JPH05237434A - 塗膜の検出方法及び装置 - Google Patents
塗膜の検出方法及び装置Info
- Publication number
- JPH05237434A JPH05237434A JP7351592A JP7351592A JPH05237434A JP H05237434 A JPH05237434 A JP H05237434A JP 7351592 A JP7351592 A JP 7351592A JP 7351592 A JP7351592 A JP 7351592A JP H05237434 A JPH05237434 A JP H05237434A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- disk substrate
- laser
- substrate
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ディスク基板上に形成されている塗膜を直接
検出して塗膜の有無の正確な検出を行うことにより，デ
ィスク基板の良品と不良品とを正確に区分することがで
きる。 【構成】 ディスク基板上に塗膜が形成されているか否
かを検出する方法及び装置において，レーザ発光部から
上記ディスク基板上に向けてレーザ光を発光すると共
に，上記ディスク基板上に塗膜が形成されている場合に
はレーザ受光部で上記レーザ光を受光し，上記ディスク
基板上に塗膜が形成されていない場合にはレーザ受光部
で上記レーザ光を受光しない。
検出して塗膜の有無の正確な検出を行うことにより，デ
ィスク基板の良品と不良品とを正確に区分することがで
きる。 【構成】 ディスク基板上に塗膜が形成されているか否
かを検出する方法及び装置において，レーザ発光部から
上記ディスク基板上に向けてレーザ光を発光すると共
に，上記ディスク基板上に塗膜が形成されている場合に
はレーザ受光部で上記レーザ光を受光し，上記ディスク
基板上に塗膜が形成されていない場合にはレーザ受光部
で上記レーザ光を受光しない。
Description
【産業上の利用分野】本発明は，光ディスク基板のよう
な光の反射鏡面を有するディスク基板上に塗膜が形成さ
れているか否かを検出する方法及び装置に関する。
な光の反射鏡面を有するディスク基板上に塗膜が形成さ
れているか否かを検出する方法及び装置に関する。
【従来の技術】ディスク基板上に塗膜が形成されている
か否かを検出する従来の方法及び装置にあっては，間接
的な検出，即ち，塗布液の吐出手段である吐出ノズルの
動作確認，例えば吐出ノズルが吐出時間内に一定範囲を
動いたかどうかを確認する方法及び装置を用いていた。
か否かを検出する従来の方法及び装置にあっては，間接
的な検出，即ち，塗布液の吐出手段である吐出ノズルの
動作確認，例えば吐出ノズルが吐出時間内に一定範囲を
動いたかどうかを確認する方法及び装置を用いていた。
【発明が解決しようとする課題】しかし，このような従
来の塗膜の検出方法及び装置にあっては，ディスク基板
上に形成されている塗膜を直接検出して塗膜の有無の正
確な検出を行っている訳ではないので，塗布液の吐出不
足等が生じて，塗膜の形成されていない部分のある塗布
不良のディスク基板が発生しても，これを知る術がな
く，塗膜の形成されている良品のディスク基板に，塗膜
の形成されていない部分のある塗布不良のディスク基板
が混入してしまうことがあった。
来の塗膜の検出方法及び装置にあっては，ディスク基板
上に形成されている塗膜を直接検出して塗膜の有無の正
確な検出を行っている訳ではないので，塗布液の吐出不
足等が生じて，塗膜の形成されていない部分のある塗布
不良のディスク基板が発生しても，これを知る術がな
く，塗膜の形成されている良品のディスク基板に，塗膜
の形成されていない部分のある塗布不良のディスク基板
が混入してしまうことがあった。
【課題を解決するための手段】本発明は，以上の欠点を
除去するために，ディスク基板上に塗膜が形成されてい
るか否かを検出する方法及び装置において，レーザ発光
部から上記ディスク基板上に向けてレーザ光を発光する
と共に，上記ディスク基板上に塗膜が形成されている場
合にはレーザ受光部で上記レーザ光を受光し，上記ディ
スク基板上に塗膜が形成されていない場合にはレーザ受
光部で上記レーザ光を受光しないことを特徴とする塗膜
の検出方法及び装置を提供するものである。
除去するために，ディスク基板上に塗膜が形成されてい
るか否かを検出する方法及び装置において，レーザ発光
部から上記ディスク基板上に向けてレーザ光を発光する
と共に，上記ディスク基板上に塗膜が形成されている場
合にはレーザ受光部で上記レーザ光を受光し，上記ディ
スク基板上に塗膜が形成されていない場合にはレーザ受
光部で上記レーザ光を受光しないことを特徴とする塗膜
の検出方法及び装置を提供するものである。
【実施例】図１乃至図４は本発明の一実施例を説明する
ための図である。図２において，入側基板待機位置１に
あったディスク基板２が，搬送アーム３によりターンテ
ーブル４上の基板乗込み位置５に搬送され，更にターン
テーブル４の回転により基板検出位置６に搬送される。
基板検出位置６では，図３に示すようにディスク基板２
の内側に塗布液が吐出されると共に，塗布液が吐出され
た直後のディスク基板上の塗膜の有無が検出される。図
３において，ノズル移動用モータ７によりノズルアーム
８が円弧を描くように駆動され，ノズルアーム８の先端
に取り付けられた吐出ノズル９もノズル待機位置１０か
らノズル吐出位置１１に円弧を描くように移動する。ま
た，同時に，ノズルアーム８に取り付けられたレーザ光
検出センサ１２もセンサ待機位置１３からセンサ検出位
置１４に円弧を描くように移動する。ノズル吐出位置１
１で，吐出ノズル９からディスク基板２上に塗布液が吐
出される。ディスク基板２は，基板回転用モータ１５に
よりほぼ６０ｒｐｍで回転しているため，吐出ノズル９
より吐出された塗布液は，回転しているディスク基板２
によりセンサ検出位置１４に移動してくる。そして，セ
ンサ検出位置１４でレーザ光検出センサ１２により塗膜
１６の有無が図１に示すようにして検出される。図１に
おいて，１７はレーザ光検出センサ１２のレーザ発光
部，１８はレーザ光検出センサ１２のレーザ受光部であ
り，レーザ発光部１７とレーザ受光部１８とは隣合わせ
ている。１９はレーザ光であり，実線は正反射，破線は
乱反射を示す。レーザ発光部１７からディスク基板２の
外方向或いは内方向に向けて，図４に示すようにディス
ク基板とのなす角度θが２０°〜６０°，望ましくはほ
ぼ４５°で，ディスク基板の円周に対してほぼ直角方向
になるように発光されたレーザ光１９は，塗膜１６の無
い場合には，図１に実線で示すようにディスク基板２の
アルミ蒸着面が形成する鏡面で正反射するためレーザ受
光部１８に受光しない。また，塗膜１６の有る場合に
は，レーザ発光部１７から発光したレーザ光１９は，図
１に破線で示すようにディスク基板２の塗膜１６面で乱
反射してレーザ光１９の一部がレーザ受光部１８に受光
する。このようにして，レーザ受光部１８でレーザ光１
９を受光するか否かによりディスク基板２上の塗膜１６
の有無が検出される。次に，図３に示すように，ノズル
移動用モータ７によりノズルアーム８が円弧を描くよう
に駆動され，吐出ノズル９もノズル吐出位置１１からノ
ズル待機位置１０に円弧を描くように移動し，同時に，
ノズルアーム８に取り付けられたレーザ光検出センサ１
２もセンサ検出位置１４からセンサ待機位置１３に円弧
を描くように移動する。ディスク基板２上の塗膜１６の
有無が検出されたディスク基板は，ほぼ３０００ｒｐｍ
で高速回転した後に，図２に示すようにターンテーブル
４の反転により再度基板乗込み位置５に戻る。レーザ受
光部１８でレーザ光１９を受光したディスク基板２は，
ディスク基板の内側に途切れることなく塗膜１６が形成
されているので，ディスク基板の高速回転により，塗膜
は遠心力でディスク基板の全面に広がり，ディスク基板
の全面に塗膜を形成することができる。基板乗込み位置
５に戻ったディスク基板２は，ディスク基板上に塗膜の
形成されている場合には，搬送アーム３により出側基板
待機位置２０に搬送され，次の工程に進む。また，ディ
スク基板上に塗膜の形成されていないディスク基板２
は，不良品として搬送アーム３により基板乗込み位置５
から不良品廃棄位置２１に搬送され，廃棄される。この
ように，この実施例にあっては，ディスク基板上に形成
されている塗膜を直接検出して塗膜の有無の正確な検出
を行っているので，塗膜の形成されている良品のディス
ク基板に塗膜の形成されていない部分のある塗布不良の
ディスク基板が混入してしまうことがなくなり，ディス
ク基板の良品と不良品とを正確に区分することができ
る。また，ディスク基板上へ塗膜を形成する工程の中
で，同時にディスク基板上の塗膜の有無を検出すること
ができるので，時間的なロスがなく合理的である。更
に，レーザ光検出センサはディスク基板上への塗膜の形
成に必須の構成要素であるノズルアームに取り付けられ
ているので，レーザ光検出のための特別のスペースを必
要としない。尚，ディスク基板が回転する方式ではな
く，吐出ノズルが回転する方式の場合にも同様に実施す
ることができる。図５は本発明の他の一実施例を説明す
るための図である。この実施例は，上述した実施例のよ
うに，ディスク基板上へ塗膜を形成する工程の中で，同
時にディスク基板上の塗膜の有無を検出するのではな
く，ディスク基板をほぼ３０００ｒｐｍで高速回転し
て，遠心力によりディスク基板の内側に吐出された塗布
液をディスク基板の外側に広げてディスク基板上の全面
に塗膜を形成した後に，ディスク基板をほぼ６０ｒｐｍ
で１回転以上することにより，塗膜がディスク基板上の
全面に形成されているか否かを検出するものである。図
に示すように，センサ固定金具２２に２個のレーザ光検
出センサ１２，１２’を取り付け，一方はディスク基板
の内周面の塗膜，他方はディスク基板の外周面の塗膜を
それぞれ検出できるように配置する。この場合，２個の
レーザ光検出センサ１２，１２’は，それぞれのレーザ
光１９，１９’が相互に干渉し合わないように，レーザ
光の向きが反対になるようにしている。この実施例にあ
っては，２個のレーザ光検出センサ１２，１２’によ
り，塗膜がディスク基板の全面に形成されているか否か
を，上述の実施例のように間接的にではなく，直接検出
することができる。その他は，上述の実施例で説明した
のとほぼ同様である。図６は本発明の他の一実施例を説
明するための図である。この実施例は，アクチュエータ
２３に１個のレーザ光検出センサ１２を取り付け，アク
チュエータでレーザ光検出センサの角度を変化させて，
ディスク基板の内周面の塗膜とディスク基板の外周面の
塗膜とを検出できるようにしたものである。その他は，
図５の実施例で説明したのとほぼ同様であり，１個のレ
ーザ光検出センサにより図５の実施例とほぼ同様の効果
が得られる。
ための図である。図２において，入側基板待機位置１に
あったディスク基板２が，搬送アーム３によりターンテ
ーブル４上の基板乗込み位置５に搬送され，更にターン
テーブル４の回転により基板検出位置６に搬送される。
基板検出位置６では，図３に示すようにディスク基板２
の内側に塗布液が吐出されると共に，塗布液が吐出され
た直後のディスク基板上の塗膜の有無が検出される。図
３において，ノズル移動用モータ７によりノズルアーム
８が円弧を描くように駆動され，ノズルアーム８の先端
に取り付けられた吐出ノズル９もノズル待機位置１０か
らノズル吐出位置１１に円弧を描くように移動する。ま
た，同時に，ノズルアーム８に取り付けられたレーザ光
検出センサ１２もセンサ待機位置１３からセンサ検出位
置１４に円弧を描くように移動する。ノズル吐出位置１
１で，吐出ノズル９からディスク基板２上に塗布液が吐
出される。ディスク基板２は，基板回転用モータ１５に
よりほぼ６０ｒｐｍで回転しているため，吐出ノズル９
より吐出された塗布液は，回転しているディスク基板２
によりセンサ検出位置１４に移動してくる。そして，セ
ンサ検出位置１４でレーザ光検出センサ１２により塗膜
１６の有無が図１に示すようにして検出される。図１に
おいて，１７はレーザ光検出センサ１２のレーザ発光
部，１８はレーザ光検出センサ１２のレーザ受光部であ
り，レーザ発光部１７とレーザ受光部１８とは隣合わせ
ている。１９はレーザ光であり，実線は正反射，破線は
乱反射を示す。レーザ発光部１７からディスク基板２の
外方向或いは内方向に向けて，図４に示すようにディス
ク基板とのなす角度θが２０°〜６０°，望ましくはほ
ぼ４５°で，ディスク基板の円周に対してほぼ直角方向
になるように発光されたレーザ光１９は，塗膜１６の無
い場合には，図１に実線で示すようにディスク基板２の
アルミ蒸着面が形成する鏡面で正反射するためレーザ受
光部１８に受光しない。また，塗膜１６の有る場合に
は，レーザ発光部１７から発光したレーザ光１９は，図
１に破線で示すようにディスク基板２の塗膜１６面で乱
反射してレーザ光１９の一部がレーザ受光部１８に受光
する。このようにして，レーザ受光部１８でレーザ光１
９を受光するか否かによりディスク基板２上の塗膜１６
の有無が検出される。次に，図３に示すように，ノズル
移動用モータ７によりノズルアーム８が円弧を描くよう
に駆動され，吐出ノズル９もノズル吐出位置１１からノ
ズル待機位置１０に円弧を描くように移動し，同時に，
ノズルアーム８に取り付けられたレーザ光検出センサ１
２もセンサ検出位置１４からセンサ待機位置１３に円弧
を描くように移動する。ディスク基板２上の塗膜１６の
有無が検出されたディスク基板は，ほぼ３０００ｒｐｍ
で高速回転した後に，図２に示すようにターンテーブル
４の反転により再度基板乗込み位置５に戻る。レーザ受
光部１８でレーザ光１９を受光したディスク基板２は，
ディスク基板の内側に途切れることなく塗膜１６が形成
されているので，ディスク基板の高速回転により，塗膜
は遠心力でディスク基板の全面に広がり，ディスク基板
の全面に塗膜を形成することができる。基板乗込み位置
５に戻ったディスク基板２は，ディスク基板上に塗膜の
形成されている場合には，搬送アーム３により出側基板
待機位置２０に搬送され，次の工程に進む。また，ディ
スク基板上に塗膜の形成されていないディスク基板２
は，不良品として搬送アーム３により基板乗込み位置５
から不良品廃棄位置２１に搬送され，廃棄される。この
ように，この実施例にあっては，ディスク基板上に形成
されている塗膜を直接検出して塗膜の有無の正確な検出
を行っているので，塗膜の形成されている良品のディス
ク基板に塗膜の形成されていない部分のある塗布不良の
ディスク基板が混入してしまうことがなくなり，ディス
ク基板の良品と不良品とを正確に区分することができ
る。また，ディスク基板上へ塗膜を形成する工程の中
で，同時にディスク基板上の塗膜の有無を検出すること
ができるので，時間的なロスがなく合理的である。更
に，レーザ光検出センサはディスク基板上への塗膜の形
成に必須の構成要素であるノズルアームに取り付けられ
ているので，レーザ光検出のための特別のスペースを必
要としない。尚，ディスク基板が回転する方式ではな
く，吐出ノズルが回転する方式の場合にも同様に実施す
ることができる。図５は本発明の他の一実施例を説明す
るための図である。この実施例は，上述した実施例のよ
うに，ディスク基板上へ塗膜を形成する工程の中で，同
時にディスク基板上の塗膜の有無を検出するのではな
く，ディスク基板をほぼ３０００ｒｐｍで高速回転し
て，遠心力によりディスク基板の内側に吐出された塗布
液をディスク基板の外側に広げてディスク基板上の全面
に塗膜を形成した後に，ディスク基板をほぼ６０ｒｐｍ
で１回転以上することにより，塗膜がディスク基板上の
全面に形成されているか否かを検出するものである。図
に示すように，センサ固定金具２２に２個のレーザ光検
出センサ１２，１２’を取り付け，一方はディスク基板
の内周面の塗膜，他方はディスク基板の外周面の塗膜を
それぞれ検出できるように配置する。この場合，２個の
レーザ光検出センサ１２，１２’は，それぞれのレーザ
光１９，１９’が相互に干渉し合わないように，レーザ
光の向きが反対になるようにしている。この実施例にあ
っては，２個のレーザ光検出センサ１２，１２’によ
り，塗膜がディスク基板の全面に形成されているか否か
を，上述の実施例のように間接的にではなく，直接検出
することができる。その他は，上述の実施例で説明した
のとほぼ同様である。図６は本発明の他の一実施例を説
明するための図である。この実施例は，アクチュエータ
２３に１個のレーザ光検出センサ１２を取り付け，アク
チュエータでレーザ光検出センサの角度を変化させて，
ディスク基板の内周面の塗膜とディスク基板の外周面の
塗膜とを検出できるようにしたものである。その他は，
図５の実施例で説明したのとほぼ同様であり，１個のレ
ーザ光検出センサにより図５の実施例とほぼ同様の効果
が得られる。
【発明の効果】本発明によれば，ディスク基板上に形成
されている塗膜を直接検出して塗膜の有無の正確な検出
を行っているので，塗膜の形成されている良品のディス
ク基板に塗膜の形成されていない部分のある塗布不良の
ディスク基板が混入してしまうことがなくなり，ディス
ク基板の良品と不良品とを正確に区分することができ
る。
されている塗膜を直接検出して塗膜の有無の正確な検出
を行っているので，塗膜の形成されている良品のディス
ク基板に塗膜の形成されていない部分のある塗布不良の
ディスク基板が混入してしまうことがなくなり，ディス
ク基板の良品と不良品とを正確に区分することができ
る。
【図１】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図２】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図３】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図４】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図５】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図６】本発明の一実施例を説明するための図である。
１…入側基板待機位置 ２…ディスク基
板 ３…搬送アーム ４…ターンテー
ブル ５…基板乗込み位置 ６…基板検出位
置 ７…ノズル移動用モータ ８…ノズルアー
ム ９…吐出ノズル １０…ノズル待機
位置 １１…ノズル吐出位置 １２，１２’…
レーザ光検出センサ １３…センサ待機位置 １４…センサ検
出位置 １５…基板回転用モータ １６…塗膜 １７…レーザ発光部 １８…レーザ受
光部 １９，１９’…レーザ光 ２０…出側基板
待機位置 ２１…不良品廃棄位置 ２２…センサ固
定金具 ２３…アクチュエータ
板 ３…搬送アーム ４…ターンテー
ブル ５…基板乗込み位置 ６…基板検出位
置 ７…ノズル移動用モータ ８…ノズルアー
ム ９…吐出ノズル １０…ノズル待機
位置 １１…ノズル吐出位置 １２，１２’…
レーザ光検出センサ １３…センサ待機位置 １４…センサ検
出位置 １５…基板回転用モータ １６…塗膜 １７…レーザ発光部 １８…レーザ受
光部 １９，１９’…レーザ光 ２０…出側基板
待機位置 ２１…不良品廃棄位置 ２２…センサ固
定金具 ２３…アクチュエータ
Claims (5)
- 【請求項１】 ディスク基板上に塗膜が形成されている
か否かを検出する方法において，レーザ発光部から上記
ディスク基板上に向けてレーザ光を発光すると共に，上
記ディスク基板上に塗膜が形成されている場合にはレー
ザ受光部で上記レーザ光を受光し，上記ディスク基板上
に塗膜が形成されていない場合にはレーザ受光部で上記
レーザ光を受光しないことを特徴とする塗膜の検出方
法。 - 【請求項２】 上記レーザ発光部から上記ディスク基板
上に向けて，該ディスク基板とのなす角度が２０°〜６
０°でディスク基板の円周に対してほぼ直角方向になる
ように，レーザ光を発光することを特徴とする請求項１
記載の塗膜の検出方法。 - 【請求項３】 上記レーザ発光部及びレーザ受光部を有
するレーザ検出センサにより，ディスク基板の内周面の
塗膜と外周面の塗膜のそれぞれを検出することを特徴と
する請求項１または２記載の塗膜の検出方法。 - 【請求項４】 ディスク基板上に塗膜が形成されている
か否かを検出する方法において，吐出ノズルがノズル待
機位置からノズル吐出位置に移動し，同時にレーザ発光
部及びレーザ受光部を有するレーザ光検出センサもセン
サ待機位置からセンサ検出位置に移動すると，吐出ノズ
ルからディスク基板上に塗布液が吐出され，回転してい
るディスク基板により塗膜が上記センサ検出位置に達す
ると，上記レーザ光検出センサにより塗膜の有無が検出
されることを特徴とする塗膜の検出方法。 - 【請求項５】 ディスク基板上に塗膜が形成されている
か否かを検出する装置において，上記ディスク基板上に
向けてレーザ光を発光するレーザ発光部と，上記ディス
ク基板上に塗膜が形成されている場合には上記レーザ光
を受光し，上記ディスク基板上に塗膜が形成されていな
い場合には上記レーザ光を受光しないレーザ受光部とか
らなることを特徴とする塗膜の検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7351592A JPH05237434A (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | 塗膜の検出方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7351592A JPH05237434A (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | 塗膜の検出方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05237434A true JPH05237434A (ja) | 1993-09-17 |
Family
ID=13520465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7351592A Withdrawn JPH05237434A (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | 塗膜の検出方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05237434A (ja) |
-
1992
- 1992-02-25 JP JP7351592A patent/JPH05237434A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4110047A (en) | Inspection apparatus for automatically detecting the unevenness or the flaws of a coating | |
| US20030071992A1 (en) | Wafer inspection system for distinguishing pits and particles | |
| JPH0368337B2 (ja) | ||
| US20080024773A1 (en) | Surface inspection apparatus and surface inspection method | |
| WO2018042743A1 (ja) | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法 | |
| KR100274125B1 (ko) | 기판회전처리방법 및 회전식 기판처리장치 | |
| JP3761673B2 (ja) | ポリッシング装置 | |
| US6356346B1 (en) | Device and method for inspecting a disk for physical defects | |
| TWI634226B (zh) | 光學檢查系統、用於處理在可撓性基板上之材料的處理系統、以及一種檢查可撓性基板的方法 | |
| JPH05237434A (ja) | 塗膜の検出方法及び装置 | |
| JP2001102287A (ja) | レジスト塗布現像装置、および下層反射防止膜のエッジカット方法 | |
| JP2005085773A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH06288929A (ja) | ワーク表面の検査装置 | |
| JPH0345785B2 (ja) | ||
| JP2002310629A (ja) | 周面撮像装置及び周面検査装置 | |
| JP3326276B2 (ja) | 光学ディスクの保護コート膜検査方法及びそれを使用した検査装置 | |
| JP2002254010A (ja) | 接着剤塗布装置 | |
| JPH06174655A (ja) | 膜付きウエハの異物検出方法および異物検査装置 | |
| JP3442480B2 (ja) | ウェーハ剥離装置 | |
| JPH06260394A (ja) | 半導体基板の露光方法及び露光装置 | |
| US20050105142A1 (en) | Method of scanning and scanning apparatus | |
| JPS609885Y2 (ja) | バ−コ−ド読取装置 | |
| JP2007019354A (ja) | 基板のエッジリンス方法 | |
| US5011289A (en) | Method and an apparatus for checking an object for the presence of filling compound | |
| JP2000335062A (ja) | 印刷検査方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |