JPH052294Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH052294Y2 JPH052294Y2 JP1985024882U JP2488285U JPH052294Y2 JP H052294 Y2 JPH052294 Y2 JP H052294Y2 JP 1985024882 U JP1985024882 U JP 1985024882U JP 2488285 U JP2488285 U JP 2488285U JP H052294 Y2 JPH052294 Y2 JP H052294Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grinding fluid
- base
- wrapping wheel
- segment
- polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 15
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は、墓石や建材等の石材の研磨加工に使
用するラツピングホイールに関する。詳細には、
研磨加工中に供給される研削液の飛散を防止する
ラツピングホイールに関する。
用するラツピングホイールに関する。詳細には、
研磨加工中に供給される研削液の飛散を防止する
ラツピングホイールに関する。
従来の技術
墓石や建材等の石材の研磨加工は、ラツピング
ホイールを石材の表面に50〜150Kgの力で押し付
け、300〜700rpmで回転させながら石材の表面に
沿つて移動させることによつて行われている。
ホイールを石材の表面に50〜150Kgの力で押し付
け、300〜700rpmで回転させながら石材の表面に
沿つて移動させることによつて行われている。
ところで、研磨加工中、ラツピングホイールに
発生する熱による切刃部の異常摩耗や脱落を防止
するために、切刃部の冷却、石材の切粉や切刃部
の摩耗屑等の除去等を円滑に行うことが必要とさ
れ、円板状の基台の下面に複数のセグメントを設
け、中心部に研削液を供給する研削液供給孔を設
けたラツピングホイールが一般に使用されてい
る。
発生する熱による切刃部の異常摩耗や脱落を防止
するために、切刃部の冷却、石材の切粉や切刃部
の摩耗屑等の除去等を円滑に行うことが必要とさ
れ、円板状の基台の下面に複数のセグメントを設
け、中心部に研削液を供給する研削液供給孔を設
けたラツピングホイールが一般に使用されてい
る。
このラツピングホイールによれば、研削液がラ
ツピングホイールの回転による遠心力で中心部か
ら外周方向に流れるため、切刃部の冷却、切粉等
の除去等を円滑に行うことができるが、その反
面、研削液を遠心力で外部に飛散し、機械、作業
者、機械の周辺部を研削液で汚染するという問題
点があつた。そこで、研磨機の全体を枠で囲つた
り、ラツピングホイールと機械との間に水じやま
板を設けることにより対処しているが、作業性が
悪い、汚染防止が充分でない等の問題があり、実
用上充分とはいい難い状況である。
ツピングホイールの回転による遠心力で中心部か
ら外周方向に流れるため、切刃部の冷却、切粉等
の除去等を円滑に行うことができるが、その反
面、研削液を遠心力で外部に飛散し、機械、作業
者、機械の周辺部を研削液で汚染するという問題
点があつた。そこで、研磨機の全体を枠で囲つた
り、ラツピングホイールと機械との間に水じやま
板を設けることにより対処しているが、作業性が
悪い、汚染防止が充分でない等の問題があり、実
用上充分とはいい難い状況である。
考案の目的
本考案者は、上記従来の状況に鑑み鋭意研究し
た結果、弾性板材からなる円筒状の水じやま板を
ラツピングホイールに設けることにより、研削液
のラツピングホイールからの飛散を抑制すること
ができ、しかも研磨作業に支障を生じないように
することができる、ということが明らかになつ
た。
た結果、弾性板材からなる円筒状の水じやま板を
ラツピングホイールに設けることにより、研削液
のラツピングホイールからの飛散を抑制すること
ができ、しかも研磨作業に支障を生じないように
することができる、ということが明らかになつ
た。
本考案は、上記知見に基づいてなされたもの
で、その目的は、研磨加工中における研削液の飛
散を抑制し、機械、作業者、機械の周辺部等の汚
染を防止し得るラツピングホイールを提供するこ
とにある。
で、その目的は、研磨加工中における研削液の飛
散を抑制し、機械、作業者、機械の周辺部等の汚
染を防止し得るラツピングホイールを提供するこ
とにある。
考案の構成
上記目的を達成するために、本考案では、円板
状の基台の下面に複数のセグメントを設け、基台
の中心部に研削液を供給する研削液供給孔を設
け、被加工物の表面に沿つて移動して研摩するラ
ツピングホイールにおいて、下部先端側が外方に
拡開した弾性板材からなる円筒状体である水じや
ま板を基台の外周部にセグメントを囲みかつセグ
メントより下方に突出して設けてなつている。
状の基台の下面に複数のセグメントを設け、基台
の中心部に研削液を供給する研削液供給孔を設
け、被加工物の表面に沿つて移動して研摩するラ
ツピングホイールにおいて、下部先端側が外方に
拡開した弾性板材からなる円筒状体である水じや
ま板を基台の外周部にセグメントを囲みかつセグ
メントより下方に突出して設けてなつている。
実施例
本考案の実施例を図により詳細に説明する。
図に示すラツピングホイール1は、石材の表面
を研磨する研磨機に使用するもので、フエノール
樹脂等からなる円板状の基台2を備えている。こ
の基台2の上面には、研磨機のスピンドルのフラ
ンジ3にボルト等により連結する取付部材4が設
けられている。
を研磨する研磨機に使用するもので、フエノール
樹脂等からなる円板状の基台2を備えている。こ
の基台2の上面には、研磨機のスピンドルのフラ
ンジ3にボルト等により連結する取付部材4が設
けられている。
基台2の中心部には、図2及び図3に示すよう
に、研削液を供給する研削液供給孔5が設けら
れ、研磨加工時に研削液が基台2の回転による遠
心力で中心部から外周部に流れ、後述するセグメ
ント6等の切刃部を冷却するとともに、切粉等を
排出するようになつている。
に、研削液を供給する研削液供給孔5が設けら
れ、研磨加工時に研削液が基台2の回転による遠
心力で中心部から外周部に流れ、後述するセグメ
ント6等の切刃部を冷却するとともに、切粉等を
排出するようになつている。
基台2の下面には、図3に示すように、セグメ
ント6が内周の3個所と外周の9個所に同心状に
設けられている。各セグメント6は、図2に示す
ように、基台2に設けられた下層部7にボンド等
により接着して固定されている。また、基台2の
下面の外周部には、ビニール材、ゴム材等の弾性
板材からなる円筒状の水じやま板8がセグメント
6よりも下方に突出して設けられている。
ント6が内周の3個所と外周の9個所に同心状に
設けられている。各セグメント6は、図2に示す
ように、基台2に設けられた下層部7にボンド等
により接着して固定されている。また、基台2の
下面の外周部には、ビニール材、ゴム材等の弾性
板材からなる円筒状の水じやま板8がセグメント
6よりも下方に突出して設けられている。
この水じやま板6は、下部先端側が外方に拡開
した円筒状で、基台2の下面に垂直な面とのなす
角度が3〜15度、好ましくは5〜10度に設定され
ており、研磨加工時に石材の表面に弾性的に摺接
する時に下部先端側が外方に開き易くなつてい
る。また、水じやま板8には、下部先端から上方
に延びる切目9が円周方向の複数個所、例えば3
個所に設けられており、各切目9が外周部のセグ
メント6の後方になるように設けられている。な
お、水じやま板8の外方には、各切目9を覆うよ
うに水じやま板小片を設けてもよく、各切目9が
開いた場合にも研削液の漏れを抑制できる。
した円筒状で、基台2の下面に垂直な面とのなす
角度が3〜15度、好ましくは5〜10度に設定され
ており、研磨加工時に石材の表面に弾性的に摺接
する時に下部先端側が外方に開き易くなつてい
る。また、水じやま板8には、下部先端から上方
に延びる切目9が円周方向の複数個所、例えば3
個所に設けられており、各切目9が外周部のセグ
メント6の後方になるように設けられている。な
お、水じやま板8の外方には、各切目9を覆うよ
うに水じやま板小片を設けてもよく、各切目9が
開いた場合にも研削液の漏れを抑制できる。
本実施例は上記のように構成されており、その
作用を次に説明する。石材の研磨加工時には、ラ
ツピングホイールの基台2を研磨機のスピンドル
のフランジ4に取り付け、50〜150Kgの力で石材
の表面に押圧し、研削液を研削液供給孔5から供
給しながら300〜700rpmで回転し、石材の表面に
沿つて移動する。その際、水じやま板8がセグメ
ント6よりも下方に突出しているため、石材の表
面に弾性的に摺接しラツピングホイール1の内部
と外部とを遮断する。これにより、ラツピングホ
イール1の回転による遠心力で外周方向に流れる
研削液は、水じやま板8で阻止されラツピングホ
イール1の内部に保持される。そして、この保持
された研削液は、ラツピングホイール1か石材の
表面に沿つて移動し端縁部を通過する時に外部に
落下し排除され、また同時に切粉等も排除され
る。従つて、研磨加工中、研削液を飛散させるこ
となく円滑に研磨加工することができる。
作用を次に説明する。石材の研磨加工時には、ラ
ツピングホイールの基台2を研磨機のスピンドル
のフランジ4に取り付け、50〜150Kgの力で石材
の表面に押圧し、研削液を研削液供給孔5から供
給しながら300〜700rpmで回転し、石材の表面に
沿つて移動する。その際、水じやま板8がセグメ
ント6よりも下方に突出しているため、石材の表
面に弾性的に摺接しラツピングホイール1の内部
と外部とを遮断する。これにより、ラツピングホ
イール1の回転による遠心力で外周方向に流れる
研削液は、水じやま板8で阻止されラツピングホ
イール1の内部に保持される。そして、この保持
された研削液は、ラツピングホイール1か石材の
表面に沿つて移動し端縁部を通過する時に外部に
落下し排除され、また同時に切粉等も排除され
る。従つて、研磨加工中、研削液を飛散させるこ
となく円滑に研磨加工することができる。
次に、セグメント6が磨耗し高さが低くなつた
場合においては、水じやま板8の下部先端側が大
きく外方に拡開し、下部先端側が外方に曲がつた
状態で石材の表面に摺接し、ラツピングホイール
1の内部と外部とを遮断する。従つて、研磨加工
中において、水じやま板8の下部先端側が内方に
曲げられてセグメント6と石材の表面との間には
さまれることがなく、上記と同様にして研削液を
飛散させることなく研磨加工することができる。
なお、水じやま板8は、円周方向の複数個所に切
目9を有しているため、容易に外方に曲げられ
る。また、切目9がセグメント6の外方に位置す
るように設けられているため、水じやま板8が外
方に強く曲げられて大きな隙間が生じても、研削
液の漏れを少量に止めることができる。
場合においては、水じやま板8の下部先端側が大
きく外方に拡開し、下部先端側が外方に曲がつた
状態で石材の表面に摺接し、ラツピングホイール
1の内部と外部とを遮断する。従つて、研磨加工
中において、水じやま板8の下部先端側が内方に
曲げられてセグメント6と石材の表面との間には
さまれることがなく、上記と同様にして研削液を
飛散させることなく研磨加工することができる。
なお、水じやま板8は、円周方向の複数個所に切
目9を有しているため、容易に外方に曲げられ
る。また、切目9がセグメント6の外方に位置す
るように設けられているため、水じやま板8が外
方に強く曲げられて大きな隙間が生じても、研削
液の漏れを少量に止めることができる。
考案の効果
本考案によれば、研磨加工時に水じやま板が被
加工物の表面と弾性的に摺接しラツピングホイー
ルの回転による遠心力で外周部に流れる研削液を
阻止するため、外部への飛散を抑制することがで
き、機械、作業者、機械の周辺部等の研削液によ
る汚染を防止することが可能になつた。
加工物の表面と弾性的に摺接しラツピングホイー
ルの回転による遠心力で外周部に流れる研削液を
阻止するため、外部への飛散を抑制することがで
き、機械、作業者、機械の周辺部等の研削液によ
る汚染を防止することが可能になつた。
また、水じやま板が被加工物の表面に弾性的に
摺接しラツピングホイールの内部と外部とを遮断
するため、研削液供給孔から供給される研削液を
ラツピングホイールの内部に保持し、ラツピング
ホイールが被加工物の端縁部を通過する時に水じ
やま板と被加工物の表面との間に生じる間隙から
落下し、切粉等と同時に排出する。従つて、従来
よりも少量の研削液でセグメント等の切刃部を冷
却し、切粉等を円滑に排除することが可能になつ
た。
摺接しラツピングホイールの内部と外部とを遮断
するため、研削液供給孔から供給される研削液を
ラツピングホイールの内部に保持し、ラツピング
ホイールが被加工物の端縁部を通過する時に水じ
やま板と被加工物の表面との間に生じる間隙から
落下し、切粉等と同時に排出する。従つて、従来
よりも少量の研削液でセグメント等の切刃部を冷
却し、切粉等を円滑に排除することが可能になつ
た。
特に、水じやま板はその下部先端側が外方に拡
開した円筒状体であることから、下部先端側が外
方に曲がつた状態で被加工物の表面に接触する。
また、水じやま板が基台とともに回転するため、
その下部先端が内方に曲がることがなく、これに
よりセグメントと被加工物の表面間にはさまれる
ことが防止される。従つて、水じやま板が被加工
物の表面に弾性的に摺接し、ラツピングホイール
の内部を外部から確実に遮断する。これにより、
研削液を確実に保持することができ、研削液の供
給量を減少させることが可能になつた。
開した円筒状体であることから、下部先端側が外
方に曲がつた状態で被加工物の表面に接触する。
また、水じやま板が基台とともに回転するため、
その下部先端が内方に曲がることがなく、これに
よりセグメントと被加工物の表面間にはさまれる
ことが防止される。従つて、水じやま板が被加工
物の表面に弾性的に摺接し、ラツピングホイール
の内部を外部から確実に遮断する。これにより、
研削液を確実に保持することができ、研削液の供
給量を減少させることが可能になつた。
第1図は本考案の実施例の正面図、第2図は同
じく縦断面図、第3図は同じく底面図である。 1……ラツピングホイール、2……基台、5…
…研削液供給孔、6……セグメント、8……水じ
やま板、9……切目。
じく縦断面図、第3図は同じく底面図である。 1……ラツピングホイール、2……基台、5…
…研削液供給孔、6……セグメント、8……水じ
やま板、9……切目。
Claims (1)
- 円板状の基台の下面に複数のセグメントを設
け、基台の中心部に研削液を供給する研削液供給
孔を設け、被加工物の表面に沿つて移動して研摩
するラツピングホイールにおいて、下部先端側が
外方に拡開した弾性板材からなる円筒状体である
水じやま板を基台の外周部にセグメントを囲みか
つセグメントより下方に突出して設けてなること
を特徴とする水じやま板を有するラツピングホイ
ール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985024882U JPH052294Y2 (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985024882U JPH052294Y2 (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61141071U JPS61141071U (ja) | 1986-09-01 |
JPH052294Y2 true JPH052294Y2 (ja) | 1993-01-20 |
Family
ID=30519452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985024882U Expired - Lifetime JPH052294Y2 (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH052294Y2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5834254A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-02-28 | 高橋 崇 | ロックドトレ−ンによる変速装置 |
JPS604683U (ja) * | 1983-06-24 | 1985-01-14 | 石川島建材工業株式会社 | 浸透槽 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52160184U (ja) * | 1976-05-31 | 1977-12-05 |
-
1985
- 1985-02-25 JP JP1985024882U patent/JPH052294Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5834254A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-02-28 | 高橋 崇 | ロックドトレ−ンによる変速装置 |
JPS604683U (ja) * | 1983-06-24 | 1985-01-14 | 石川島建材工業株式会社 | 浸透槽 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61141071U (ja) | 1986-09-01 |
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