JPH05237440A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
- Publication number
- JPH05237440A JPH05237440A JP4368992A JP4368992A JPH05237440A JP H05237440 A JPH05237440 A JP H05237440A JP 4368992 A JP4368992 A JP 4368992A JP 4368992 A JP4368992 A JP 4368992A JP H05237440 A JPH05237440 A JP H05237440A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- coated
- roll
- coating solution
- coating liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】塗布液の使用量を少なくし、かつ被塗布面の上
での塗布液を均一に精度よく形成する塗布方法を提供す
る。 【構成】被塗布面に塗布液をロールコートするに先立
ち、前記ロールコートに用いる塗布液の成分として用い
られる希釈用液を用いて予めスプレーコートする。 【効果】希釈用液を用いて予めスプレーコートしたた
め、被塗布面のぬれ性が向上し、後の塗布工程がロール
コートでも十分な平坦性が精度よく得ることができる。
また、塗布量の使用量が低下できる。
での塗布液を均一に精度よく形成する塗布方法を提供す
る。 【構成】被塗布面に塗布液をロールコートするに先立
ち、前記ロールコートに用いる塗布液の成分として用い
られる希釈用液を用いて予めスプレーコートする。 【効果】希釈用液を用いて予めスプレーコートしたた
め、被塗布面のぬれ性が向上し、後の塗布工程がロール
コートでも十分な平坦性が精度よく得ることができる。
また、塗布量の使用量が低下できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、枚葉物の基板の被塗布
面に塗布液をコートするコーティング技術に関するもの
である。
面に塗布液をコートするコーティング技術に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】これまでカラーフィルター等の製造に関
し、均一にかつ精度よく塗布液を塗布する方法として被
塗布面を上にして回転台に載せ、塗布液を垂らした上で
高速で回転し、被塗布面に均一に被塗布液を分布させる
スピンコート法が中心となっている。
し、均一にかつ精度よく塗布液を塗布する方法として被
塗布面を上にして回転台に載せ、塗布液を垂らした上で
高速で回転し、被塗布面に均一に被塗布液を分布させる
スピンコート法が中心となっている。
【０００３】そこでスピンコート法に代わる方法とし
て、被塗布面上を接触させながら塗布ロールを回転させ
ていく事により被塗布面へ塗布液をコーティングするロ
ールコート法も用いる事が考えられている。
て、被塗布面上を接触させながら塗布ロールを回転させ
ていく事により被塗布面へ塗布液をコーティングするロ
ールコート法も用いる事が考えられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術のうち
スピンコート法については、遠心力により塗布液を均一
化させているために、どうしても最終的に被塗布面上に
残る塗布液の量に比べ、スピンコート時に用いる塗布液
の量が多く必要とされる。一般的に最終的に被塗布面上
に残る塗布液の量とスピンコート時に用いる塗布液の量
の比は、回転数が１５００ｒｐｍの場合、１：１０程度
であった。
スピンコート法については、遠心力により塗布液を均一
化させているために、どうしても最終的に被塗布面上に
残る塗布液の量に比べ、スピンコート時に用いる塗布液
の量が多く必要とされる。一般的に最終的に被塗布面上
に残る塗布液の量とスピンコート時に用いる塗布液の量
の比は、回転数が１５００ｒｐｍの場合、１：１０程度
であった。
【０００５】他方、ロールコート法ではスピンコート法
に比べて最終的に被塗布面上に残る塗布液の量は少な
く、最終的に被塗布面上に残る塗布液の量とロールコー
ト時に用いる塗布液の量の比は、１：２程度となる。
に比べて最終的に被塗布面上に残る塗布液の量は少な
く、最終的に被塗布面上に残る塗布液の量とロールコー
ト時に用いる塗布液の量の比は、１：２程度となる。
【０００６】しかし、ロールコート法の欠点として塗工
ムラが生じやすいということがある。これは、被塗布面
のぬれ性が低く、それにより塗布液ののびが小さく、塗
布液がまだらに分布しがちである。それに対して、要求
される膜厚精度が±数パーセントということから、従来
のロールコート法では例えば３００ｍｍ角の被塗布面を
持つ場合、周囲からの距離が１０ｍｍ程度の部分では、
その基準値以下になってなく、有効エリアとして使用す
ることはできず、その分だけ有効エリアが狭いという問
題がある。
ムラが生じやすいということがある。これは、被塗布面
のぬれ性が低く、それにより塗布液ののびが小さく、塗
布液がまだらに分布しがちである。それに対して、要求
される膜厚精度が±数パーセントということから、従来
のロールコート法では例えば３００ｍｍ角の被塗布面を
持つ場合、周囲からの距離が１０ｍｍ程度の部分では、
その基準値以下になってなく、有効エリアとして使用す
ることはできず、その分だけ有効エリアが狭いという問
題がある。
【０００７】以上の問題点に鑑み、最終的に被塗布面上
に残る塗布液の量を減らすことなく、スピンコート時に
用いる塗布液の量を少なくし、しかも均一かつ精度良く
被塗布面上に塗布する方法が望まれていた。
に残る塗布液の量を減らすことなく、スピンコート時に
用いる塗布液の量を少なくし、しかも均一かつ精度良く
被塗布面上に塗布する方法が望まれていた。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題を解
決するために、被塗布面に塗布液をロールコートするに
先立ち、ロールコートに用いる塗布液の成分として用い
られる希釈用液を用いて予めスプレーコートする事によ
り上記課題を解決しようとするものである。
決するために、被塗布面に塗布液をロールコートするに
先立ち、ロールコートに用いる塗布液の成分として用い
られる希釈用液を用いて予めスプレーコートする事によ
り上記課題を解決しようとするものである。
【０００９】上記被塗布面は、板状枚葉物のほか、種々
のものに対して実施可能である。また、ロールコート
は、表面が塗布液膨潤性か否かをとわない。また、塗布
液量を調整するため、微細な凹凸が表面に設けられてい
るものでもよい。さらに、塗布液は塗布適性があるもの
ならば十分である。希釈溶液は、被塗布面にぬれ性を与
える材質のもので、塗布液と親和性のあるものであれは
よい。
のものに対して実施可能である。また、ロールコート
は、表面が塗布液膨潤性か否かをとわない。また、塗布
液量を調整するため、微細な凹凸が表面に設けられてい
るものでもよい。さらに、塗布液は塗布適性があるもの
ならば十分である。希釈溶液は、被塗布面にぬれ性を与
える材質のもので、塗布液と親和性のあるものであれは
よい。
【００１０】
【作用】上記した本発明によれば、あらかじめ被塗布面
をスプレーコートする事により被塗布面を希釈液となじ
ませたため、被塗布面のぬれ性が向上する。この被塗布
面のぬれ性が向上したことによってレジストののびが良
くなり、均一な塗膜面の形成が可能となる。
をスプレーコートする事により被塗布面を希釈液となじ
ませたため、被塗布面のぬれ性が向上する。この被塗布
面のぬれ性が向上したことによってレジストののびが良
くなり、均一な塗膜面の形成が可能となる。
【００１１】さらに、ロールコートで塗布液を塗布する
ことになるので、最終的に被塗布面上に残る塗布液の量
を減らすことなく、スピンコート時に用いる塗布液の量
を少なく塗布液のロスを改善することができる。
ことになるので、最終的に被塗布面上に残る塗布液の量
を減らすことなく、スピンコート時に用いる塗布液の量
を少なく塗布液のロスを改善することができる。
【００１２】
【実施例】クロム酸混液により酸化処理を施したのち純
水を漬けたことにより予め前処理されたガラス基板１
（縦×横×厚さ＝３２０×３００×１．１ｍｍ）は、コ
ンベアベルト６の端部に被塗布面を上にして順次載置さ
れ、次々スプレーコート部とロールコート部に搬送さ
れ、他端で排出される。
水を漬けたことにより予め前処理されたガラス基板１
（縦×横×厚さ＝３２０×３００×１．１ｍｍ）は、コ
ンベアベルト６の端部に被塗布面を上にして順次載置さ
れ、次々スプレーコート部とロールコート部に搬送さ
れ、他端で排出される。
【００１３】このうちスプレーコート部では、搬送され
てきたガラス基板１の被塗布面に、塗布液に希釈溶剤と
して用いられているエチルセロソルブアセテートを室温
２０度で順次幅方向に均一にスプレーコート２する。こ
の結果、ガラス基板１の被塗布面に希釈溶剤が供給さ
れ、ぬれ性が向上する。
てきたガラス基板１の被塗布面に、塗布液に希釈溶剤と
して用いられているエチルセロソルブアセテートを室温
２０度で順次幅方向に均一にスプレーコート２する。こ
の結果、ガラス基板１の被塗布面に希釈溶剤が供給さ
れ、ぬれ性が向上する。
【００１４】そのガラス基板１は、さらに搬送され、ロ
ールコート部まで達する。そこには、ロール３が設けら
れ、そのロール３には塗布液供給パン４とブレード５が
附属している。塗布液供給パン４には、塗布液が供給さ
れている。塗布液としては、種々のものを用いる事が可
能であるが、本例としては青色顔料レジストであるＣＢ
２０００（商品名：富士ハント社製）を用いる。ＣＢ２
０００の成分としては顔料分が約３０％、溶剤が約７０
％、重合開始剤他が微量という構成となっている。
ールコート部まで達する。そこには、ロール３が設けら
れ、そのロール３には塗布液供給パン４とブレード５が
附属している。塗布液供給パン４には、塗布液が供給さ
れている。塗布液としては、種々のものを用いる事が可
能であるが、本例としては青色顔料レジストであるＣＢ
２０００（商品名：富士ハント社製）を用いる。ＣＢ２
０００の成分としては顔料分が約３０％、溶剤が約７０
％、重合開始剤他が微量という構成となっている。
【００１５】ロール３は連続して流れ方向に、接触面で
搬送速度とほぼ同じ速度となるように回転しており、ガ
ラス基板１を傷つけないよう回転している。ロール３が
回転すると、塗布液供給パン４とロール３との間で保持
された塗布液をもち上げられる。さらにその持ち上げら
れた塗布液の量を均一化させるために、ロール３との間
隙が調節されたブレード５によって余分な塗布液を掻き
落とし、塗布量を調節する。
搬送速度とほぼ同じ速度となるように回転しており、ガ
ラス基板１を傷つけないよう回転している。ロール３が
回転すると、塗布液供給パン４とロール３との間で保持
された塗布液をもち上げられる。さらにその持ち上げら
れた塗布液の量を均一化させるために、ロール３との間
隙が調節されたブレード５によって余分な塗布液を掻き
落とし、塗布量を調節する。
【００１６】ブレード５によって余分な塗布液を掻き落
とし量を調節された塗布液は、ロール３上を回転し、ガ
ラス基板１の被塗布面に接触し、被塗布面に塗布液が順
次転移することで、被塗布面で均一な塗膜面を形成させ
た。
とし量を調節された塗布液は、ロール３上を回転し、ガ
ラス基板１の被塗布面に接触し、被塗布面に塗布液が順
次転移することで、被塗布面で均一な塗膜面を形成させ
た。
【００１７】このように被塗布面で均一な塗膜面を形成
されたガラス基板１は、コンベアベルトに順次搬送さ
れ、排出部に向かう。
されたガラス基板１は、コンベアベルトに順次搬送さ
れ、排出部に向かう。
【００１８】得られた塗膜面について評価したところ、
塗布ムラに関してはほとんど観察されず、全面で２．０
μｍプラスマイナス５％以内の均一な膜が形成されてお
り、その値に入っている有効エリアがより拡大された。
塗布ムラに関してはほとんど観察されず、全面で２．０
μｍプラスマイナス５％以内の均一な膜が形成されてお
り、その値に入っている有効エリアがより拡大された。
【００１９】
【発明の効果】本発明は以上のようなものであるが、被
塗布面を溶剤雰囲気にすることで従来よりぬれ性が向上
し、レジストののびが良くなる。さらにこの結果とし
て、塗工重量が削減でき、従来までのレジスト使用効率
を向上させるという効果を有するものである。
塗布面を溶剤雰囲気にすることで従来よりぬれ性が向上
し、レジストののびが良くなる。さらにこの結果とし
て、塗工重量が削減でき、従来までのレジスト使用効率
を向上させるという効果を有するものである。
【００２０】
【図１】 本塗布方法の塗布中の断面図である。
１ ガラス基板 ２ スプレーコーター ３ 回転ロール ４ 塗工液供給パン ５ ブレード ６ コンベアベルト
Claims (1)
- 【請求項１】被塗布面に塗布液をロールコートするに先
立ち、前記ロールコートに用いる塗布液の成分として用
いられる希釈用液を用いて予めスプレーコートする事を
特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4368992A JPH05237440A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4368992A JPH05237440A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05237440A true JPH05237440A (ja) | 1993-09-17 |
Family
ID=12670810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4368992A Pending JPH05237440A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05237440A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100866323B1 (ko) * | 2007-02-05 | 2008-10-31 | 한국기계연구원 | 대면적 박막 코팅방법 및 그 장치 |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP4368992A patent/JPH05237440A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100866323B1 (ko) * | 2007-02-05 | 2008-10-31 | 한국기계연구원 | 대면적 박막 코팅방법 및 그 장치 |
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