JPH05232618A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JPH05232618A JPH05232618A JP3526992A JP3526992A JPH05232618A JP H05232618 A JPH05232618 A JP H05232618A JP 3526992 A JP3526992 A JP 3526992A JP 3526992 A JP3526992 A JP 3526992A JP H05232618 A JPH05232618 A JP H05232618A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 塗布液停滞性を改良し、感度の変動が少ない
ハロゲン化銀写真感光材料の提供。 【構成】 感光性ハロゲン化銀乳剤層に1以上の式
〔1〕の化合物及び式〔2a〕、〔2b〕、〔2d〕等
の化合物の少なくとも1つを含有し、式〔1〕の化合物
を乳剤粒子形成から化学熟成が終了し、20℃以下に冷却
される前に例えば35℃以上に添加してなるハロゲン化
銀写真感光材料。 (例:ベンゾトリアゾール) (例:R21=R23=H、R22=NH2) (例:R21=フェニル、R22=R23=H) (例:R21=CH3、R22=R23=H)
ハロゲン化銀写真感光材料の提供。 【構成】 感光性ハロゲン化銀乳剤層に1以上の式
〔1〕の化合物及び式〔2a〕、〔2b〕、〔2d〕等
の化合物の少なくとも1つを含有し、式〔1〕の化合物
を乳剤粒子形成から化学熟成が終了し、20℃以下に冷却
される前に例えば35℃以上に添加してなるハロゲン化
銀写真感光材料。 (例:ベンゾトリアゾール) (例:R21=R23=H、R22=NH2) (例:R21=フェニル、R22=R23=H) (例:R21=CH3、R22=R23=H)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、詳しくは塗布液の停滞保存性に優れたハロ
ゲン化銀写真感光材料に関する。
材料に関し、詳しくは塗布液の停滞保存性に優れたハロ
ゲン化銀写真感光材料に関する。
【0002】
【発明の背景】近時、ハロゲン化銀写真感光材料に対す
る要求は厳しく、印刷製版用感光材料においてはさらに
高感度、硬調化等の高品質化が強く望まれている。
る要求は厳しく、印刷製版用感光材料においてはさらに
高感度、硬調化等の高品質化が強く望まれている。
【0003】このため各種乳剤粒子調製法、添加剤等を
新たに開発したり、従来から知られている多種の添加剤
を各種組み合わせたり、あるいは使い方を変えること等
を検討し、従来予想することが出来なかったような顕著
な効果を齎すことができる場合がある。
新たに開発したり、従来から知られている多種の添加剤
を各種組み合わせたり、あるいは使い方を変えること等
を検討し、従来予想することが出来なかったような顕著
な効果を齎すことができる場合がある。
【0004】一方このような対策によって別の問題、例
えば保存性の劣化等が生ずる場合がある。このような例
として特開昭57-29041号や同58-207239号にはロジウム
塩の使用により硬調化したハロゲン化銀乳剤が、感度低
下、保存性の劣化等の問題があり、この対策の例が提案
されている。
えば保存性の劣化等が生ずる場合がある。このような例
として特開昭57-29041号や同58-207239号にはロジウム
塩の使用により硬調化したハロゲン化銀乳剤が、感度低
下、保存性の劣化等の問題があり、この対策の例が提案
されている。
【0005】しかしながら、これらの方法によっても、
尚保存性は充分ではなく、特に塗布液停滞性の劣化が起
こるという問題があることがわかった。
尚保存性は充分ではなく、特に塗布液停滞性の劣化が起
こるという問題があることがわかった。
【0006】
【発明の目的】上記のような問題に対し、本発明の目的
は塗布液停滞性を改良し、感度の変動が少ないハロゲン
化銀写真感光材料を提供することにある。
は塗布液停滞性を改良し、感度の変動が少ないハロゲン
化銀写真感光材料を提供することにある。
【0007】
【発明の構成】本発明の上記目的は、支持体上に少なく
とも1層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン
化銀写真感光材料において、該感光性ハロゲン化銀乳剤
層に下記一般式〔1〕で表される化合物の少なくとも1
つ、及び下記一般式〔2a〕、〔2b〕、〔2c〕、
〔2d〕及び〔2e〕で表される化合物の少なくとも1
つを含有し、かつ該一般式〔1〕の化合物を乳剤粒子形
成から化学熟成が終了し、20℃以下に冷却される前に添
加することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
り達成される。
とも1層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン
化銀写真感光材料において、該感光性ハロゲン化銀乳剤
層に下記一般式〔1〕で表される化合物の少なくとも1
つ、及び下記一般式〔2a〕、〔2b〕、〔2c〕、
〔2d〕及び〔2e〕で表される化合物の少なくとも1
つを含有し、かつ該一般式〔1〕の化合物を乳剤粒子形
成から化学熟成が終了し、20℃以下に冷却される前に添
加することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
り達成される。
【0008】尚、一般式〔1〕の化合物を添加する時の
乳剤液の温度が35℃以上であることが好ましい。
乳剤液の温度が35℃以上であることが好ましい。
【0009】
【化4】
【0010】〔式中、Y1及びY2は水素原子またはメ
ルカプト基を表し、R1は置換または未置換のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくは
アルコキシ基、または水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシカルボニル基、ア
ルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、ヒドロ
キシ基、メルカプト基またはスルホ基を表す。
ルカプト基を表し、R1は置換または未置換のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基もしくは
アルコキシ基、または水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシカルボニル基、ア
ルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、ヒドロ
キシ基、メルカプト基またはスルホ基を表す。
【0011】またAは窒素原子、炭素原子または酸素原
子を表し、Bは窒素原子または炭素原子を表す。Aが炭
素原子を表すときn2は2であり、Aが窒素原子を表す
ときはn2は1であり、Aが酸素原子を表すときはn2は
0である。
子を表し、Bは窒素原子または炭素原子を表す。Aが炭
素原子を表すときn2は2であり、Aが窒素原子を表す
ときはn2は1であり、Aが酸素原子を表すときはn2は
0である。
【0012】またBが炭素原子を表すときはn1は1で
あり、Bが窒素原子を表すときはn1は0である。〕
あり、Bが窒素原子を表すときはn1は0である。〕
【0013】
【化5】
【0014】〔式中R21、R22及びR23は炭素原子数1
〜12の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、置換もし
くは無置換のアミノ基、アリール基、水酸基、メルカプ
ト基、カルボキシル基もしくはその塩、又は水素原子を
表す。〕
〜12の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、置換もし
くは無置換のアミノ基、アリール基、水酸基、メルカプ
ト基、カルボキシル基もしくはその塩、又は水素原子を
表す。〕
【0015】
【化6】
【0016】〔式中、R24、R25及びR26は同じでも異
なっていてもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子、ア
ミノ基、置換アミノ基、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、シクロアルキル基、置換
シクロアルキル基、メルカプト基、置換メルカプト基又
は―CONHR27基(R27は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、置換アルキル基、アミノ基、置換アミノ基、シ
クロアルキル基、置換シクロアルキル基、アリール基又
は置換アリール基を表す。)を表し、R24とR25は結合
して環を形成してもよい。〕以下、本発明について具体
的に説明する。
なっていてもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子、ア
ミノ基、置換アミノ基、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、シクロアルキル基、置換
シクロアルキル基、メルカプト基、置換メルカプト基又
は―CONHR27基(R27は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、置換アルキル基、アミノ基、置換アミノ基、シ
クロアルキル基、置換シクロアルキル基、アリール基又
は置換アリール基を表す。)を表し、R24とR25は結合
して環を形成してもよい。〕以下、本発明について具体
的に説明する。
【0017】まず、以下に一般式〔1〕で表される化合
物の具体例を挙げる。
物の具体例を挙げる。
【0018】1−1 ベンゾトリアゾール 1−2 5-メチルベンゾトリアゾール 1−3 5-クロルベンゾトリアゾール 1−4 5-ニトロベンゾトリアゾール 1−5 5-エチルベンゾトリアゾール 1−6 ヒドロキシカルボニルベンゾトリアゾール 1−7 5-ヒドロキシベンゾトリアゾール 1−8 5-アミノベンゾトリアゾール 1−9 5-スルホベンゾトリアゾール 1−10 5-シアノベンゾトリアゾール 1−11 5-メトキシベンゾトリアゾール 1−12 5-エトキシベンゾトリアゾール 1−13 5-メルカプトベンゾトリアゾール 1−14 4,5-ジメチルトリアゾール 1−15 トリアゾール 1−16 4-フェニルトリアゾール 1−17 4-ヒドロキシカルボニルトリアゾール 1−18 ベンズイミダゾール 1−19 5-スルホベンズイミダゾール 1−20 5-メトキシベンズイミダゾール 1−21 5-クロロベンズイミダゾール 1−22 ピラゾール 1−23 イミダゾール 1−24 5-ニトロインダゾール 1−25 6-ニトロインダゾール 1−26 5-スルホインダゾール 1−27 5-スルホイミダゾール 1−28 5-メチルベンズインダゾール 1−29 2-メルカプトイミダゾール 1−30 ベンズオキサゾール 1−31 2-オルカプト-5-スルホベンズイミダゾール 1−32 2-メルカプトベンズオキサゾール 本発明の一般式〔1〕で表される化合物の添加量は適
時、適量使用するのが好ましいが、一般的には、ハロゲ
ン化銀1モル当り0.1〜1000mgが好ましく、10〜500mgの
範囲が特に好ましい。
時、適量使用するのが好ましいが、一般的には、ハロゲ
ン化銀1モル当り0.1〜1000mgが好ましく、10〜500mgの
範囲が特に好ましい。
【0019】一般式〔1〕で表される化合物を添加する
ことにより硬調化剤であるテトラゾリウム化合物を単独
で使用した時に認められる感光材料の長期保存性を改良
することができる。
ことにより硬調化剤であるテトラゾリウム化合物を単独
で使用した時に認められる感光材料の長期保存性を改良
することができる。
【0020】次に一般式〔2a〕については、式中、R
21,R22及びR23で表されるアルキル基としては、例え
ばメチル、エチル、プロピル、i-プロピル、s-ブチル、
t-ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル等の
各基が挙げられ、置換アルキル基としては、アラルキル
基(例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、1-
ナフチルメチル、3-フェニル-ブチル)、アルコキシアル
キル基(例えばメトキシメチル、2-メトキシエチル、3-
エトキシプロピル、4-メトキシブチル等)やクロロメチ
ル、ヒドロキシメチル、2-ヒドロキシプロピル、3-ヒド
ロキシブチル、カルボキシメチル、2-カルボキシエチ
ル、2-(メトキシカルボニル)エチル、アミノメチル、ジ
エチルアミノメチル、ベンゾイルアミノエチル等が挙げ
られる。
21,R22及びR23で表されるアルキル基としては、例え
ばメチル、エチル、プロピル、i-プロピル、s-ブチル、
t-ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル等の
各基が挙げられ、置換アルキル基としては、アラルキル
基(例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、1-
ナフチルメチル、3-フェニル-ブチル)、アルコキシアル
キル基(例えばメトキシメチル、2-メトキシエチル、3-
エトキシプロピル、4-メトキシブチル等)やクロロメチ
ル、ヒドロキシメチル、2-ヒドロキシプロピル、3-ヒド
ロキシブチル、カルボキシメチル、2-カルボキシエチ
ル、2-(メトキシカルボニル)エチル、アミノメチル、ジ
エチルアミノメチル、ベンゾイルアミノエチル等が挙げ
られる。
【0021】又アルケニル基としては、ビニル、アリ
ル、プロペニル等が挙げられる。
ル、プロペニル等が挙げられる。
【0022】又アリール基としては、例えばフェニル
基、1-ナフチル基等が挙げられ、置換アリール基として
は、例えばp-トリル、m-エチルフェニル、m-クメニル、
メシチル、2,3-キシリル、p-クロロフェニル、o-プロモ
フェニル、p-ヒドロキシフェニル、1-ヒドロキシ-2-ナ
フチル、m-メトキシフェニル、p-エトキシフェニル、p-
カルボニルフェニル、o-(メトキシカルボニル)フェニ
ル、m-(エトキシカルボニル)フェニル、4-カルボキシ-1
-ナフチル等の各基が挙げられる。
基、1-ナフチル基等が挙げられ、置換アリール基として
は、例えばp-トリル、m-エチルフェニル、m-クメニル、
メシチル、2,3-キシリル、p-クロロフェニル、o-プロモ
フェニル、p-ヒドロキシフェニル、1-ヒドロキシ-2-ナ
フチル、m-メトキシフェニル、p-エトキシフェニル、p-
カルボニルフェニル、o-(メトキシカルボニル)フェニ
ル、m-(エトキシカルボニル)フェニル、4-カルボキシ-1
-ナフチル等の各基が挙げられる。
【0023】アルコキシカルボニル基としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル等が挙げられる。
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル等が挙げられる。
【0024】置換アミノ基としては、ベンジルアミノ
基、メトキシフェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルア
ミノ基等が挙げられる。
基、メトキシフェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルア
ミノ基等が挙げられる。
【0025】アルコキシ基としては、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソブトキシ、フェノキシ、ベンジル
オキシ、アリルオキシ等が挙げられる。
シ、プロポキシ、イソブトキシ、フェノキシ、ベンジル
オキシ、アリルオキシ等が挙げられる。
【0026】前記一般式〔2a〕で示される代表的具体
例としては以下のものを挙げることができる。
例としては以下のものを挙げることができる。
【0027】
【化7】
【0028】
【化8】
【0029】
【化9】
【0030】本発明の〔2a〕で示される化合物の添加
量は感光材料の種類、ハロゲン化銀組成、化合物等によ
り一定ではないが、一般的には隣接ハロゲン化銀乳剤層
中のハロゲン化銀1モル当り0.1〜1000mgが好ましく、
1〜500mgの範囲が特に好ましい。
量は感光材料の種類、ハロゲン化銀組成、化合物等によ
り一定ではないが、一般的には隣接ハロゲン化銀乳剤層
中のハロゲン化銀1モル当り0.1〜1000mgが好ましく、
1〜500mgの範囲が特に好ましい。
【0031】次に一般式〔2b〕〜〔2e〕で表される
ヒドロキシテトラザインデン化合物について説明する。
ヒドロキシテトラザインデン化合物について説明する。
【0032】一般式〔2b〕〜〔2e〕において、R24
〜R27で表されるアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、i-プロピル、s-ブチル、t-ブチル、
ペンチル、ヘキシル、オクチル、2-ノルボニル等の各基
が挙げられ、置換アルキル基としては、アラルキル基
(例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、1-ナ
フチルメチル、3-フェニルブチル等)、アルコキシアル
キル基(例えばメトキシメチル、2-メトキシエチル、3-
エトキシプロピル、4-メトキシブチル等)やクロロメチ
ル、ヒドロキシメチル、3-ヒドロキシブチル、カルボキ
シメチル、2-カルボキシエチル、2-(メトキシカルボニ
ル)エチル、アミノメチル、ジエチルアミノメチル、ベ
ンゾイルアミノエチル等の他、上記一般式〔2a〕〜
〔2e〕で表される化合物から水素原子1個を除いた1
価の基で置換されたアルキル基等が挙げられる。
〜R27で表されるアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、i-プロピル、s-ブチル、t-ブチル、
ペンチル、ヘキシル、オクチル、2-ノルボニル等の各基
が挙げられ、置換アルキル基としては、アラルキル基
(例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、1-ナ
フチルメチル、3-フェニルブチル等)、アルコキシアル
キル基(例えばメトキシメチル、2-メトキシエチル、3-
エトキシプロピル、4-メトキシブチル等)やクロロメチ
ル、ヒドロキシメチル、3-ヒドロキシブチル、カルボキ
シメチル、2-カルボキシエチル、2-(メトキシカルボニ
ル)エチル、アミノメチル、ジエチルアミノメチル、ベ
ンゾイルアミノエチル等の他、上記一般式〔2a〕〜
〔2e〕で表される化合物から水素原子1個を除いた1
価の基で置換されたアルキル基等が挙げられる。
【0033】R24〜R27で表されるアリール基として
は、例えばフェニル基、1‐ナフチル基等が挙げられ、
置換アリール基としては、例えばp-トリル、m-エチルフ
ェニル、m-クメニル、メシチル、2,3-キシリル、p-クロ
ロフェニル、o-ブロモフェニル、p-ヒドロキシフェニ
ル、1-ヒドロキシ-2-ナフチル、m-メトキシフェニル、p
-エトキシフェニル、p-カルボキシフェニル、o-(メトキ
シカルボニル)フェニル、m-(エトキシカルボニル)フェ
ニル、4-カルボキシ-1-ナフチル等の各基が挙げられ
る。
は、例えばフェニル基、1‐ナフチル基等が挙げられ、
置換アリール基としては、例えばp-トリル、m-エチルフ
ェニル、m-クメニル、メシチル、2,3-キシリル、p-クロ
ロフェニル、o-ブロモフェニル、p-ヒドロキシフェニ
ル、1-ヒドロキシ-2-ナフチル、m-メトキシフェニル、p
-エトキシフェニル、p-カルボキシフェニル、o-(メトキ
シカルボニル)フェニル、m-(エトキシカルボニル)フェ
ニル、4-カルボキシ-1-ナフチル等の各基が挙げられ
る。
【0034】R24〜R27で表されるシクロアルキル基と
しては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル等の基が挙げられ、置換シクロアルキル基と
しては、例えばメチルシクロヘキシル基等が挙げられ
る。
しては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル等の基が挙げられ、置換シクロアルキル基と
しては、例えばメチルシクロヘキシル基等が挙げられ
る。
【0035】R24〜R27で表されるハロゲン原子として
は、例えば弗素、塩素、臭素、沃素等の原子、R1〜R4
で表される置換アミノ基としては、例えばブチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、アニリノ等の各基が挙げられる。
は、例えば弗素、塩素、臭素、沃素等の原子、R1〜R4
で表される置換アミノ基としては、例えばブチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、アニリノ等の各基が挙げられる。
【0036】R24〜R27で表される置換メルカプト基と
しては、例えばメチルチオ、エチルチオ、フェニルチオ
等の基が挙げられる。
しては、例えばメチルチオ、エチルチオ、フェニルチオ
等の基が挙げられる。
【0037】次に一般式〔2a〕、〔2b〕、〔2
c〕、〔2d〕又は〔2e〕で表される化合物(以下、
本発明のテトラザインデン化合物という)の代表的具体
例を示すが、これらに限定されるものではない。
c〕、〔2d〕又は〔2e〕で表される化合物(以下、
本発明のテトラザインデン化合物という)の代表的具体
例を示すが、これらに限定されるものではない。
【0038】
【化10】
【0039】
【化11】
【0040】
【化12】
【0041】
【化13】
【0042】
【化14】
【0043】本発明のテトラザインデン化合物の添加量
は、感光材料の種類、ハロゲン化銀組成、化合物等によ
り一定ではないが、一般的には隣接ハロゲン化銀乳剤層
中のハロゲン化銀1モル当たり1〜5000mgが好ましく、
10〜2000mgの範囲が特に好ましい。
は、感光材料の種類、ハロゲン化銀組成、化合物等によ
り一定ではないが、一般的には隣接ハロゲン化銀乳剤層
中のハロゲン化銀1モル当たり1〜5000mgが好ましく、
10〜2000mgの範囲が特に好ましい。
【0044】本発明においては、さらに下記一般式〔3
a〕又は〔3b〕で表される化合物を添加することが好
ましい
a〕又は〔3b〕で表される化合物を添加することが好
ましい
【0045】
【化15】
【0046】一般式〔3a〕及び〔3b〕においてR31
は水素原子または置換または非置換のアルキル基を表
す。R31がアルキル基を表すときアルキル基の好ましい
例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、ノニル基、デシル基など
が挙げられ、上記アルキル基は直鎖であっても分岐して
いても良い。また上記のアルキル基はの置換基としては
ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ
基、カルボキシ基、アルコキシ基(好ましくは炭素原子
が1ないし4個のアルコキシ基)又は1級、2級もしく
は3級アミン基などがある。しかし上記アルキル基のう
ちで溶解性や写真性能が優れる点で炭素原子が1ないし
5個の置換または非置換のアルキル基が好ましい。
は水素原子または置換または非置換のアルキル基を表
す。R31がアルキル基を表すときアルキル基の好ましい
例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、ノニル基、デシル基など
が挙げられ、上記アルキル基は直鎖であっても分岐して
いても良い。また上記のアルキル基はの置換基としては
ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子など)、ヒドロキシ
基、カルボキシ基、アルコキシ基(好ましくは炭素原子
が1ないし4個のアルコキシ基)又は1級、2級もしく
は3級アミン基などがある。しかし上記アルキル基のう
ちで溶解性や写真性能が優れる点で炭素原子が1ないし
5個の置換または非置換のアルキル基が好ましい。
【0047】次に一般式〔3a〕又は〔3b〕で表され
る化合物の具体例を示す。
る化合物の具体例を示す。
【0048】
【化16】
【0049】
【化17】
【0050】
【化18】
【0051】
【化19】
【0052】
【化20】
【0053】一般式〔3a〕で表される化合物は米国特
許第3440047号(1969年)に記載されているポリヒドロキ
シ-スピロ-ビス-インダンの合成法と類似の方法で容易
に製造することができるが、ポリヒドロキシ-スピロ-ビ
ス-インダンへの転移をできるだけ抑えポリヒドロキシ-
スピロ-ビス-クマロンを高収率で得るために反応温度を
できるだけ抑えることが重要であり、具体的には反応温
度を100℃以下にして行うことが好ましく、とりわけ80
℃以下で行うことが好ましい。
許第3440047号(1969年)に記載されているポリヒドロキ
シ-スピロ-ビス-インダンの合成法と類似の方法で容易
に製造することができるが、ポリヒドロキシ-スピロ-ビ
ス-インダンへの転移をできるだけ抑えポリヒドロキシ-
スピロ-ビス-クマロンを高収率で得るために反応温度を
できるだけ抑えることが重要であり、具体的には反応温
度を100℃以下にして行うことが好ましく、とりわけ80
℃以下で行うことが好ましい。
【0054】一般式〔3b〕で表される化合物の合成法
に関しては、ジャーナル・オブ・ケミカルソサイアティ
−1678〜1681頁(1934年)及び米国特許3440049号の記
載を参考にすることができる。一般式〔3a〕又は〔3
b〕で表される化合物はハロゲン化銀乳剤層又はその隣
接層、例えば保護層、下引層又は中間層に添加される。
に関しては、ジャーナル・オブ・ケミカルソサイアティ
−1678〜1681頁(1934年)及び米国特許3440049号の記
載を参考にすることができる。一般式〔3a〕又は〔3
b〕で表される化合物はハロゲン化銀乳剤層又はその隣
接層、例えば保護層、下引層又は中間層に添加される。
【0055】ハロゲン化銀乳剤層に添加する場合は、ハ
ロゲン化銀乳剤製造における脱塩工程以後の任意の時
期、具体的には化学熟成時、化学熟成終了後あるいは塗
布前に添加することができる。
ロゲン化銀乳剤製造における脱塩工程以後の任意の時
期、具体的には化学熟成時、化学熟成終了後あるいは塗
布前に添加することができる。
【0056】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
るハロゲン化銀乳剤については、業界公知の各種技術を
用いることができ、特に印刷製版用に用いられる乳剤技
術を使用することができる。例えば本発明の乳剤につい
てはテトラゾリウム化合物を用いることが好ましい。テ
トラゾリウム化合物については特開昭62-105134号一般
式〔I〕を用いることができ、同特許明細書第(3)〜
(4)頁記載の例示化合物1−1〜1−18等が使用でき
る。
るハロゲン化銀乳剤については、業界公知の各種技術を
用いることができ、特に印刷製版用に用いられる乳剤技
術を使用することができる。例えば本発明の乳剤につい
てはテトラゾリウム化合物を用いることが好ましい。テ
トラゾリウム化合物については特開昭62-105134号一般
式〔I〕を用いることができ、同特許明細書第(3)〜
(4)頁記載の例示化合物1−1〜1−18等が使用でき
る。
【0057】また一般的な添加剤や公知の硬調化剤及び
ハロゲン化銀粒子の製造方法、増感方法等については、
特に制限はなく、例えば特開昭63-230035、特願平1-266
640号等あるいはリサーチディスクロージャー第176巻It
em17643(1978年12月)及び同187巻Item18716(1979年11
月)に記載されている増感剤をはじめ各種添加剤を使用
することが出来る。
ハロゲン化銀粒子の製造方法、増感方法等については、
特に制限はなく、例えば特開昭63-230035、特願平1-266
640号等あるいはリサーチディスクロージャー第176巻It
em17643(1978年12月)及び同187巻Item18716(1979年11
月)に記載されている増感剤をはじめ各種添加剤を使用
することが出来る。
【0058】本発明においては、感光材料としての他の
物性である帯電防止のために、支持体に対しバッキング
側および/または乳剤層側に1層以上の帯電防止層を有
することができる。
物性である帯電防止のために、支持体に対しバッキング
側および/または乳剤層側に1層以上の帯電防止層を有
することができる。
【0059】この場合、帯電防止層を設けた側の表面比
抵抗は、25℃50%下で1.0×1011Ω以下であることが好
ましく、特に好ましくは8×1011Ω以下である。
抵抗は、25℃50%下で1.0×1011Ω以下であることが好
ましく、特に好ましくは8×1011Ω以下である。
【0060】上記帯電防止層は、水溶性導電性ポリマ
ー、疎水性ポリマー粒子及び硬化剤の反応物を含有する
帯電防止層あるいは金属酸化物を含む帯電防止層等が好
ましい。
ー、疎水性ポリマー粒子及び硬化剤の反応物を含有する
帯電防止層あるいは金属酸化物を含む帯電防止層等が好
ましい。
【0061】上記水溶性導電性ポリマーとしては、スル
ホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級
アンモニウム塩、カルボキシル基ポリエチレンオキシド
基から選ばれる少なくとも1つの導電性基を有するポリ
マーが挙げられる。これらの基のうちスルホン酸基、硫
酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好ましい。導電
性基は水溶性導電性ポリマー1分子当たり5重量%以上
を必要とする。
ホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級
アンモニウム塩、カルボキシル基ポリエチレンオキシド
基から選ばれる少なくとも1つの導電性基を有するポリ
マーが挙げられる。これらの基のうちスルホン酸基、硫
酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好ましい。導電
性基は水溶性導電性ポリマー1分子当たり5重量%以上
を必要とする。
【0062】また、水溶性の導電性ポリマー中にカルボ
キシル基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジ
リジン基、活性メチレン基、スルフィン酸基、アルデヒ
ド基、ビニルスルホン基等が含まれるが、これらのうち
カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ
基、アジリジン基、アルデヒド基が含まれていることが
好ましい。これらの基はポリマー1分子当たり5重量%
以上含まれていることが必要である。水溶性導電性ポリ
マーの数平均分子量は、3000〜100000であり、好ましく
は、3500〜50000である。
キシル基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジ
リジン基、活性メチレン基、スルフィン酸基、アルデヒ
ド基、ビニルスルホン基等が含まれるが、これらのうち
カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ
基、アジリジン基、アルデヒド基が含まれていることが
好ましい。これらの基はポリマー1分子当たり5重量%
以上含まれていることが必要である。水溶性導電性ポリ
マーの数平均分子量は、3000〜100000であり、好ましく
は、3500〜50000である。
【0063】また、上記金属酸化物としては、酸化ス
ズ、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ある
いは、これらの金属酸化物に金属リンや金属インジウム
をドーピングした物等が好ましく用いられる。これらの
金属酸化物の平均粒径は1μ〜0.01μが好ましい。
ズ、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ある
いは、これらの金属酸化物に金属リンや金属インジウム
をドーピングした物等が好ましく用いられる。これらの
金属酸化物の平均粒径は1μ〜0.01μが好ましい。
【0064】本発明に用いることができる支持体ならび
に下引層はハロゲン化銀写真感光材料に用いられる公知
のものを使用することができる。
に下引層はハロゲン化銀写真感光材料に用いられる公知
のものを使用することができる。
【0065】現像処理についても公知の技術特に印刷製
版用の技術が用いられる。
版用の技術が用いられる。
【0066】
【実施例】以下に本発明の実施例を具体的に示すが、本
発明がこの実施例に限定されるものではないことは言う
までもない。
発明がこの実施例に限定されるものではないことは言う
までもない。
【0067】実施例1 (ラテックスLxの合成)水40lにゼラチンを0.125Kg
および過硫酸アンモニウム0.05Kgを加えた液に液温50℃
で撹拌しつつ、窒素雰囲気下で(ア)エチルアクリレー
ト3.0Kg、(イ)スチレン3.0Kg、及び(ウ)メチルメタ
クリレート4.0Kg(エ)アクリルアミド-2-ンイルプロパ
ンスルホン酸0.8Kgの混合液を1時間かけて添加、その
後1.5時間撹拌後、ゼラチン1.25Kgと過硫酸アンモニウ
ム0.005Kgを加えて1.5時間撹拌、反応終了後更に1時間
水蒸気蒸留して残留モノマーを除去したのち、室温まで
冷却してから、アンモニアを用いてpHを6.0に調整し
た。得られたラテックス液は水で50.5Kgに仕上げた。
および過硫酸アンモニウム0.05Kgを加えた液に液温50℃
で撹拌しつつ、窒素雰囲気下で(ア)エチルアクリレー
ト3.0Kg、(イ)スチレン3.0Kg、及び(ウ)メチルメタ
クリレート4.0Kg(エ)アクリルアミド-2-ンイルプロパ
ンスルホン酸0.8Kgの混合液を1時間かけて添加、その
後1.5時間撹拌後、ゼラチン1.25Kgと過硫酸アンモニウ
ム0.005Kgを加えて1.5時間撹拌、反応終了後更に1時間
水蒸気蒸留して残留モノマーを除去したのち、室温まで
冷却してから、アンモニアを用いてpHを6.0に調整し
た。得られたラテックス液は水で50.5Kgに仕上げた。
【0068】以上のようにして平均粒径0.10μm、Tg
約35℃の単分散なラテックスLxを得た。
約35℃の単分散なラテックスLxを得た。
【0069】(乳剤調製)硫酸銀溶液と、塩化ナトリウ
ム及び臭化カリウム水溶液に6塩化ロジウム錯体を8×
10-5mol/Agmolとなるように加えた溶液を、ゼラチン溶
液中に一定流量で同時添加し、脱塩後、粒径0.13μ、臭
化銀2モル%を含む立方晶、単分散度13の塩臭化銀乳剤
を得た。
ム及び臭化カリウム水溶液に6塩化ロジウム錯体を8×
10-5mol/Agmolとなるように加えた溶液を、ゼラチン溶
液中に一定流量で同時添加し、脱塩後、粒径0.13μ、臭
化銀2モル%を含む立方晶、単分散度13の塩臭化銀乳剤
を得た。
【0070】この乳剤を通常の方法で硫黄増感した後、
冷却セットした。ただし、表1に示す添加剤を示した添
加位置にて添加した。その後セットした乳剤を溶解し、
下記の添加剤を加えて乳剤塗布液E-1〜14を調整し、
ついで乳剤保護層塗布液P-0、バッキング層塗布液B-
0、バッキング保護層塗布液BP-0を下記組成にて調
製した。
冷却セットした。ただし、表1に示す添加剤を示した添
加位置にて添加した。その後セットした乳剤を溶解し、
下記の添加剤を加えて乳剤塗布液E-1〜14を調整し、
ついで乳剤保護層塗布液P-0、バッキング層塗布液B-
0、バッキング保護層塗布液BP-0を下記組成にて調
製した。
【0071】 (乳剤塗布液E-1〜14の調製) 化合物(a) 1mg/m2 NaOH(0.5N) pH6.0に調整 KBr 5mg/m2 化合物(b) 40mg/m2 サポニン(20%) 0.5cc/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 20mg/m2 5-メチルベンゾトリアゾール 10mg/m2 化合物(d) 2mg/m2 化合物(e) 10mg/m2 ラテックスLx 1.0g/m2 スチレン-マイレン酸共重合性ポリマー(増粘剤) 90mg/m2 ゼラチン 1.2g/m2 一般式〔1〕の化合物 表1に示す量 一般式〔2〕の化合物 表1に示す量 一般式〔3〕の化合物 表1に示す量
【0072】
【化21】
【0073】 (乳剤保護層塗布液P−0) ゼラチン 1.1g/m2 化合物(g)(1%) 25cc/m2 化合物(h) 180mg/m2 シリカ(8μ) 20mg/m2 〃 (3μ) 10mg/m2 化合物(i) 100mg/m2 クエン酸 pH6.0に調整 (バッキング層塗布液B-0) ゼラチン 1.5g/m2 化合物(j) 70mg/m2 化合物(k) 10mg/m2 化合物(l) 200mg/m2 化合物(h) 50mg/m2 サポニン(20%) 0.6cc/m2 ラテックス(m) 300mg/m2 化合物(o) 10mg/m2 5-ニトロインダゾール 20mg/m2 スチレン-マレイン酸 共重合水性ポリマー(増粘剤) 45mg/m2 グリオキザール 4mg/m2 (バッキング保護層塗布液BP-0) ゼラチン 1.1g/m2 化合物(g)(1%) 2cc/m2 球状ポリメチルメタクリレート(4μ) 25mg/m2 塩化ナトリウム 70mg/m2 グリオキザール 22mg/m2 化合物(n) 10mg/m2
【0074】
【化22】
【0075】
【化23】
【0076】
【化24】
【0077】以上の様に調製した各塗布液を、特開昭5
9−19941に示す下引きを施した厚さ100μのポリ
エチレンテレフタレートベース上に、10W/(m2・min)
でコロナ放電をかけた後、下記組成にてロールフィット
コーティングパン、およびエアーナイフを使用して塗布
した。尚、乾燥は90℃、総括伝熱係数25Kcal(m2・hr・℃)
の平行流乾燥条件で30"間行い、続いて140℃90秒で行っ
た。乾燥後のこの層の膜厚は1μ、この層の表面比抵抗
は23℃55%で1×108Ωであった。
9−19941に示す下引きを施した厚さ100μのポリ
エチレンテレフタレートベース上に、10W/(m2・min)
でコロナ放電をかけた後、下記組成にてロールフィット
コーティングパン、およびエアーナイフを使用して塗布
した。尚、乾燥は90℃、総括伝熱係数25Kcal(m2・hr・℃)
の平行流乾燥条件で30"間行い、続いて140℃90秒で行っ
た。乾燥後のこの層の膜厚は1μ、この層の表面比抵抗
は23℃55%で1×108Ωであった。
【0078】
【化25】
【0079】 硫酸アンモニウム 0.5g/l ポリエチレンオキサイド化合物(平均分子量600) 6g/l 硬化剤 12g/l
【0080】
【化26】
【0081】このベース上にまず乳剤面側として支持体
に近い側より乳剤層、乳剤保護層の順に、35℃に保ち
ながらスライドホッパー方式により硬膜剤液を加えなが
ら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)を通過さ
せた後、バッキング層及びバッキング保護層をやはりス
ライドホッパーにて硬膜剤を加えながら塗布し、冷風セ
ット(5℃)した。各々のセットゾーンを通過した時点
では、塗布液は、充分なセット性を示した。引き続き乾
燥ゾーンにて両面を同時に下記乾燥条件にて乾燥した。
尚、乳剤面、バッキング面両側を塗布した後は巻取りま
ではローラー、その他には一切無接触の状態で搬送し
た。このとき塗布速度は、100m/minであった。
に近い側より乳剤層、乳剤保護層の順に、35℃に保ち
ながらスライドホッパー方式により硬膜剤液を加えなが
ら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)を通過さ
せた後、バッキング層及びバッキング保護層をやはりス
ライドホッパーにて硬膜剤を加えながら塗布し、冷風セ
ット(5℃)した。各々のセットゾーンを通過した時点
では、塗布液は、充分なセット性を示した。引き続き乾
燥ゾーンにて両面を同時に下記乾燥条件にて乾燥した。
尚、乳剤面、バッキング面両側を塗布した後は巻取りま
ではローラー、その他には一切無接触の状態で搬送し
た。このとき塗布速度は、100m/minであった。
【0082】(乾燥条件)セット後H2O/ゼラチンの重
量比が800%となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、800〜20
0%を35℃(30%)の乾燥風で乾燥させ、そのまま風をあ
て、表面温度34℃となった時点(乾燥終了とみなす)よ
り30秒後に48℃3%RHの空気で1分乾燥した。このと
き、乾燥時間は乾燥開始〜H2O/Gel比800%までが50
秒、800%〜200%までが35秒、200%〜乾燥終了までが
5秒である。
量比が800%となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、800〜20
0%を35℃(30%)の乾燥風で乾燥させ、そのまま風をあ
て、表面温度34℃となった時点(乾燥終了とみなす)よ
り30秒後に48℃3%RHの空気で1分乾燥した。このと
き、乾燥時間は乾燥開始〜H2O/Gel比800%までが50
秒、800%〜200%までが35秒、200%〜乾燥終了までが
5秒である。
【0083】この感材を23℃40%RHで巻取り、ついで同
環境下で断裁し、同環境下で3時間調湿したバリアー袋
に、(40℃10%RHで8時間調湿した後23℃40%RHに2時
間調湿してある)厚紙と共に密封した。
環境下で断裁し、同環境下で3時間調湿したバリアー袋
に、(40℃10%RHで8時間調湿した後23℃40%RHに2時
間調湿してある)厚紙と共に密封した。
【0084】以上の様にして作製した感材において塗布
銀量は、3.5g/m2であった。
銀量は、3.5g/m2であった。
【0085】以上の様にして各塗布液の停滞時間が1時
間と10時間の時とで塗布液停滞性評価用試料を作成し
た。又、保存性テスト用として1時間停滞した試料をバ
リヤー袋に密封したまま40℃、10日間処理し、未処理の
ものと明室プリンターp-627FM(大日本スクリーン
〔株〕製)を用いてウェッジを通して露光し下記処理条
件で処理し、相対により停滞性・保存性感度を評価し
た。
間と10時間の時とで塗布液停滞性評価用試料を作成し
た。又、保存性テスト用として1時間停滞した試料をバ
リヤー袋に密封したまま40℃、10日間処理し、未処理の
ものと明室プリンターp-627FM(大日本スクリーン
〔株〕製)を用いてウェッジを通して露光し下記処理条
件で処理し、相対により停滞性・保存性感度を評価し
た。
【0086】(標準処理条件) 現像 28℃ 30秒 定着 28℃ 20秒 水洗 常温 15秒 乾燥 40℃ 35秒 〔現像液処方〕 (組成A) 純水(イオン交換水) 150ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2g ジエチレングリコール 50g 亜硫酸カリウム(55%W/V水溶液) 100ml 炭酸カリウム 50g ハイドロキノン 15g 5-メチルベンゾトリアゾール 200mg 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 30mg 水酸化カリウム 使用液のpHを10.9にする量 臭化カリウム 4.5g (組成B) 純水(イオン交換水) 3ml ジエチレングリコール 50mg エチレンジアミン四酸酸二ナトリウム塩 25mg 硫酸(90%水溶液) 0.3ml 5-ニトロインダゾール 110mg 1-フェニル-3-ピラゾリドン 500mg 現像液の使用時に水500ml中に上記組成物A、組成物B
の順に溶かし、1リットルに仕上げて用いた。
の順に溶かし、1リットルに仕上げて用いた。
【0087】 〔定着液処方〕 (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72.5%W/V水溶液) 230ml 亜硫酸ナトリウム 6.0g 酢酸ナトリウム・3水塩 28.0g ほう酸 9.9g クエン酸ナトリウム・2水塩 2g 酢酸(90%W/W水溶液) 6.5ml (組成B) 純水(イオン交換水) 17ml 硫酸(50%W/V水溶液) 6.8g 硫酸アルミニウム (Al2O3換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 26.5g 定着液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成B
の順に溶かし、1リットルに仕上げて用いた。この定着
液pHは約4.4であった。
の順に溶かし、1リットルに仕上げて用いた。この定着
液pHは約4.4であった。
【0088】結果を表1に示した。
【0089】
【表1】
【0090】表1の結果から本発明の試料は塗布液停滞
性ならびに保存性に優れていることがわかる。
性ならびに保存性に優れていることがわかる。
【0091】
【発明の効果】本発明により塗布液停滞性に優れ、感度
の変動が少ない保存性の良好なハロゲン化銀写真感光材
料を提供することができた。
の変動が少ない保存性の良好なハロゲン化銀写真感光材
料を提供することができた。
Claims (2)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層の感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、該感光性ハロゲン化銀乳剤層に下記一般式〔1〕
で表される化合物の少なくとも1つ、及び下記一般式
〔2a〕、〔2b〕、〔2c〕、〔2d〕及び〔2e〕
で表される化合物の少なくとも1つを含有し、かつ該一
般式〔1〕の化合物を乳剤粒子形成から化学熟成が終了
し、20℃以下に冷却される前に添加することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 〔式中、Y1及びY2は水素原子またはメルカプト基を
表し、R1は置換または未置換のアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アリール基もしくはアルコキシ
基、または水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ
基、シアノ基、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルカルボニル基、ヒドロキシ基、メ
ルカプト基またはスルホ基を表す。またAは窒素原子、
炭素原子または酸素原子を表し、Bは窒素原子または炭
素原子を表す。Aが炭素原子を表すときn2は2であ
り、Aが窒素原子を表すときはn2は1であり、Aが酸
素原子を表すときはn2は0である。またBが炭素原子
を表すときはn1は1であり、Bが窒素原子を表すとき
はn1は0である。〕 【化2】 〔式中R21、R22及びR23は炭素原子数1〜12の置換も
しくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のア
ミノ基、アリール基、水酸基、メルカプト基、カルボキ
シル基もしくはその塩、又は水素原子を表す。〕 【化3】 〔式中、R24、R25及びR26は同じでも異なっていても
よく、各々、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、置換
アミノ基、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、シクロアルキル基、置換シクロアルキ
ル基、メルカプト基、置換メルカプト基又は―CONHR27
基(R27は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換
アルキル基、アミノ基、置換アミノ基、シクロアルキル
基、置換シクロアルキル基、アリール基又は置換アリー
ル基を表す。)を表し、R24とR25は結合して環を形成
してもよい。〕 - 【請求項2】 一般式〔1〕の化合物を添加する時の乳
剤液の温度が35℃以上であることを特徴とする請求項1
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3526992A JPH05232618A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3526992A JPH05232618A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05232618A true JPH05232618A (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=12437078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3526992A Pending JPH05232618A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05232618A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6319660B1 (en) | 1998-12-28 | 2001-11-20 | Eastman Kodak Company | Color photographic element containing speed improving compound |
US7683060B2 (en) | 2006-08-07 | 2010-03-23 | Incyte Corporation | Triazolotriazines as kinase inhibitors |
US7767675B2 (en) | 2006-11-22 | 2010-08-03 | Incyte Corporation | Imidazotriazines and imidazopyrimidines as kinase inhibitors |
US8343977B2 (en) | 2009-12-30 | 2013-01-01 | Arqule, Inc. | Substituted triazolo-pyrimidine compounds |
US8420645B2 (en) | 2008-05-21 | 2013-04-16 | Incyte Corporation | Salts of 2-fluoro-N-methyl-4-[7-(quinolin-6-yl-methyl)-imidazo[1,2-b][1,2,4]triazin-2-yl]benzamide and processes related to preparing the same |
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-
1992
- 1992-02-21 JP JP3526992A patent/JPH05232618A/ja active Pending
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