KR20100111129A - 스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비 - Google Patents

스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비 Download PDF

Info

Publication number
KR20100111129A
KR20100111129A KR1020090029535A KR20090029535A KR20100111129A KR 20100111129 A KR20100111129 A KR 20100111129A KR 1020090029535 A KR1020090029535 A KR 1020090029535A KR 20090029535 A KR20090029535 A KR 20090029535A KR 20100111129 A KR20100111129 A KR 20100111129A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
adapter
inspection
mask
photomask
mask substrate
Prior art date
Application number
KR1020090029535A
Other languages
English (en)
Inventor
서강준
Original Assignee
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 주식회사 하이닉스반도체
Priority to KR1020090029535A priority Critical patent/KR20100111129A/ko
Publication of KR20100111129A publication Critical patent/KR20100111129A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84Inspecting
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70591Testing optical components
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load

Abstract

마스크 기판이 놓여지는 어뎁터와, 어뎁터 후면에 접촉하여 어뎁터를 지지하는 스테이지 베이스와, 어뎁터 측면과 대향되며, 상기 스테이지 베이스 위에 고정 설치되는 고정 프레임과, 고정 프레임과 상기 어뎁터 측면에 설치되는 완축스프링과, 고정 프레임 상부에 설치되어 상기 어뎁터 측면을 고정시키되, 개폐가능한 고정 핀과, 그리고 어뎁터 측면에 접촉되어 상기 어뎁터를 수평이동시키게 회전가능한 진동부를 포함한다.
포토마스크, 검사 장비, 어뎁터, 스테이지, 회전 모터, 진동

Description

스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비{Inspection apparatus of photomask having stage set}
본 발명은 포토마스크에 관한 것으로, 보다 구체적으로 스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비에 관한 것이다.
반도체 소자의 집적도가 높아지면서 디자인 룰(design rule)이 감소함에 따라 웨이퍼 상에 형성하고자 하는 회로 패턴의 크기 또한 축소되고 있다. 이에 따라 포토마스크 상에 웨이퍼에 전사할 미세 패턴들을 정확하게 형성하는 것이 중요하다. 이와 함께 포토마스크 상에 형성된 미세 패턴들이 정확하게 형성되었는지 또는 미세 패턴을 형성하는 과정에서 결함이 발생되었는지를 검사하는 검사(inspection) 공정이 필요하다. 포토마스크에 형성된 패턴에 대한 검사 공정은 마스크 검사 장비를 이용하여 수행되고 있다.
마스크 검사 장비는 마스크 패턴의 결함 및 오염을 검출하는 장비로서, 마스크를 검사 장비의 스테이지 부에 장착한 후 원하는 영역 또는 마스크 전체를 스캔(scan)하여 결함을 검출하게 된다. 결함을 검출한 후에는 스테이지부의 이동을 통해 결함의 이미지를 확인하여 결함을 확인하게 된다.
마스크검사 장비에서 검출되는 결함의 종류는 크게 패턴 결함, 고착성 이물질과 함께 공중성 파티클과 같이 마스크 표면에 단순 부착된 부착성 결함으로 구분될 수 있다. 패턴 결함의 경우 마스크 패턴에 대한 직접적인 수정이 가능하고, 고착성 이물질의 경우에는 전기적 힘 또는 반데르발스 힘에 의해 마스크 기판에 부착되어 있으므로, 마스크 표면에 UV 처리, 오존수, 황산, 암모니아 등 다양한 케미컬을 이용하여 제거가 가능하다.
특히, 단순 부착성 결함의 경우에는, 순수로도 제거가 가능하나 순수를 사용하기 위해서는 습식 세정 장비를 사용해야 한다. 따라서, 마스크 검사 장비에서 순 부착성 결함이 검출되면, 포토마스크를 습식 세정 장비로 로딩시킨 후, 순수를 이용한 세정을 수행하고, 이를 다시 마스크 검사 장비로 로딩시켜 결함 제거 유무를 판단하게 된다. 그러나, 습식 세정 장비의 사용에 따른 세정 진행 시간 추가, 마스크 검사 장비로의 로딩 시간이 추가될 수 있다, 또한, 결함 제거 유무 확인으로 인해 공정이 증가하고, 마스크 표면의 물성이 변화되거나 습식 세정 장비부터 마스크 기판이 2차 오염될 가능성이 있다.
따라서, 단순 부착성 결함에 대해 습식 세정 장비를 사용하지 않고 마스크 검사 장비에서 제거할 수 있는 기술이 요구되고 있다.
본 발명에 따른 포토마스크의 검사 장비는, 마스크 기판이 놓여지는 어뎁터; 상기 어뎁터 후면에 접촉하여 어뎁터를 지지하는 스테이지 베이스; 상기 어뎁터 측면과 대향되며, 상기 스테이지 베이스 위에 고정 설치되는 고정 프레임; 상기 고정 프레임과 상기 어뎁터 측면에 설치되는 완축스프링; 상기 고정 프레임 상부에 설치되어 상기 어뎁터 측면을 고정시키되, 개폐가능한 고정핀; 상기 어뎁터 측면에 접촉되어 상기 어뎁터를 수평이동시키게 회전가능한 진동부를 포함한다.
상기 어뎁터는 중심부가 뚤려있는 중심홀을 포함하며, 마스크 기판의 네 모서리 지점과 접촉되어 마스크 기판이 놓여지게 설치된 것이 바람직하다.
상기 고정 핀은 마스크 검사를 위한 스캔 시에는 어뎁터 측면에 닫혀 고정되고, 검사 리뷰 시에는 어뎁터 측면과 이격되게 열리도록 구성된 것이 바람직하다.
상기 진동부는, 상기 어뎁터 측면에 접촉된 회전헤드부; 및
상기 회전헤드부를 회전시키는 회전모터로 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 회전헤드부는 타원형으로 설치된 것이 바람직하다.
상기 스페이지와 수평으로 설치되어 상기 마스크 기판으로부터 떨어지는 이물질을 외부로 배출시키는 진공 흡입부를 더 포함한다.
본 발명에 따른 포토마스크 검사 장비는 포토마스크를 제조한 후, 포토마스크 상에 형성된 패턴에 유발된 결함을 검사하기 위한 장비에 도입되며, 포토마스크 검사 후 리뷰과정에서 검출되는 부유(airborne)성 파티클 즉, 단순 고착성 결함을 제거하기 위한 과정에 도입될 수 있다.
포토마스크의 검사 장비는 마스크가 안착되는 스테이지부와, 마스크에 광을 조사하는 광원부, 광원부에서 조사된 광이 마스크를 투과하면서 투과된 광을 수신하는 센서부를 포함하여 이루어진다. 본 발명에 따른 상술한 포토마스크의 검사 장비에서 마스크가 안착되는 스테이지부에 도입될 수 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 검사 장비의 스테이지부는 마스크 기판(100)이 놓여지는 어뎁터(110)와, 어뎁터(110) 후면에 접촉하여 어뎁터(110)를 지지하는 스테이지 베이스(120)를 구비하고, 어뎁터(110)와 스테이지 베이스(120)를 고정시키는 고정 프레임(130)과 고정 핀(140)을 포함하여 구성된다. 이때, 어뎁터(110)는 마스크 검사를 위한 스캔 시에는 스테이지 베이스(120)에 고정되고, 검사 리뷰(Review) 시에는 스테이지베이스(120) 위에서 수평진동되도록 구성된다. 이를 위해 고정 프레임(130)과 어뎁터(110) 측면에 설치되는 완축스프링(131)과 어뎁터(110)를 수평진동되게 유도하는 진동부(140)를 포함하여 구성된다.
고정 프레임(130)은 어뎁터(110) 측면과 대향되며, 스테이지 베이스(120) 위에 고정 설치된다. 고정 핀(140)은 고정 프레임(130) 상부에 설치되어 어뎁터(110) 측면을 고정시키되, 개폐가능하게 구성된다. 고정 핀(140)은 마스크 검사를 위한 스캔 시에는 어뎁터(110) 측면에 닫혀 고정되고, 검사 리뷰 시에는 어뎁터(110) 측면과 이격되게 열려 오픈되게 구성된다. 진동부(140)는 어뎁터 측면에 접촉된 회전헤드부(141)와, 회전헤드부(141)를 회전시키는 회전모터(142)로 구성되어 진다. 회 전헤드부(141)는 타원형상을 가지게 구성되며, 회전 헤드부(141)가 회전되면서 타원의 장축과 단축의 길이 차이에 의해 어뎁터(110)가 수평으로 진동운동되게 유도한다.
이와 같은 검사 장비의 스테이지부에 검사가 수행될 마스크 기판(100)이 도입되면, 먼저 어뎁터(110) 위에 마스크 기판(100)이 놓여지고, 어뎁터(110)는 다시 스테이지 베이스(120) 위에 장착시켜 고정시킨 후 마스크 검사를 위한 스캔(scan)을 실시한다.
이때, 마스크 기판(100)은 뒷면(backside)이 위를 향하도록 리버스(reverse)되어 놓여지게 된다. 어뎁터(100)는 마스크 검사를 위한 검사광이 마스크 기판(100)을 투과하여 센서부에 수신가능하도록 중심부가 뚤려있는 중심홀을 갖도록 구성된다. 어뎁터(110)와 마스크 기판(100)의 위치를 간략하게 설명하면, 도 2에 제시된 바와 같이, 어뎁터(110)는 스테이지 베이스(120) 중심부에 배치되고, 마스크 기판(100)은 사면이 어뎁터(110)에 둘러싸이게 배치된다. 이때, 어뎁터(110)에는 마스크 기판(100)의 가장자리를 지지할 수 있도록 중심홀 안쪽으로 돌출되게 배치된 지지부(111)를 포함한다. 지지부(111)는 마스크 기판(100)의 최외곽 모서리 부분이 접촉되도록 어뎁터(110)의 네 지점에서 돌출되게 배치될 수 있다. 이때, 지지부(111)와 접촉된 마스크 기판(100) 부분은 검사가 수행되는 메인 칩 영역이 아닌 프레임 영역이다.
마스크 검사를 위한 스캔 시에는 스테이지 베이스(120) 위에 놓여진 어뎁터(110) 측면에 고정 핀(140)을 닫아 밀착 고정시킨다. 예컨대, 검사 스캔 시의 스 테이지부를 살펴 보면, 도 3에 제시된 바와 같이, 고정 프레임(130) 상부에 개폐가능한 고정핀(140)은 스테이지 베이스(120) 위에 장착된 어뎁터(110) 측면에 닫혀지게 구성된다. 이로 인해, 고정 핀(140)은 어뎁터(110)를 밀착 고정시키고, 어뎁터(110)는 스테이지 베이스(120) 위에 고정되어 마스크 검사 스캔 시 마스크의 얼라인이 변경되지 않게 된다.
마스크 검사를 위한 스캔 과정이 완료된 후, 검사 리뷰 시에는 개폐가능한 고정 핀(140)이 열리게 된다. 검사 리뷰 시의 스테이지부를 살펴보면, 도 4에 제시된 바와 같이, 고정 프레임(130) 상부에 개폐가능한 고정 핀(140)은 어뎁터(110) 측면으로부터 이격되어 열리도록 구성된다. 이로 인해, 어뎁터(110)는 고정 프레임(130) 사이에 설치되는 완축스프링(131)에 의존하여 스테이지 베이스(120) 위에 놓여지게 된다.
진동부(140)는 완축스프링(131)에 의존하는 어뎁터(110)가 스테이지 베이스(120) 위에서 수평으로 진동운동되게 유도한다. 예컨대, 진동부(140)의 회전모터(142)를 구동시키면, 회전모터(142)에 의해 회전헤드부(141)가 고속으로 회전하게 된다. 이때, 회전헤드부(141)의 X축과 Y축 길이 차이에 의해 회전헤드부(141)가 회전하면서 완축스프링(131)에 의존하는 어뎁터(110)가 진동운동된다.
구체적으로, 어뎁터(110)의 진동 운동이 가능한 회전헤드부(141)의 구조를 살펴보면 도 5에 제시된 바와 같이, 회전헤드부(1)는 타원형의 형상을 가지게 구성되어 있으며, 장축과 단축에 의해 지름 차이가 발생된다. 이로 인해, 회전헤드부가 회전모터에 의해 화살표 방향(200)으로 회전할 때, 도 5의 A와 같이 회전헤드 부(141)의 장축이 어뎁터(110)의 측면과 접촉하는 경우와, 도 5의 B와 같이 회전헤드부(141)의 단축이 어뎁터(110)의 측면과 접촉하는 경우를 비교하면, 어뎁터(110)가 스테이지 베이스(120) 위에 놓여지는 위치가 'd' 만큼 차이가 발생된다.
이로 인해, 마스크 기판 상에 단순 부착된 공중 파티클(airborne particle)의 표면 결합력이 약화되어 마스크 기판(100)으로부터 떨어질 수 있다. 마스크 기판(100)으로 부터 분리된 파티클은 진공 흡입구에 의해 마스크 검사 장비로부터 배출될 수 있다. 예컨대, 도 6에 제시된 바와 같이, 스테이지 베이스(120) 위에 놓여진 어뎁터(110)가 진동부(140)에 의해 진동운동되면, 작용반작용 원칙에 의해 마스크 기판(100)에 일정형태의 운동이 가해진다. 이로 인해, 마스크 기판(100) 위에 부착된 파티클(101)의 표면 결합력이 약화되어 떨어져 나오고, 떨어져 나온 파티클(101)은 마스크 검사 장비의 스테이지부(120)와 수평으로 설치하여 작동되는 진공 흡입구(150)를 통해 외부로 배출시킬 수 있다.
본 발명에 따른 포토마스크의 검사 장비는 스테이지부의 어뎁터와 스테이지 베이스에 진동기능을 추가하여 마스크 상에 단순부착된 공중 파티클 성 결함을 분리시키고, 마스크 기판으로부터 떨어져 나와 분리된 파티클은 진공 흡입구를 통해 외부로 배출시킴으로써 마스크 검사 장비 내부를 오염시키지 않으면서 제거할 수 있다. 또한, 마스크 스캔 검사 후, 검사 리뷰 시 동시에 파티클을 제거할 수 있으며, 추가적으로 공중 파티클 성 결함을 제거하기 위한 습식 세정 단계, 추가 결함 검사 단계를 생략할 수 있다. 이로 인해 추가 결함 리뷰를 위한 검사 장비의 사용, 마스크 2차 오염으로 인한 결함의 발생을 방지할 수 있다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능함은 당연하다.
도 1 내지 도 6은 본 발명에 따른 스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비를 설명하기 위해 나타내 보인 도면들이다.

Claims (6)

  1. 마스크 기판이 놓여지는 어뎁터;
    상기 어뎁터 후면에 접촉하여 어뎁터를 지지하는 스테이지 베이스;
    상기 어뎁터 측면과 대향되며, 상기 스테이지 베이스 위에 고정 설치되는 고정 프레임;
    상기 고정 프레임과 상기 어뎁터 측면에 설치되는 완축스프링;
    상기 고정 프레임 상부에 설치되어 상기 어뎁터 측면을 고정시키되, 개폐가능한 고정 핀; 및
    상기 어뎁터 측면에 접촉되어 상기 어뎁터를 수평이동시키게 회전가능한 진동부를 포함하는 포토마스크의 검사 장비.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 어뎁터는 중심부가 뚤려있는 중심홀을 포함하며, 마스크 기판의 네 모서리 지점과 접촉되어 마스크 기판이 놓여지게 설치된 포토마스크의 검사 장비.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 고정 핀은 마스크 검사를 위한 스캔 시에는 어뎁터 측면에 닫혀 고정되고, 검사 리뷰 시에는 어뎁터 측면과 이격되게 열리도록 구성된 포토마스크의 검사 장비.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 진동부는,
    상기 어뎁터 측면에 접촉된 회전헤드부; 및
    상기 회전헤드부를 회전시키는 회전모터를 더 포함하는 포토마스크의 검사 장비.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 회전헤드부는 타원형으로 설치된 포토마스크의 검사 장비.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 스페이지와 수평으로 설치되어 상기 마스크 기판으로부터 떨어지는 이물질을 외부로 배출시키는 진공 흡입부를 더 포함하는 포토마스크의 검사 장비.
KR1020090029535A 2009-04-06 2009-04-06 스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비 KR20100111129A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090029535A KR20100111129A (ko) 2009-04-06 2009-04-06 스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090029535A KR20100111129A (ko) 2009-04-06 2009-04-06 스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20100111129A true KR20100111129A (ko) 2010-10-14

Family

ID=43131494

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090029535A KR20100111129A (ko) 2009-04-06 2009-04-06 스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20100111129A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9612208B2 (en) 2014-09-19 2017-04-04 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus and method of testing a stick
US10385441B2 (en) 2015-05-13 2019-08-20 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly and manufacturing method of the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9612208B2 (en) 2014-09-19 2017-04-04 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus and method of testing a stick
US10385441B2 (en) 2015-05-13 2019-08-20 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly and manufacturing method of the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5171524B2 (ja) 物体表面の欠陥検査装置および方法
JPH08254817A (ja) ホトマスクをクリーニングする方法および装置
TWI706128B (zh) 用於清潔靜電吸盤的工具與方法
JP3644246B2 (ja) X線露光方法
KR100494146B1 (ko) 파티클검사장치의 다용도 홀더 및 그를 이용한 검사방법
JP2011059098A (ja) マスク不良検査装置
JP2011022308A (ja) ペリクル検査装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法
US6357136B1 (en) Scanning acoustic microscope system and method for handling small parts
JP2000230910A (ja) 基板の付着異物検査装置および付着異物除去装置および付着異物除去方法
KR20100111129A (ko) 스테이지부를 구비하는 포토마스크의 검사 장비
JPH10209237A (ja) ウェハ検査方法および装置
JP6531344B2 (ja) プローブ装置
JP2002319563A (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JP2009130287A (ja) 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法
JP2014232794A (ja) 検査装置
JPH05240797A (ja) 表面検査装置
US11145526B2 (en) Method of analyzing a manufacturing of a semiconductor structure
JPH11135409A (ja) 異物検査除去装置
KR101921106B1 (ko) 웨이퍼 세정장치 및 바이브레이션 유닛
JP2002039745A (ja) ウェーハ形状検査方法およびその装置
KR20050011334A (ko) 반도체 웨이퍼 에지부 검사장치
TW201923335A (zh) 光學檢測設備及光學檢測方法
WO2004070370A1 (ja) ウエハ検査装置
JP6598737B2 (ja) ウエハ検査装置
KR100835467B1 (ko) 프로브 카드의 공기 세정 장치

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination