JPH05232726A - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
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- JPH05232726A JPH05232726A JP6914092A JP6914092A JPH05232726A JP H05232726 A JPH05232726 A JP H05232726A JP 6914092 A JP6914092 A JP 6914092A JP 6914092 A JP6914092 A JP 6914092A JP H05232726 A JPH05232726 A JP H05232726A
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- perylene compound
- perylene
- compound
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 単層型感光層でも、積層型感光層のいずれに
おいても、感度、耐久性に優れた電子写真感光体を提供
すること。 【構成】 感光層に電荷発生材料として650〜700
nmに光吸収特性を示す下記化1で示されるペリレン化
合物を必須成分として含有させる。 【化1】
おいても、感度、耐久性に優れた電子写真感光体を提供
すること。 【構成】 感光層に電荷発生材料として650〜700
nmに光吸収特性を示す下記化1で示されるペリレン化
合物を必須成分として含有させる。 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
更に詳しくは特定光吸収能を有する電荷発生材料を含有
させた電子写真感光体に関するものである。
更に詳しくは特定光吸収能を有する電荷発生材料を含有
させた電子写真感光体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子写真プロセスに用いられる感光体と
して、従来、セレン、セレン−テルル合金、砒化セレン
等の無機化合物が用いられてきた。これらの材料は、毒
性が強い、アモルファス状態で用いられるため取扱が面
倒であり、また数十μmの厚さに真空蒸着する必要があ
るためコストが高い等の欠点があった。これらの欠点を
改良するため、有機材料を用いた電子写真感光体(OP
C)の開発が積極的になされ、一部実用に供されるよう
になってきた。実用化されたOPCのほとんどは電荷発
生機能を有する層(CGL)と電荷輸送機能を有する層
(CTL)からなる積層型の構成である。CGLに用い
られる有機材料として報告されているものは、ジスア
ゾ、トリスアゾ等のアゾ化合物、フタロシアニン化合
物、ペリレン顔料等がある。ジスアゾ顔料として、Melz
らによりクロルダイアンブルーの例がPhotogr.Sci.,21,
2,73(1977)に示されている。また、太田によりトリフェ
ニルアミン骨格を有するトリスアゾ顔料が、Ricoh Tec
h.Rep.,8,14(1982)に示されている。フタロシアニンの
例として、Loutfyらによりインジウムクロルフタロシア
ニンの例がJ.Imag.Sci.,31,31(1987)示されている。ペ
リレン顔料を用いたOPCとしては、Schlosserらによ
りペリレンテトラカルボン酸ビスメチルイミドの例がAp
pl.Photogr.Sci.,4,118(1978)に示されている。
して、従来、セレン、セレン−テルル合金、砒化セレン
等の無機化合物が用いられてきた。これらの材料は、毒
性が強い、アモルファス状態で用いられるため取扱が面
倒であり、また数十μmの厚さに真空蒸着する必要があ
るためコストが高い等の欠点があった。これらの欠点を
改良するため、有機材料を用いた電子写真感光体(OP
C)の開発が積極的になされ、一部実用に供されるよう
になってきた。実用化されたOPCのほとんどは電荷発
生機能を有する層(CGL)と電荷輸送機能を有する層
(CTL)からなる積層型の構成である。CGLに用い
られる有機材料として報告されているものは、ジスア
ゾ、トリスアゾ等のアゾ化合物、フタロシアニン化合
物、ペリレン顔料等がある。ジスアゾ顔料として、Melz
らによりクロルダイアンブルーの例がPhotogr.Sci.,21,
2,73(1977)に示されている。また、太田によりトリフェ
ニルアミン骨格を有するトリスアゾ顔料が、Ricoh Tec
h.Rep.,8,14(1982)に示されている。フタロシアニンの
例として、Loutfyらによりインジウムクロルフタロシア
ニンの例がJ.Imag.Sci.,31,31(1987)示されている。ペ
リレン顔料を用いたOPCとしては、Schlosserらによ
りペリレンテトラカルボン酸ビスメチルイミドの例がAp
pl.Photogr.Sci.,4,118(1978)に示されている。
【0003】これらの材料を用いたCGLは、樹脂との
分散液を塗布したり真空蒸着することにより形成され
る。これらの製造法は通常、CGLの厚さが1μm以下
と薄いことから、上記無機化合物では達成が困難な低コ
ストに対応できるものである。しかしながら、上記CG
L化合物は、実用に供した場合、充分な感度と耐久性が
実現できる段階にはあるが、なお、分光感度域が偏って
いる、画像品質が良好でない等の欠点がある。また、感
度、耐久性も依然、更に高い性能が求められている。現
在これらの性能を満足するものとして、前述したアゾ顔
料が一般的に用いられている。しかし、CGLに用いら
れるアゾ顔料は有機溶剤に難溶で、顔料合成後の精製は
洗浄に限られており、純度の高い顔料の合成が容易に行
なえない欠点がある。この点で、ペリレン顔料の場合、
最終的な精製は洗浄以外にその昇華性を利用した方法が
可能であり、それらを組み合わせて純度の高い化合物が
容易に得られる利点を有している。周知のように電子写
真感光体の静電的特性は不純物に敏感であるため、この
様な精製方法の差は最終的な感光体のコストや特定の管
理等に大きな影響を与えることとなる。
分散液を塗布したり真空蒸着することにより形成され
る。これらの製造法は通常、CGLの厚さが1μm以下
と薄いことから、上記無機化合物では達成が困難な低コ
ストに対応できるものである。しかしながら、上記CG
L化合物は、実用に供した場合、充分な感度と耐久性が
実現できる段階にはあるが、なお、分光感度域が偏って
いる、画像品質が良好でない等の欠点がある。また、感
度、耐久性も依然、更に高い性能が求められている。現
在これらの性能を満足するものとして、前述したアゾ顔
料が一般的に用いられている。しかし、CGLに用いら
れるアゾ顔料は有機溶剤に難溶で、顔料合成後の精製は
洗浄に限られており、純度の高い顔料の合成が容易に行
なえない欠点がある。この点で、ペリレン顔料の場合、
最終的な精製は洗浄以外にその昇華性を利用した方法が
可能であり、それらを組み合わせて純度の高い化合物が
容易に得られる利点を有している。周知のように電子写
真感光体の静電的特性は不純物に敏感であるため、この
様な精製方法の差は最終的な感光体のコストや特定の管
理等に大きな影響を与えることとなる。
【0004】さらに、現在用いられている電子写真感光
体の構成は上述したごとく構成が単純な単層ではなく、
少なくともCGLとCTLからなる複層型であるため塗
布工程数が多く歩留まり、コストの点でも問題がある。
積層型で感度が優れたアゾ顔料を単層型へ適用すると、
大抵、帯電電位や感度の点で実用化が不可能な程度の欠
陥を露呈してしまう。これに対し、ペリレン顔料を単層
型に適用すると、その電子移動性が優れているゆえ、実
用化が可能な程度の静電特性が得られている。このよう
にペリレン顔料の電子写真感光体への適用はそもそも大
きな利点が潜在的に存在してはいるが、現在尚ペリレン
顔料を用いた電子写真感光体は少数に留まっているのが
現状である。それは単層構成よりCGLとCTLからな
る積層型の方が感度に優れ、また、アゾ顔料に比べ、ペ
リレン顔料の方がやや感度の点で劣っているためであ
る。さらに、従来知られているペリレン顔料化合物のほ
とんどは600nm以下の波長領域でのみ吸収を有して
いるため、複写機用の感光体に供せられるだけで、長波
長光源を用いるページプリンタには使用できず電子写真
用感光体材料としての適用範囲は、例えばアゾ顔料とく
らべ狭いものであった。従って広範なペリレン顔料化合
物の検討はいまだ充分ではなかった。
体の構成は上述したごとく構成が単純な単層ではなく、
少なくともCGLとCTLからなる複層型であるため塗
布工程数が多く歩留まり、コストの点でも問題がある。
積層型で感度が優れたアゾ顔料を単層型へ適用すると、
大抵、帯電電位や感度の点で実用化が不可能な程度の欠
陥を露呈してしまう。これに対し、ペリレン顔料を単層
型に適用すると、その電子移動性が優れているゆえ、実
用化が可能な程度の静電特性が得られている。このよう
にペリレン顔料の電子写真感光体への適用はそもそも大
きな利点が潜在的に存在してはいるが、現在尚ペリレン
顔料を用いた電子写真感光体は少数に留まっているのが
現状である。それは単層構成よりCGLとCTLからな
る積層型の方が感度に優れ、また、アゾ顔料に比べ、ペ
リレン顔料の方がやや感度の点で劣っているためであ
る。さらに、従来知られているペリレン顔料化合物のほ
とんどは600nm以下の波長領域でのみ吸収を有して
いるため、複写機用の感光体に供せられるだけで、長波
長光源を用いるページプリンタには使用できず電子写真
用感光体材料としての適用範囲は、例えばアゾ顔料とく
らべ狭いものであった。従って広範なペリレン顔料化合
物の検討はいまだ充分ではなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は単層型
感光層でも積層型感光層のいずれにおいても、感度、耐
久性に優れ、特にフルカラー複写機や赤色LED光線を
用いたページプリンターに好適な電子写真感光体を提供
することにある。
感光層でも積層型感光層のいずれにおいても、感度、耐
久性に優れ、特にフルカラー複写機や赤色LED光線を
用いたページプリンターに好適な電子写真感光体を提供
することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、特定の光吸収物性を有
するペリレン顔料を電荷発生材料に用いることにより目
的が達成されることを見いだし本発明に至った。すなわ
ち、本発明によれば、電荷発生材料として650〜70
0nmに光吸収を有する下記化1で示されるペリレン化
合物を含むことを特徴とする電子写真用感光体が提供さ
れる。
を解決すべく鋭意検討した結果、特定の光吸収物性を有
するペリレン顔料を電荷発生材料に用いることにより目
的が達成されることを見いだし本発明に至った。すなわ
ち、本発明によれば、電荷発生材料として650〜70
0nmに光吸収を有する下記化1で示されるペリレン化
合物を含むことを特徴とする電子写真用感光体が提供さ
れる。
【化1】 本発明の感光体は、感光層に電荷発生材料として650
〜700nmに光吸収特性を示す上記化1で示されるペ
リレン化合物を必須成分として含むものである。
〜700nmに光吸収特性を示す上記化1で示されるペ
リレン化合物を必須成分として含むものである。
【0007】本発明で用いる前記化1で示されるペリレ
ン化合物は図1に示される如く少なくとも2つの光吸収
の形態をとる。その1つは650〜700nmに吸収極
大を有するもので、CGMとして好適に用いられるもの
である。他の1つは500nmに吸収ピークを示し、6
00nm以上の波長領域では吸収が現れない。本発明者
らの検討の結果、前者は安定な結晶状態、後者は無定形
であり、前者により特に高い感度が得られることが判明
した。このように、本発明の感光体は分光感度域が70
0nmまで広がっているため、フルカラー複写機用や赤
色LEDを書き込み光に用いるページプリンタ用の感光
体として特に有効なものである。本発明で用いる前記化
1で示されるペリレン化合物のように700nmにまで
光吸収を有するペリレン化合物は極めて少なく、このこ
とは、感度の高さのみならず光吸収においても本発明に
係る電子写真感光体が特異的であることを示している。
ン化合物は図1に示される如く少なくとも2つの光吸収
の形態をとる。その1つは650〜700nmに吸収極
大を有するもので、CGMとして好適に用いられるもの
である。他の1つは500nmに吸収ピークを示し、6
00nm以上の波長領域では吸収が現れない。本発明者
らの検討の結果、前者は安定な結晶状態、後者は無定形
であり、前者により特に高い感度が得られることが判明
した。このように、本発明の感光体は分光感度域が70
0nmまで広がっているため、フルカラー複写機用や赤
色LEDを書き込み光に用いるページプリンタ用の感光
体として特に有効なものである。本発明で用いる前記化
1で示されるペリレン化合物のように700nmにまで
光吸収を有するペリレン化合物は極めて少なく、このこ
とは、感度の高さのみならず光吸収においても本発明に
係る電子写真感光体が特異的であることを示している。
【0008】本発明で用いるペリレン化合物のこの様な
吸収はGraserらによる報告(LiebigsAnn.chem.,1980,199
4)により、膜中でペリレン化合物分子が特別の分子配置
をとることで達成されたものと理解できる。即ち、隣接
する化合物分子のペリレン環の重なり度が50%を超え
て十分進展した分子配置がこの様な光吸収に関する性質
を示す。従って、本発明のCGMではこの様な分子配置
が達成されているものと推定される。Graserらは種々の
ペリレン顔料の光吸収について報告しているが、長波長
での吸収ピークはせいぜい620nmまでしか延びてい
ないので、改めて本化合物の吸収の特異さが認められ
る。周知のように、電子写真感光体に用いられるCGM
の光導電性は分子の配置状態で大きな変化を示す。従っ
て長波長に光吸収を示す前記ペリレン化合物の状態は、
その配置のために500nmの吸収を示すものに比べ優
れた光導電性を発現するものと考えられる。
吸収はGraserらによる報告(LiebigsAnn.chem.,1980,199
4)により、膜中でペリレン化合物分子が特別の分子配置
をとることで達成されたものと理解できる。即ち、隣接
する化合物分子のペリレン環の重なり度が50%を超え
て十分進展した分子配置がこの様な光吸収に関する性質
を示す。従って、本発明のCGMではこの様な分子配置
が達成されているものと推定される。Graserらは種々の
ペリレン顔料の光吸収について報告しているが、長波長
での吸収ピークはせいぜい620nmまでしか延びてい
ないので、改めて本化合物の吸収の特異さが認められ
る。周知のように、電子写真感光体に用いられるCGM
の光導電性は分子の配置状態で大きな変化を示す。従っ
て長波長に光吸収を示す前記ペリレン化合物の状態は、
その配置のために500nmの吸収を示すものに比べ優
れた光導電性を発現するものと考えられる。
【0009】本発明で用いるペリレン化合物はペリレン
テトラカルボン酸2無水物と3−クロロベンジルアミン
を反応させることにより合成される。合成物は通常の有
機溶媒に不溶であるため黒色を呈した固体として得られ
る。これを昇華法で精製すると析出部の温度により黒色
または赤色の固体が得られる。これらの固体は、次のよ
うな方法により、上述した良好な特性を示す光吸収の状
態へと完全に転移させることができる。 (1)昇華固体を有機溶媒中で撹拌する。 (2)昇華固体を100℃より高い温度で熱処理する。 (3)室温基体上に形成した蒸着膜を熱処理する。処理
温度は処理時間で異なるが30分以内で変化させるに
は、100℃以上が必要である。 (4)蒸着中の基体温度を60℃以上に保つ。 (5)室温基体上に形成した蒸着膜を有機溶媒蒸気雰囲
気にさらす。
テトラカルボン酸2無水物と3−クロロベンジルアミン
を反応させることにより合成される。合成物は通常の有
機溶媒に不溶であるため黒色を呈した固体として得られ
る。これを昇華法で精製すると析出部の温度により黒色
または赤色の固体が得られる。これらの固体は、次のよ
うな方法により、上述した良好な特性を示す光吸収の状
態へと完全に転移させることができる。 (1)昇華固体を有機溶媒中で撹拌する。 (2)昇華固体を100℃より高い温度で熱処理する。 (3)室温基体上に形成した蒸着膜を熱処理する。処理
温度は処理時間で異なるが30分以内で変化させるに
は、100℃以上が必要である。 (4)蒸着中の基体温度を60℃以上に保つ。 (5)室温基体上に形成した蒸着膜を有機溶媒蒸気雰囲
気にさらす。
【0010】これらの方法は単独でもまた、組み合わせ
ても使用できる。これらの方法は全て、固体における分
子の凝集状態を安定な結晶配列へと変化させる手段とし
て知られている。従って、処理前に化合物が準安定な配
列をしていてもこれらの方法で安定な分子配列へと変化
し、本発明の特定な光吸収能が達成できるものと考えら
れる。勿論、処理前に安定な配列をとっている場合には
これらの処理では分子配列は大きくは変化を被らないの
である。通常、室温基板上に本化合物を蒸着したり、あ
るいは、精製のために昇華処理を施した固体、酸ペース
ト法で作製した固体等は無定型であるか準安定な結晶状
態となる。これらのものでも上記方法で安定な結晶系へ
と変化する。
ても使用できる。これらの方法は全て、固体における分
子の凝集状態を安定な結晶配列へと変化させる手段とし
て知られている。従って、処理前に化合物が準安定な配
列をしていてもこれらの方法で安定な分子配列へと変化
し、本発明の特定な光吸収能が達成できるものと考えら
れる。勿論、処理前に安定な配列をとっている場合には
これらの処理では分子配列は大きくは変化を被らないの
である。通常、室温基板上に本化合物を蒸着したり、あ
るいは、精製のために昇華処理を施した固体、酸ペース
ト法で作製した固体等は無定型であるか準安定な結晶状
態となる。これらのものでも上記方法で安定な結晶系へ
と変化する。
【0011】(1)、(5)で用いられる有機溶媒とし
ては、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタ
ン、1,12−トリクロルエタン、モノクロルベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、N,N−ジメチ
ルホルムアミド等を挙げることができる。
ては、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタ
ン、1,12−トリクロルエタン、モノクロルベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、N,N−ジメチ
ルホルムアミド等を挙げることができる。
【0012】本化合物の良好な光導電性機能を十分に引
き出す感光体の構成として図2に示される単層型と図
3、図4に示される積層型が挙げられる。単層型感光体
においては正電荷輸送材料と電気絶縁性バインダととも
に用いられ、上記化合物がバインダ中に分散された形態
で用いられる。また、積層型感光体においては電荷発生
層(CGL)と正電荷または負電荷を輸送する層(CT
L)を有し、上記化合物はCGL中における電荷発生材
料として用いられる。これらの構成では必要に応じて導
電性基体と感光層の間に中間層、感光層の表面側に保護
層を設けることができる。
き出す感光体の構成として図2に示される単層型と図
3、図4に示される積層型が挙げられる。単層型感光体
においては正電荷輸送材料と電気絶縁性バインダととも
に用いられ、上記化合物がバインダ中に分散された形態
で用いられる。また、積層型感光体においては電荷発生
層(CGL)と正電荷または負電荷を輸送する層(CT
L)を有し、上記化合物はCGL中における電荷発生材
料として用いられる。これらの構成では必要に応じて導
電性基体と感光層の間に中間層、感光層の表面側に保護
層を設けることができる。
【0013】単層型感光体に前記ペリレン化合物を用い
た場合、感光層の厚さとして、5〜100μmが好まし
い。これより薄いと帯電性が低下し、また、厚いと感度
の低下をきたす。かかる単層型感光体では前記ペリレン
化合物は正電荷輸送材料とともに電気絶縁性バインダ中
に分散して用いられる。
た場合、感光層の厚さとして、5〜100μmが好まし
い。これより薄いと帯電性が低下し、また、厚いと感度
の低下をきたす。かかる単層型感光体では前記ペリレン
化合物は正電荷輸送材料とともに電気絶縁性バインダ中
に分散して用いられる。
【0014】正電荷輸送材料としては、ピラゾリン化合
物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、トリフェニル
メタン化合物、トリフェニルアミン化合物等の電子供与
性低分子有機半導体やポリ−N−ビニルカルバゾール、
ポリフェニルメチルシラン等の高分子半導体が挙げられ
る。高分子半導体を用いた場合は電気絶縁性バインダの
使用を省略することもできる。
物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、トリフェニル
メタン化合物、トリフェニルアミン化合物等の電子供与
性低分子有機半導体やポリ−N−ビニルカルバゾール、
ポリフェニルメチルシラン等の高分子半導体が挙げられ
る。高分子半導体を用いた場合は電気絶縁性バインダの
使用を省略することもできる。
【0015】電気絶縁性バインダとしては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ア
ルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹
脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、
重縮合型樹脂、並びにこれらの繰り返し単位のうち2つ
以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体樹脂を挙げることができる。
ン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ア
ルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹
脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、
重縮合型樹脂、並びにこれらの繰り返し単位のうち2つ
以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体樹脂を挙げることができる。
【0016】これらの組成としてCGMが0.5〜30
wt%、正電荷輸送材料が20〜70wt%、電気絶縁
正バインダが30〜80wt%が望ましい。電気絶縁性
バインダとして高分子半導体を用いる場合にはその組成
を90wt%以上にまで高めることができる。これらの
膜はボールミル等の方法で有機溶媒中にCGM粒子を分
散した液を所定の基体上に塗布することで作製される。
wt%、正電荷輸送材料が20〜70wt%、電気絶縁
正バインダが30〜80wt%が望ましい。電気絶縁性
バインダとして高分子半導体を用いる場合にはその組成
を90wt%以上にまで高めることができる。これらの
膜はボールミル等の方法で有機溶媒中にCGM粒子を分
散した液を所定の基体上に塗布することで作製される。
【0017】また、積層型感光体のCGLに前記ペリレ
ン化合物を用いた場合、CGLの厚さとして、50〜5
000nmが好ましい。これより薄いと光吸収度が減少
することで感度が低下する。また、厚いと帯電性の低
下、繰り返し疲労の増大を招く。CGLを溶液からの塗
布で作製する場合には、樹脂、前述した電子供与性低分
子有機半導体や後述する電子吸引性低分子有機半導体を
添加することができる。
ン化合物を用いた場合、CGLの厚さとして、50〜5
000nmが好ましい。これより薄いと光吸収度が減少
することで感度が低下する。また、厚いと帯電性の低
下、繰り返し疲労の増大を招く。CGLを溶液からの塗
布で作製する場合には、樹脂、前述した電子供与性低分
子有機半導体や後述する電子吸引性低分子有機半導体を
添加することができる。
【0018】本発明のCTLには、正孔あるいは電子輸
送能のある層を用いることができる。前者の例として、
前出の電子供与性低分子有機半導体をドープした層が挙
げられる。後者の例として、樹脂バインダ中にキノン化
合物、ニトリル化合物、ニトロ化合物等の電子吸引性低
分子有機半導体をドープした層が挙げられる。バインダ
樹脂として、前出の樹脂が挙げられる。低分子有機半導
体を用いる場合、電荷輸送物質の組成はCTL中で20
〜80wt%が適当である。
送能のある層を用いることができる。前者の例として、
前出の電子供与性低分子有機半導体をドープした層が挙
げられる。後者の例として、樹脂バインダ中にキノン化
合物、ニトリル化合物、ニトロ化合物等の電子吸引性低
分子有機半導体をドープした層が挙げられる。バインダ
樹脂として、前出の樹脂が挙げられる。低分子有機半導
体を用いる場合、電荷輸送物質の組成はCTL中で20
〜80wt%が適当である。
【0019】また、CTLの厚さは5〜50μm、特に
好ましくは5〜30μmである。CTLは、上記CTL
材料を有機溶媒中に溶解した溶液を、浸漬法やブレード
塗布法により形成される。本発明に用いられる導電性基
体には、アルミニウム、ニッケル、銅、ステンレス等の
金属板、金属ドラムまたは金属箔、アルミニウム、酸化
錫、ヨウ化銅の薄膜を塗布したプラスチックフィルムあ
るいはガラス等を用いることができる。
好ましくは5〜30μmである。CTLは、上記CTL
材料を有機溶媒中に溶解した溶液を、浸漬法やブレード
塗布法により形成される。本発明に用いられる導電性基
体には、アルミニウム、ニッケル、銅、ステンレス等の
金属板、金属ドラムまたは金属箔、アルミニウム、酸化
錫、ヨウ化銅の薄膜を塗布したプラスチックフィルムあ
るいはガラス等を用いることができる。
【0020】
【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、これ
により本発明の態様が限定されるものではない。
により本発明の態様が限定されるものではない。
【0021】実施例1 ペリレンテトラカルボン酸二無水物5gを水100gに
分散した後、3−クロロベンジルアミン10gを加えて
24時間撹拌した。反応液に希塩酸を加えて撹拌した後
濾過した。濾過物に対し、1%の熱KOH溶液による洗
浄を繰り返した後、水洗し、最後にテトラヒドロフラン
で洗浄した。溶媒を乾燥後、真空昇華により精製し、黒
色の粉末のペリレンテトラカルボン酸(3−クロロベン
ジルイミド)を得た。この粉末を真空蒸着し、室温に保
ったガラス板上に約200nmの膜を作製したところ図
1の(b)に示される吸収スペクトルを得た。本蒸着膜
をジクロルメタン蒸気中に暴露したところ図1の(a)
に示される吸収スペクトルに変化した。また、減圧下に
て200℃で10分間熱処理しても同様な図1の(c)
に示されるスペクトルが得られた。
分散した後、3−クロロベンジルアミン10gを加えて
24時間撹拌した。反応液に希塩酸を加えて撹拌した後
濾過した。濾過物に対し、1%の熱KOH溶液による洗
浄を繰り返した後、水洗し、最後にテトラヒドロフラン
で洗浄した。溶媒を乾燥後、真空昇華により精製し、黒
色の粉末のペリレンテトラカルボン酸(3−クロロベン
ジルイミド)を得た。この粉末を真空蒸着し、室温に保
ったガラス板上に約200nmの膜を作製したところ図
1の(b)に示される吸収スペクトルを得た。本蒸着膜
をジクロルメタン蒸気中に暴露したところ図1の(a)
に示される吸収スペクトルに変化した。また、減圧下に
て200℃で10分間熱処理しても同様な図1の(c)
に示されるスペクトルが得られた。
【0022】実施例2 実施例1で用いたペリレンテトラカルボン酸(3−クロ
ロベンジルイミド)0.1gをポリカーボネートZ溶液
6.25g(テトラヒドロフラン中に8wt%に溶解し
たもの)とともにボールミリングした後、下記のトリフ
ェニルアミン系化合物0.4gを加え、感光体の塗布液
を作製した。この液をアルミニウム基体上に塗布し加熱
乾燥して約15μmの単層型感光体を作製した。膜厚を
約5μmとした同様の膜を作製しその吸収を測定したと
ころ、600nm以上の波長領域では図1(a)と同様
なスペクトルであった。この感光体を川口電機社製静電
複写紙試験装置(SP−428)で半減露光量を測定し
たところ正帯電で3.4lux・s、負帯電で5.6l
ux・sの感度が得られた。また、同じ感光体を+50
0Vまで帯電し、その分光感度を測定したところ図5の
結果が得られ720nmまで感度が延びていることが判
明した。
ロベンジルイミド)0.1gをポリカーボネートZ溶液
6.25g(テトラヒドロフラン中に8wt%に溶解し
たもの)とともにボールミリングした後、下記のトリフ
ェニルアミン系化合物0.4gを加え、感光体の塗布液
を作製した。この液をアルミニウム基体上に塗布し加熱
乾燥して約15μmの単層型感光体を作製した。膜厚を
約5μmとした同様の膜を作製しその吸収を測定したと
ころ、600nm以上の波長領域では図1(a)と同様
なスペクトルであった。この感光体を川口電機社製静電
複写紙試験装置(SP−428)で半減露光量を測定し
たところ正帯電で3.4lux・s、負帯電で5.6l
ux・sの感度が得られた。また、同じ感光体を+50
0Vまで帯電し、その分光感度を測定したところ図5の
結果が得られ720nmまで感度が延びていることが判
明した。
【化2】
【0023】実施例3 アルミニウム基板上に実施例1と同様の感光層を約1μ
m塗布した。但しこの場合、ペリレン化合物/トリフェ
ニルアミン化合物/ポリカーボネートZの比を40/1
0/50とした。その上に該トリフェニルアミン化合物
とポリカーボネートZからなる約20μmのCTL(ト
リフェニアミン化合物とポリカーボネートの組成比1/
1重量比、塗布溶媒としてジクロルメタンを使用)を塗
布した。本感光体の負帯電における半減露光量を実施例
2と同様に測定したところ2.1lux・sであった。
m塗布した。但しこの場合、ペリレン化合物/トリフェ
ニルアミン化合物/ポリカーボネートZの比を40/1
0/50とした。その上に該トリフェニルアミン化合物
とポリカーボネートZからなる約20μmのCTL(ト
リフェニアミン化合物とポリカーボネートの組成比1/
1重量比、塗布溶媒としてジクロルメタンを使用)を塗
布した。本感光体の負帯電における半減露光量を実施例
2と同様に測定したところ2.1lux・sであった。
【0024】実施例4 室温アルミニウム基板上に実施例1で用いたペリレン化
合物を約3000nm蒸着した。その上に実施例2で用
いたトリフェニルアミン系化合物とポリカーボネートZ
からなる約20μmのCTL(トリフェニルアミン系化
合物とポリカーボネートの組成比を1/1重量比、塗布
溶媒としてジクロルメタンを使用)を塗布した。本感光
体の負帯電における半減露光量を実施例2と同様に測定
したところ、1.7lux・sであった。尚、CTLの
塗布によりCGLの吸収スペクトルは図1(a)と同様
なものに変化した。
合物を約3000nm蒸着した。その上に実施例2で用
いたトリフェニルアミン系化合物とポリカーボネートZ
からなる約20μmのCTL(トリフェニルアミン系化
合物とポリカーボネートの組成比を1/1重量比、塗布
溶媒としてジクロルメタンを使用)を塗布した。本感光
体の負帯電における半減露光量を実施例2と同様に測定
したところ、1.7lux・sであった。尚、CTLの
塗布によりCGLの吸収スペクトルは図1(a)と同様
なものに変化した。
【0025】実施例5、6 室温アルミニウム基板上に実施例2で用いたトリフェニ
ルアミン系化合物とポリカーボネートZからなる約20
μmのCTLを実施例4と同様に塗布した。その上に室
温にて実施例1で用いたのペリレン化合物を約3000
nm蒸着した。本感光体の正帯電における半減露光量を
実施例2と同様に測定したところ、16.5lux・s
であったが、トルエン蒸気にて処理した感光体では2.
4lux・sであった。また、140℃で1時間処理し
たものでは5.8lux・sであった。
ルアミン系化合物とポリカーボネートZからなる約20
μmのCTLを実施例4と同様に塗布した。その上に室
温にて実施例1で用いたのペリレン化合物を約3000
nm蒸着した。本感光体の正帯電における半減露光量を
実施例2と同様に測定したところ、16.5lux・s
であったが、トルエン蒸気にて処理した感光体では2.
4lux・sであった。また、140℃で1時間処理し
たものでは5.8lux・sであった。
【0026】実施例7 実施例5と同様に積層型感光体を作製した。但し、ペリ
レン化合物蒸着時の基板の温度を100℃とした。本感
光体の正帯電における半減露光量を実施例2と同様に測
定したところ、4.8lux・sであった。
レン化合物蒸着時の基板の温度を100℃とした。本感
光体の正帯電における半減露光量を実施例2と同様に測
定したところ、4.8lux・sであった。
【0028】
【発明の効果】本発明の感光体は電荷発生物質として6
50〜700nmに吸収極大を有するペリレンテトラカ
ルボン酸ビス(3−クロロベンジルイミド)を用いたこ
とから、高感度、特に長波長領域の感度に優れたもので
あり、また感光層が単層構成のものでもあるいは積層構
成のものでもその高感度性を消失しない実用的価値に優
れたものである。
50〜700nmに吸収極大を有するペリレンテトラカ
ルボン酸ビス(3−クロロベンジルイミド)を用いたこ
とから、高感度、特に長波長領域の感度に優れたもので
あり、また感光層が単層構成のものでもあるいは積層構
成のものでもその高感度性を消失しない実用的価値に優
れたものである。
【図1】本発明で用いるペリレン化合物の吸収スペクト
ル図。
ル図。
【図2】本発明に係る単層型感光体の模式断面図。
【図3】本発明に係る積層型感光体の模式断面図。
【図4】本発明に係る積層型感光体の模式断面図。
【図5】実施例2で得られた感光体の分光感度曲線。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 所司 正幸 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 下田 昌克 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内
Claims (3)
- 【請求項1】 電荷発生材料として650〜700nm
に光吸収を有する下記化1で示されるペリレン化合物を
含むことを特徴とする電子写真用感光体。 【化1】 - 【請求項2】 導電性基体上に必須成分として650〜
700nmに光吸収を有する上記構造式化1のペリレン
化合物、正電荷移動材料、電気絶縁性バインダを含むこ
とを特徴とする電子写真用感光体。 - 【請求項3】 導電性基体上に電荷発生層、電荷輸送層
が積層された積層型感光体において、電荷発生層に65
0〜700nmに光吸収を有する上記構造式化1のペリ
レン化合物を含むことを特徴とする電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6914092A JPH05232726A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6914092A JPH05232726A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05232726A true JPH05232726A (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=13394048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6914092A Pending JPH05232726A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05232726A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101426542B1 (ko) * | 2010-06-23 | 2014-08-06 | 서울대학교산학협력단 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
-
1992
- 1992-02-18 JP JP6914092A patent/JPH05232726A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101426542B1 (ko) * | 2010-06-23 | 2014-08-06 | 서울대학교산학협력단 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
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