供給ライン３６３０の一端はトラップタンク３２００に連結され、第３供給ライン３６３０の他端は後述するフィルター３４００に連結されることができる。第３供給ライン３６３０には逆流防止バルブ（図示せず）、サックバックバルブ３６３２（ｓｕｃｋｂａｃｋ ｖａｌｖｅ）、カットオフバルブ３６３４（ｃｕｔ－ｏｆｆ ｖａｌｖｅ）、そして後述するフィルター３４００が設置されることができる。第３供給ライン３６３０を通じてポンプ３３００から後述する液供給ノズル３５００にフォトレジスト液が供給されることができる。例えば、第２ドレーンライン３７２０はポンプ３３００の上端に提供されることができる。第２ドレーンライン３７２０の一端はポンプ３３００と連結され、第２ドレーンライン３７２０の他端は後述する廃液タンク３７００と連結されることができる。
フィルター３４００はポンプ３３００から液供給ノズル３５００に供給される液を濾過することができる。例えば、フィルター３４００はポンプ３３００から液供給ノズル３５００に供給されるフォトレジスト液を濾過することができる。フィルター３４００はフォトレジスト液に含まれることができる不純物を濾過することができる。フィルター３４００は第３供給ライン３６３０に設置されることができる。
液供給ノズル３５００は液を基板Ｗに供給することができる。一例として、液供給ノズル３５００は支持ユニット２８３０に支持された基板Ｗ上にフォトレジスト液を供給することができる。液供給ノズル３５００は駆動器（図示せず）によって移動されることができる。
液供給ライン３６００は第１供給ライン３６１０、第２供給ライン３６２０、そして第３供給ライン３６３０を含むことができる。第１供給ライン３６１０はメーンタンク３１００とトラップタンク３２００を連結する。第１供給ライン３６１０の一端はメーンタンク３１００と連結され、他端はトラップタンク３２００と連結されることができる。第２供給ライン３６２０はトラップタンク３２００とポンプ３３００を連結する。第２供給ライン３６２０の一端はトラップタンク３２００に連結され、他端はポンプ３３００に連結されることができる。第３供給ライン３６３０はポンプ３３００と液供給ノズル３５００に連結される。第３供給ライン３６３０の一端はポンプ３００に連結され、他端は液供給ノズル３５００に連結されることができる。
廃液タンク３７００は第１ドレーンライン３７１０と第２ドレーンライン３７２０に連結されることができる。第１ドレーンライン３７１０はメーンタンク３１００と廃液タンク３７００を連結することができる。第１ドレーンライン３７１０の一端はメーンタンク３１００に連結され、他端は廃液タンク３７００に連結されることができる。第１ドレーンライン３７１０はメーンタンク３１００の上端に集まれる気泡を除去するか、又はフォトレジスト液の性質変化に対応して手動でフォトレジスト液を廃液タンク３７００にドレーンさせることができる。
第２ドレーンライン３７２０はトラップタンク３２００と廃液タンク３７００を連結することができる。第２ドレーンライン３７２０の一端はトラップタンク３２００に連結され、他端は廃液タンク３７００に連結されることができる。第２ドレーンライン３７２０にはエア作動バルブ３７２２が設置されることができる。第２ドレーンライン３７２０はトラップタンク３２００の上端に集まれる気泡を除去するか、又はフォトレジスト液の性質変化に対応して手動でフォトレジスト液を廃液タンク３７００にドレーンさせることができる。
図９は図８の液供給ユニットに提供されるバブル測定ユニットを概略的に示す斜視図である。図１０は図８のカバーを上部から見た図面である。図１１は図８のバブル測定ユニットを正面から見た図面である。以下では、図８乃至図１１を参照して本発明の一実施形態に対するバブル測定ユニットに対して詳細に説明する。
バブル測定ユニット４０００は液供給ユニット３０００に提供された部品の内部で流動する液に含まれたバブルを測定することができる。バブル測定ユニット４０００は液供給ユニット３０００に提供された部品の内部で流動するフォトレジスト液に含まれたバブルを測定することができる。バブル測定ユニット４０００は液供給ユニット３０００に提供された部品に設置されることができる。
液供給ユニットに提供された部品とは液供給ユニットに含まれる様々な構成を含む概念で定義される。一例として、液供給ユニットに提供された部品はメーンタンク３１００、トラップタンク３２００、ポンプ３３００、フィルター３４００、液供給ノズル３５００、及び／又は液供給ライン３６００であり得る。例えば、液供給ユニットに提供された部品は第１供給ライン３６１０、第２供給ライン３６２０、及び／又は第３供給ライン３６３０を含むことができる。例えば、部品はその長さ方向と垂直になる断面が曲線で形成されることができる。本発明の実施形態では説明の便宜のためにバブル測定ユニット４０００が第３供給ライン３６３０に提供された場合を例として説明する。
バブル測定ユニット４０００はカバー４２００と検査ユニット４４００を含むことができる。カバー４２００は大体に直方体形状に提供されることができる。但し、これに限定されることではなく、後述する光源４４２０と対向する位置に提供されるカバー４２００の第１面と後述する受光部４４６０と対向する位置に提供されるカバー４２００の第２面が平面で提供され、第１面と第２面は平行に提供されることができる。
カバー４２００は部品に設置されることができる。カバー４２００は部品に設置されて検査領域を提供することができる。部品に設置されたカバー４２００の領域は部品の内部に存在するバブルを検出する検査領域として提供されることができる。一例として、カバー４２００は第３供給ライン３６３０に設置されて第３供給ライン３６３０の内部を流動するフォトレジスト液に存在するバブルを検出する検査領域を提供することができる。
カバー４２００は透光性材質で提供されることができる。カバー４２００の材質Ａは後述する物質Ｂと部品の材質Ｃより大きい屈折率を有することができる。一例として、カバー４２００の材質Ａはアクリルで提供されることができる。カバー４２００は部品を囲むように提供されることができる。したがって、カバー４２００と部品との間に空間が提供されることができる。カバー４２００と部品との間に形成された空間には部品の材質Ｃと同一な屈折率を有する物質Ｂで満たされることができる。一例として、空間に満たされた物質Ｂは液体であり得る。但し、これに限定されることではなく、空間に満たされた物質Ｂは部品の材質Ｃと同一な屈折率を有する様々な形状を有することができる。一例として、空間に満たされた物質Ｂは第３供給ライン３６３０の配管の材質Ｃと同一な屈折率を有することができる。物質Ｂと配管の材質Ｃが同一な屈折率を有する意味は厳密な同一ではなく、類似範囲を含む概念である。
検査ユニット４４００はカバー４２００が設置された部品の検査領域内で部品の内部を流動する液に含まれるバブルを検査する。一例として、検査ユニット４４００はカバー４２００が設置された第３供給ライン３６３０の検査領域内で第３供給ライン３６３０の内部を流動するフォトレジスト液に含まれるバブルを検査することができる。検査ユニット４４００は光源４４２０、拡散板４４４０、受光部４４６０、そして検査部（図示せず）を含むことができる。
光源４４２０はカバー４２００の外側に位置することができる。一例として、光源４４２０はカバー４２００の外側で、カバー４２００の第１面と対向する位置に提供されることができる。カバー４２００の第１面は照射面として提供されることができる。照射面は平面で提供されることができる。光源４４２０は検査領域に向かって光を照射することができる。光源４４２０によって照射された光は第１面に垂直になる方向に入射されることができる。一例として、光源４４２０は発光ダイオード（ＬＥＤ）で提供されることができる。選択的に、光源４４２０はハロゲンランプで提供されることができる。
拡散板４４４０は光源４４２０で照射される光を拡散させることができる。拡散板４４４０は光源４４２０で照射される光を広い面積に均一に拡散させることができる。拡散板４４４０は光源４４２０で照射された光が検査領域の全体に入射させることができる。拡散板４４４０は光源４４２０とカバー４２００との間に位置することができる。一例として、拡散板４４４０は光源４４２０とカバー４２００の第１面との間に位置することができる。
受光部４４６０はカバー４２００の外側に位置することができる。一例として、受光部４４６０はカバー４２００の外側で、カバー４２００の第１面と対向する第２面と対向する位置に提供されることができる。第２面は平面で提供されることができる。第２面は第１面と平行に提供されることができる。光源４４２０から照射された光は第２面に垂直になる方向に入射されることができる。受光部４４６０は検査領域を通過した光を受光することができる。
検査部（図示せず）は受光した光からバブルイメージを獲得することができる。検査部（図示せず）は受光部４４６０で受光した光から部品の内部に存在するバブルを検査することができる。検査部（図示せず）は受光部４４６０から獲得したバブルイメージからバブルの有無、バブルのサイズ、バブルの数等の部品の内部に存在するバブルの状態を検査することができる。一例として、検査部（図示せず）は受光部４４６０から獲得したバブルイメージから第３供給ライン３６３０の中で第３供給ライン３６３０に提供された検査領域内に存在するバブルの有無、バブルのサイズ、バブルの数の中でバブルの状態を検査することができる。
図１１を参照すれば、光源４４２０から照射された光は拡散板４４４０、カバー４２００の第１面、カバー４２００と部品との間に提供された空間に満たされた物質Ｂ、液供給装置に提供された部品、そしてカバー４２００の第２面を順次的に経て受光部４４６０に受光される。一例として、光源４４２０から照射された光は拡散板４４４０、カバー４２００の第１面、カバー４２００と第３供給ライン３６３０との間に提供された空間に満たされた物質Ｂ、第３供給ライン３６３０、そしてカバー４２００の第２面を順次的に経て受光部４４６０に受光される。
カバー４２００と第３供給ライン３６３０との間の空間に第３供給ライン３６３０の配管の材質Ｃと同一な屈折率を有する物質Ｂを満たすことによって、第３供給ライン３６３０の配管の境界で光源４４２０によって入射された光が屈折されなくともよい。したがって、検査領域の中で第３供給ライン３６３０内部にバブルが存在しない領域に入射された光は屈折されなく、受光部４４６０に受光される。
検査領域の中で第３供給ライン３６３０の内部にバブルが存在する領域に入射された光はバブルの境界面で屈折を発生させる。したがって、光源４４２０、カバー４２００、そして受光部４４６０を連結する仮想の一直線上で、バブルが存在する領域と対応される線上には光が受光されない。したがって、バブルが存在する領域には影が形成される。したがって、検査部（図示せず）では検査領域の中で影が存在するイメージをバブルイメージで検出することができる。また、検査部（図示せず）では検査領域の中で影が存在する領域をバブルが形成された領域に検出することができる。検査部（図示せず）は検査領域の中で光源４４２０から照射された光が受光されないので、受光部４４６０から光が受光されない領域、即ち第３供給ライン３６３０の内部に影が形成された領域に対するバブルイメージを獲得することができる。検査部（図示せず）は受光部４４６０から受光した光からバブルイメージを獲得し、これを通じて検査領域に存在するバブルの有無、バブルのサイズ、バブルの数等を検査することができる。
部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成されることができる。断面が曲線状に形成される部品は部品の境界面に向かって照射された光が反射又は屈折されることができる。光が反射されるか、或いは屈折されることによって、部品の内部を流動するバブルの形状が歪むことができる。したがって、部品に向かって光を照射して部品の内部を流動する液に含まれるバブルを検出することは難しい。これは部品の内部に流動するバブルのサイズ及び数を正確に測定することを妨害する。このような問題は部品の内部に流動するバブルのサイズが微細な場合にさらに深くなる。
上述した本発明の一実施形態によれば、カバー４２００と部品との間に形成された空間に部品の材質Ｃと同一な屈折率を有する物質Ｂを満たすことによって、部品の境界面で部品に向かって入射される光の散乱又は屈折を最小化することができる。部品の内部を流動する液に含まれるバブルは曲率を有する。部品に向かって光を照射してもバブルの境界面のみで照射された光が反射又は屈折される。検査領域の中でバブルが存在する領域のみで影が形成されることができる。したがって、部品の内部を流動するバブルのイメージを正確に獲得することができる。
また、本発明の一実施形態によれば、光源４４２０から照射された光がカバー４２００の第１面に垂直になる方向に光を照射するようにカバー４２００の第１面が平面で提供されるので、部品の長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成されても部品の境界面で照射された光が屈折されることを最小化することができる。したがって、バブルが存在しない領域に対する歪み現象を最小化することができる。
上述した本発明の実施形態ではバブル測定ユニット４０００が液供給ユニット３０００に提供された部品に設置されることを例として説明した。但し、これに限定されななく、カバー４２００は液供給ユニット３０００に提供された部品に複数に設置されることができる。この時、測定ユニット４４００が図示しないレール上を移動し、各々のカバー４２００に提供された検査領域の内部を流動する液に含まれるバブルイメージを検出することができる。
上述した本発明の実施形態では基板Ｗ上に塗布液又は現像液を供給する液供給装置に含まれる部品にバブル測定ユニット４０００が設置されることを例として説明した。但し、これに限定されななく、バブル測定ユニット４０００は基板Ｗ上に洗浄液を供給する液供給装置又は平板ディスプレー製造用基板を処理する装置等の様々な液を供給する半導体装置に類似に提供されることができる。
再び図１乃至図３を参照すれば、現像ブロック２０ｂは搬送チャンバー２２０、バッファチャンバー２４０、熱処理チャンバー２６０、そして液処理チャンバー２８０を有する。現像ブロック２０ｂの搬送チャンバー２２０、バッファチャンバー２４０、熱処理チャンバー２６０、そして液処理チャンバー２８０は塗布ブロック２０ａの搬送チャンバー２２０、バッファチャンバー２４０、熱処理チャンバー２６０、そして液処理チャンバー２８０と大体に類似な構造及び配置で提供されるので、これに対する説明は省略する。但し、現像ブロック２０ｂの液処理チャンバー２８０は全て同様に現像液を供給して基板Ｗを現像処理する現像工程（ｄｅｖｅｌｏｐｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）を遂行する。
インターフェイスモジュール３０は処理モジュール２０と外部の露光装置４０を連結する。インターフェイスモジュール３０はインターフェイスフレーム３２０、付加工程チャンバー３４０、インターフェイスバッファ３６０、そして搬送部材３８０を含む。
インターフェイスフレーム３２０は内部空間を提供する。インターフェイスフレーム３２０の上端には内部空間に下降気流を形成するファンフィルターユニットが提供されることができる。インターフェイスフレーム３２０の内部空間に付加工程チャンバー３４０、インターフェイスバッファ３６０、そして搬送部材３８０が提供される。
付加工程チャンバー３４０は塗布ブロック２０ａで工程が完了された基板Ｗが露光装置４０に搬入される前に所定の付加工程を遂行することができる。選択的に、付加工程チャンバー３４０は露光装置４０で工程が完了された基板Ｗが現像ブロック２０ｂに搬入される前に所定の付加工程を遂行することができる。一実施形態によれば、付加工程は基板Ｗのエッジ領域を露光するエッジ露光工程、又は基板Ｗの上面を洗浄する上面洗浄工程、又は基板Ｗの下面を洗浄する下面洗浄工程であり得る。付加工程チャンバー３４０は複数が提供され、これらは互いに積層されるように提供されることができる。付加工程チャンバー３４０は全て同一な工程を遂行するように提供されることができる。選択的に、付加工程チャンバー３４０の中で一部は互いに異なる工程を遂行するように提供されることができる。
インターフェイスバッファ３６０は塗布ブロック２０ａ、付加工程チャンバー３４０、露光装置４０、そして現像ブロック２０ｂとの間に搬送される基板Ｗが搬送途中に一時的に留まる空間を提供する。インターフェイスバッファ３６０は複数が提供され、複数のインターフェイスバッファ３６０は互いに積層されるように提供されることができる。一例によれば、搬送チャンバー２２０の長さ方向の延長線を基準に一側面には付加工程チャンバー３４０が配置され、他の側面にはインターフェイスバッファ３６０が配置されることができる。
搬送部材３８０は塗布ブロック２０ａ、付加工程チャンバー３４０、露光装置４０、そして現像ブロック２０ｂとの間に基板Ｗを搬送する。搬送部材３８０は１つ又は複数のロボットが提供されることができる。一例によれば、搬送部材３８０は第１ロボット３８２０、第２ロボット３８４０、そして第３ロボット３８６０を含む。第１ロボット３８２０は塗布ブロック２０ａ、付加工程チャンバー３４０、そしてインターフェイスバッファ３６０との間に基板Ｗを搬送する。第２ロボット３８４０はインターフェイスバッファ３６０と露光装置４０との間に基板Ｗを搬送する。第３ロボット３８６０はインターフェイスバッファ３６０と現像ブロック２０ｂとの間に基板Ｗを搬送する。
第１ロボット３８２０、第２ロボット３８４０、そして第３ロボット３８６０は各々基板Ｗが置かれるハンドを含む。ハンドは前進及び後進移動、第３方向６に平行である軸を基準とした回転、そして第３方向６に沿って移動可能に提供されることができる。第１ロボット３８２０、第２ロボット３８４０、そして第３ロボット３８６０のハンドは全て搬送ロボット２２４の搬送ハンド２２４０と同一又は類似な形状に提供されることができる。選択的に、熱処理チャンバーの冷却プレート２６４２と直接基板Ｗを受け渡すロボットのハンドは搬送ロボット２２４の搬送ハンド２２４０と同一又は類似な形状に提供され、残りのロボットのハンドはこれと異なる形状に提供されることができる。
以下では、図７の支持ユニットに対する他の例に対して説明する。上述した本発明の実施形態で支持ユニット２８３０の本体２８３１を除いた他の構成は本発明の他の実施形態でも類似に提供される。したがって、以下では、説明の重複を避けるために類似に提供される構成に対しては説明を省略する。
図１２は本発明の一実施形態によるバブル測定方法に対する順序図である。以下では、図１２を参照して本発明の一実施形態によるバブル測定方法に対して説明する。
本発明の実施形態によるバブル測定方法は部品内に貯蔵されるか、或いは部品の内部を流れる液に含まれたバブルを測定することができる。一例として、バブル測定方法は液供給ユニット３０００に提供される部品内に貯蔵されるか、或いは液供給ユニット３０００の内部を流れる液に含まれたバブルを測定することができる。バブル測定方法はカバー提供段階（Ｓ１０）、光照射段階（Ｓ２０）、イメージ獲得段階（Ｓ３０）、そしてバブル検出段階（Ｓ４０）を含むことができる。
カバー提供段階（Ｓ１０）はカバー４２００を設置する段階である。カバー４２００は部品を囲むように提供される。カバー４２００によって囲まれた部品の領域は検査領域として提供される。検査領域は部品の内部を流動するバブルを検出する領域である。カバー４２００は複数の部品に各々設置されることができる。
カバー提供段階（Ｓ１０）でカバー４２００が部品を囲まれながら、提供される間空間には部品の材質Ｃと同一な屈折率を有する物質Ｂが満たされる。また、カバー４２００の材質は物質Ｂと部品の材質Ｃより高い屈折率を有することができる。物質Ｂと配管の材質Ｃが同一な屈折率を有する意味は厳密な同一ではなく、類似範囲を含む概念である。
光照射段階（Ｓ２０）は光源４４２０によって検査領域に光を照射する段階である。光源４４２０はカバー４２００の外側に位置する。光源４４２０はカバー４２００の第１面と対向する位置に離隔されて提供されることができる。光源４４２０はカバー４２００の第１面に向かって光を照射する。第１面に向かって照射された光は第１面に垂直に入射される。一例として、光源４４２０によって照射された光は拡散板４４４０を通じて光が第１面に向かって均一に拡散されて第１面に垂直に入射されることができる。
イメージ獲得段階（Ｓ３０）は光源４４２０から照射された光を受光部４４６０が受光し、受光された光から検査部（図示せず）がイメージを獲得する段階である。受光部４４６０はカバー４２００の外側に位置する。受光部４４６０はカバー４２００の第１面と対向する第２面と対向する位置に離隔されて提供されることができる。第１面と第２面は平行に提供される。したがって、光源４４２０から検査領域に照射された光は第１面と第２面に垂直に入射されることができる。光源４４２０から検査領域に照射された光は拡散板４４４０、第１面（カバーの材質、Ａ）、カバー４２００と部品との間に形成された空間に満たされた物質Ｂ、部品の材質Ｃ、そして第２面（カバーの材質、Ａ）を順次的に経て受光部４４６０に受光される。光源４４２０から検査領域に向かって照射された光を受光部４４６０が受光する。
カバー４２００と部品との間空間に部品の材質Ｃと同一な屈折率を有する物質Ｂを満たすことによって、部品の境界で光源４４２０によって入射された光が屈折されなくともよい。したがって、検査領域の中で部品の内部にバブルが存在しない領域に入射された光は屈折されなく、受光部４４６０に受光される。検査領域の中で第３供給ライン３６３０の内部にバブルが存在する領域に入射された光はバブルの境界面で屈折を発生させる。したがって、光源４４２０、カバー４２００、そして受光部４４６０を連結する仮想の一直線上で、バブルが存在する領域と対応される線上には光が受光されない。したがって、部品の内部にバブルが存在する場合、検査部（図示せず）は影が形成されたイメージと影が形成されないイメージを得ることができる。
バブル検出段階（Ｓ４０）はイメージ獲得段階（Ｓ３０）で検査部（図示せず）が受光部４４６０から獲得したイメージに対してバブルイメージを分析する段階である。上述したようにバブルが存在する領域には受光部４４６０に光が受光されないので、影が形成される。検査部（図示せず）では検査領域の中で影が存在する領域をバブルが形成された領域に検出することができる。したがって、バブル検出段階（Ｓ４０）ではイメージ獲得段階（Ｓ３０）で獲得したイメージから部品の内部に貯蔵されるか、或いは部品の内部を流れる液に含まれたバブルを検出することができる。検査部（図示せず）は受光部４４６０から獲得したバブルイメージからバブルの有無、バブルのサイズ、バブルの数等の部品の内部に存在するバブルの状態を検査することができる。
上述した本発明の一実施形態によれば、カバー４２００と部品との間に形成された空間に部品の材質Ｃと同一な屈折率を有する物質Ｂを満たすことによって、部品の境界面で部品に向かって入射される光の散乱又は屈折を最小化することができる。部品の内部を流動する液に含まれるバブルは曲率を有する。部品に向かって光を照射してもバブルの境界面のみで照射された光が反射又は屈折される。検査領域の中でバブルが存在する領域のみで影が形成されることができる。したがって、部品の内部を流動するバブルのイメージを正確に獲得することができる。
また、本発明の一実施形態によれば、光源４４２０から照射された光がカバー４２００の第１面に垂直になる方向に光を照射するようにカバー４２００の第１面が平面で提供されるので、部品の長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成されても部品の境界面で照射された光が屈折されることを最小化することができる。したがって、バブルが存在しない領域に対する歪み現象を最小化することができる。
以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、前述した内容は本発明の好ましい実施形態を例として説明することであり、本発明は多様な他の組合、変更、及び環境で使用することができる。即ち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、前述した開示内容と均等な範囲、及び／又は当業界の技術又は知識の範囲内で変更又は修正が可能である。前述した実施形態は本発明の技術的思想を具現するための最善の状態を説明することであり、本発明の具体的な適用分野及び用途で要求される様々な変更も可能である。したがって、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態に本発明を制限しようとする意図ではない。添付された請求の範囲は他の実施状態も含むことと解析されなければならない。
３０００ 液供給ユニット
３１００ メーンタンク
３２００ トラップタンク
３３００ ポンプ
３４００ フィルター
３５００ 液供給ノズル
３６００ 液供給ライン
４０００ バブル測定ユニット
４２００ カバー
４４００ 検査ユニット
４４２０ 光源
４４４０ 拡散板
４４６０ 受光部

Claims (20)

  1. 基板を処理する装置において、
    基板に対して液を供給する液供給ユニットと、
    前記液供給ユニットに提供された部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバーと、
    前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットと、を含み、
    前記噴射ユニットは、
    前記カバーの外側から前記検査領域に向かって光を照射する光源と、
    前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部と、
    前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部と、を含む基板処理装置。
  2. 前記カバーと前記部品との間に空間が提供されるように前記カバーは、前記部品を囲むように提供され、
    前記空間には、
    前記検査領域に提供された前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質で満たされる請求項１に記載の基板処理装置。
  3. 前記チャンバーは、
    前記空間に満たされる前記物質より高い屈折率を有する材質で提供される請求項２に記載の基板処理装置。
  4. 前記物質は、液体である請求項３に記載の基板処理装置。
  5. 前記部品は、その長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、
    前記光源と対向する前記カバーの第１面は、平面で提供され、
    前記光源は、前記第１面に垂直になる方向に前記光を照射する請求項１に記載の基板処理装置。
  6. 前記第１面と対向する前記カバーの第２面は、前記第１面と平行に提供される請求項５に記載の基板処理装置。
  7. 前記噴射ユニットは、
    前記光源と前記第１面との間に位置し、前記光源で照射される前記光を拡散させる拡散板をさらに含む請求項６に記載の基板処理装置。
  8. 前記軸供給ユニットは、
    基板に液を吐出する液供給ノズルと、
    前記液が貯蔵されるタンクと、
    前記液供給ノズルに供給される前記液に流動圧を提供するポンプと、
    前記タンクから前記液供給ノズルに前記液が供給される液供給ラインと、を含む請求項１乃至請求項７のいずれかの一項に記載の基板処理装置。
  9. 前記カバーは、前記液供給ラインに設置される請求項８に記載の基板処理装置。
  10. 前記カバーは、前記タンクに設置される請求項８に記載の基板処理装置。
  11. 前記カバーは、前記液供給ノズルに設置される請求項８に記載の基板処理装置。
  12. 前記カバーは、前記ポンプに設置される請求項８に記載の基板処理装置。
  13. 部品の内部で流動する液に含まれたバブルを測定するユニットにおいて、
    前記部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバーと、
    前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットと、を含み、
    前記噴射ユニットは、
    前記カバーの外側から前記検査領域に向かって光を照射する光源と、
    前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部と、
    前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部と、を含むバブル測定ユニット。
  14. 前記カバーと前記部品との間に空間が提供されるように前記カバーは、前記部品を囲むように提供され、
    前記空間には、、
    前記検査領域に提供された前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質で満たされる請求項１３に記載のバブル測定ユニット。
  15. 前記チャンバーは、
    前記空間に満たされる前記物質より高い屈折率を有する材質で提供される請求項１４に記載のバブル測定ユニット。
  16. 前記部品は、その長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、
    前記光源と対向する前記カバーの第１面は、平面で提供され
    前記第１面と対向する前記カバーの第２面は、前記第１面と平行に提供され、
    前記光源は、前記第１面に垂直になる方向に前記光を照射する請求項１４に記載のバブル測定ユニット。
  17. 部品内に貯蔵されるか、或いは部品の内部を流れる液に含まれたバブルを測定する方法において、
    前記部品の検査領域をカバーで囲み、前記カバーの外側で前記検査領域に光を照射し、前記検査領域を通過した前記光を受光して前記部品の内部に貯蔵されるか、或いは前記部品の内部に流れる前記液に含まれたバブルのイメージを獲得し、前記イメージから前記部品の内部に形成された前記バブルを検査するバブル測定方法。
  18. 前記カバーと前記部品との間には前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質が満たされる請求項１７に記載のバブル測定方法。
  19. 前記カバーは、前記物質より高い屈折率を有する材質で提供される請求項１に記載のバブル測定方法。
  20. 前記部品は、その長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、
    前記光が照射される光源と対向する前記カバーの第１面は、平面で提供され、
    前記第１面と対向する前記カバーの第２面は、前記第１面と平行に提供され、
    前記光源は、前記第１面に垂直になる方向に前記光を照射する請求項１７乃至請求項１８のいずれかの一項に記載のバブル測定方法。
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