JPH05226458A - シリコンウェハーの移し替え方法 - Google Patents
シリコンウェハーの移し替え方法Info
- Publication number
- JPH05226458A JPH05226458A JP5938392A JP5938392A JPH05226458A JP H05226458 A JPH05226458 A JP H05226458A JP 5938392 A JP5938392 A JP 5938392A JP 5938392 A JP5938392 A JP 5938392A JP H05226458 A JPH05226458 A JP H05226458A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- wafer
- support
- silicon
- silicon wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 大径のシリコンウェハでもキャリアから安全
に傷等を付けずに取り出し、別のキャリアに移し替える
ことができる方法を提供する。 【構成】 キャリアA内の溝Bに縦向きに収納した多数
枚のシリコンウェハCを一括して取り出して移し替える
ため、キャリアA内の各シリコンウェハCの上方から、
その裏面に沿って上下方向に伸びた支持具1を挿入し、
同支持具1の下部の支持突起2が各ウェハCの下縁に到
達した時点で、前記支持具1をウェハCの裏面側にスラ
イドして各ウェハCの下縁を夫々の支持突起2で支持
し、その状態で前記支持具1を上方に移動してキャリア
A内の全てのシリコンウェハCを取り出し、同支持具1
を別のキャリアAの位置まで移動し、同キャリアA内に
降下して支持具1に支持されているシリコンウェハCを
同キャリアA内に移し替える。
に傷等を付けずに取り出し、別のキャリアに移し替える
ことができる方法を提供する。 【構成】 キャリアA内の溝Bに縦向きに収納した多数
枚のシリコンウェハCを一括して取り出して移し替える
ため、キャリアA内の各シリコンウェハCの上方から、
その裏面に沿って上下方向に伸びた支持具1を挿入し、
同支持具1の下部の支持突起2が各ウェハCの下縁に到
達した時点で、前記支持具1をウェハCの裏面側にスラ
イドして各ウェハCの下縁を夫々の支持突起2で支持
し、その状態で前記支持具1を上方に移動してキャリア
A内の全てのシリコンウェハCを取り出し、同支持具1
を別のキャリアAの位置まで移動し、同キャリアA内に
降下して支持具1に支持されているシリコンウェハCを
同キャリアA内に移し替える。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、20〜30枚程度のシ
リコンウェハを収納・運搬するためのキャリア(カセッ
ト)からシリコンウェハを一括して取り出し、別のキャ
リアに移し替えるシリコンウェハの移し替え方法に関す
るもので、LSI(半導体)の製造工程で使用されるも
のである。
リコンウェハを収納・運搬するためのキャリア(カセッ
ト)からシリコンウェハを一括して取り出し、別のキャ
リアに移し替えるシリコンウェハの移し替え方法に関す
るもので、LSI(半導体)の製造工程で使用されるも
のである。
【0002】
【従来の技術】半導体工場におけるLSIの製造工程に
は、シリコンウェハの洗浄に始まって、酸化、拡散、P
EP、蒸着工程等多様多岐にわたる工程がある。従来は
シリコンウェハをトレイに並べて置き、各工程で作業員
が1枚づつピンセットでつまんで作業してきた。しか
し、直接シリコンウェハをピンセット等でつまむと、シ
リコンウェハが破損したり汚染したりする問題があっ
た。この問題を解決するため、またLSIの大量生産と
それに伴う自動化により、最近ではシリコンウェハを図
6に示すようなキャリアに収容して、キャリアごと移動
・運搬するようになっている。
は、シリコンウェハの洗浄に始まって、酸化、拡散、P
EP、蒸着工程等多様多岐にわたる工程がある。従来は
シリコンウェハをトレイに並べて置き、各工程で作業員
が1枚づつピンセットでつまんで作業してきた。しか
し、直接シリコンウェハをピンセット等でつまむと、シ
リコンウェハが破損したり汚染したりする問題があっ
た。この問題を解決するため、またLSIの大量生産と
それに伴う自動化により、最近ではシリコンウェハを図
6に示すようなキャリアに収容して、キャリアごと移動
・運搬するようになっている。
【0003】図6のキャリアAは内部に形成した多数の
溝BにシリコンウェハCを縦向きに立てて均一間隔に並
べて、10〜50枚程度のシリコンウエハAを収容でき
るようにしたものである。LSIの製造工程ではシリコ
ンウェハに色々な薬品が使用され、これと同時にウェハ
を収納するキャリアも各種の薬品にさらされるため、工
程ごと或は薬品ごとに、その薬品に対して腐食したり反
応したりしないような素材のキャリアを使用する必要が
ある。従って、用途に合わせてアルミ製のもの、ポリプ
ロピレン製のもの、或はテフロン加工を施したもの等の
各種キャリアを用意し、最終的にLSIが完成されるま
でに、シリコンウェハをキャリアから何回か移し替えて
いる。
溝BにシリコンウェハCを縦向きに立てて均一間隔に並
べて、10〜50枚程度のシリコンウエハAを収容でき
るようにしたものである。LSIの製造工程ではシリコ
ンウェハに色々な薬品が使用され、これと同時にウェハ
を収納するキャリアも各種の薬品にさらされるため、工
程ごと或は薬品ごとに、その薬品に対して腐食したり反
応したりしないような素材のキャリアを使用する必要が
ある。従って、用途に合わせてアルミ製のもの、ポリプ
ロピレン製のもの、或はテフロン加工を施したもの等の
各種キャリアを用意し、最終的にLSIが完成されるま
でに、シリコンウェハをキャリアから何回か移し替えて
いる。
【0004】図7に示すのは、このようなシリコンウェ
ハの移し替え方法の従来例であるが、その基本的な動作
を説明する。先ず、図8に示すようにシリコンウェハC
をその表面(電子回路を印刷する面)が上になるように
横向きにしてキャリアA(図6)内の溝Bにセットして
おき、そのキャリアAの開口部Dから平らな板状のフォ
ークEを各ウェハCの裏面側に挿入し(図9(a))、
次に各フォークEを少し上方にスライドさせてその表面
で各ウェハCを持ち上げ(同図(b))、この状態でフ
ォークEを引き戻すとその表面に乗ったシリコンウェハ
CがキャリアAから引き出される(同図(c))。そし
て、別のキャリアAに前記フォークEを同キャリアAの
開口部DからキャリアA内に挿入すると、各ウェハCが
キャリアA内の溝Bに夫々挿入され、完全に挿入された
後、前記フォークEを下方に少しスライドさせると前記
ウェハCがキャリアA内の前記溝Bに保持されるという
ものである。
ハの移し替え方法の従来例であるが、その基本的な動作
を説明する。先ず、図8に示すようにシリコンウェハC
をその表面(電子回路を印刷する面)が上になるように
横向きにしてキャリアA(図6)内の溝Bにセットして
おき、そのキャリアAの開口部Dから平らな板状のフォ
ークEを各ウェハCの裏面側に挿入し(図9(a))、
次に各フォークEを少し上方にスライドさせてその表面
で各ウェハCを持ち上げ(同図(b))、この状態でフ
ォークEを引き戻すとその表面に乗ったシリコンウェハ
CがキャリアAから引き出される(同図(c))。そし
て、別のキャリアAに前記フォークEを同キャリアAの
開口部DからキャリアA内に挿入すると、各ウェハCが
キャリアA内の溝Bに夫々挿入され、完全に挿入された
後、前記フォークEを下方に少しスライドさせると前記
ウェハCがキャリアA内の前記溝Bに保持されるという
ものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記のシリ
コンウェハの移し替え方法では、ウェハCを水平なフォ
ークEの上に乗せるため、フォークEがウェハCの全加
重をもろに受ける。このためフォークEの剛性が足りな
いとフォークEが湾曲したり、また振動が加わるとフォ
ークEが上下に触れて、場合によっては上のウェハCと
下のウェハCが接触して傷が付く虞がある。特に最近は
8インチの大径のシリコンウェハCが多く使用されるよ
うになり、ウェハC自体の重量が重くなってきているた
め、前記のような状況になり易い。このウェハCの重量
増加によるフォークEの剛性不足を解消するには、フォ
ークE自体を肉厚にして剛性を得ることも考えられる
が、キャリアAにセットされたウェハCとウェハCとの
間隔はおよそ6.4mm程度と決まっており、しかもそ
のわずかな隙間にウェハCに触れないようにフォークE
を挿入して持ち上げる必要があるため、フォークE自体
の肉厚を増すにも限界がある。
コンウェハの移し替え方法では、ウェハCを水平なフォ
ークEの上に乗せるため、フォークEがウェハCの全加
重をもろに受ける。このためフォークEの剛性が足りな
いとフォークEが湾曲したり、また振動が加わるとフォ
ークEが上下に触れて、場合によっては上のウェハCと
下のウェハCが接触して傷が付く虞がある。特に最近は
8インチの大径のシリコンウェハCが多く使用されるよ
うになり、ウェハC自体の重量が重くなってきているた
め、前記のような状況になり易い。このウェハCの重量
増加によるフォークEの剛性不足を解消するには、フォ
ークE自体を肉厚にして剛性を得ることも考えられる
が、キャリアAにセットされたウェハCとウェハCとの
間隔はおよそ6.4mm程度と決まっており、しかもそ
のわずかな隙間にウェハCに触れないようにフォークE
を挿入して持ち上げる必要があるため、フォークE自体
の肉厚を増すにも限界がある。
【0006】本発明の目的は、大径のシリコンウェハで
もキャリアから安全に傷等を付けずに取り出し、別のキ
ャリアに移し替えることができるシリコンウェハの移し
替え方法を提供することである。
もキャリアから安全に傷等を付けずに取り出し、別のキ
ャリアに移し替えることができるシリコンウェハの移し
替え方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のシリコンウェハ
の移し替え方法は、キャリアA内の溝Bに一定間隔で縦
向きに並べて収納されている多数枚のシリコンウェハC
を一括して取り出して別のキャリアAに移し替えるシリ
コンウェハの移し替え方法において、キャリアA内の各
シリコンウェハCの上方から、その裏面に沿って上下方
向に伸びた支持具1を挿入し、同支持具1の下部に形成
された支持突起2が各ウェハCの下縁に到達したところ
で、前記キャリアAをウェハCの裏面方向にスライドさ
せるか或は支持具1をウェハCの裏面側にスライドさせ
て、各ウェハCの下縁を夫々の支持突起2で支持し、そ
の状態で前記支持具1を上方に移動させてキャリアA内
の全てのシリコンウェハCを取り出し、同支持具1を別
のキャリアAの位置まで移動し、同キャリアA内に降下
させた後、前記キャリアAをウェハCの表面方向にスラ
イドさせるか或は支持具1をウェハCの裏面から離すよ
うにスライドさせて、各ウェハCの下縁を夫々の支持突
起2から離し、前記支持具1に支持されているシリコン
ウェハCを一括して同キャリアA内に移し替えることを
特徴とするものである。
の移し替え方法は、キャリアA内の溝Bに一定間隔で縦
向きに並べて収納されている多数枚のシリコンウェハC
を一括して取り出して別のキャリアAに移し替えるシリ
コンウェハの移し替え方法において、キャリアA内の各
シリコンウェハCの上方から、その裏面に沿って上下方
向に伸びた支持具1を挿入し、同支持具1の下部に形成
された支持突起2が各ウェハCの下縁に到達したところ
で、前記キャリアAをウェハCの裏面方向にスライドさ
せるか或は支持具1をウェハCの裏面側にスライドさせ
て、各ウェハCの下縁を夫々の支持突起2で支持し、そ
の状態で前記支持具1を上方に移動させてキャリアA内
の全てのシリコンウェハCを取り出し、同支持具1を別
のキャリアAの位置まで移動し、同キャリアA内に降下
させた後、前記キャリアAをウェハCの表面方向にスラ
イドさせるか或は支持具1をウェハCの裏面から離すよ
うにスライドさせて、各ウェハCの下縁を夫々の支持突
起2から離し、前記支持具1に支持されているシリコン
ウェハCを一括して同キャリアA内に移し替えることを
特徴とするものである。
【0008】
【作用】本発明のシリコンウェハの移し替え方法では、
図1〜5に示すように、キャリアAの溝Bに一定間隔で
縦向きに並べて収納されている多数枚のシリコンウェハ
C夫々に、その上から上下方向に伸びる帯状の支持具1
をウェハCの裏面に平行に挿入し、同支持具1の下部に
ある支持突起2で各ウェハCの下縁を支えて取り出し、
この状態で前記支持具1を別のキャリアAの位置まで移
動させて移し替えを行うことにより、シリコンウェハC
の全加重が前記支持突起2を介して支持具1の長手方向
にかかるため、前記シリコンウェハCが重くても支持具
1が湾曲することがない。しかもシリコンウェハCの下
縁を支持具1の支持突起2に乗せて移し替えを行うた
め、前記ウェハCの裏面とそこに接している支持具1と
は力学的に殆ど力が作用せず、従ってシリコンウェハC
に傷が着く虞も殆どない。
図1〜5に示すように、キャリアAの溝Bに一定間隔で
縦向きに並べて収納されている多数枚のシリコンウェハ
C夫々に、その上から上下方向に伸びる帯状の支持具1
をウェハCの裏面に平行に挿入し、同支持具1の下部に
ある支持突起2で各ウェハCの下縁を支えて取り出し、
この状態で前記支持具1を別のキャリアAの位置まで移
動させて移し替えを行うことにより、シリコンウェハC
の全加重が前記支持突起2を介して支持具1の長手方向
にかかるため、前記シリコンウェハCが重くても支持具
1が湾曲することがない。しかもシリコンウェハCの下
縁を支持具1の支持突起2に乗せて移し替えを行うた
め、前記ウェハCの裏面とそこに接している支持具1と
は力学的に殆ど力が作用せず、従ってシリコンウェハC
に傷が着く虞も殆どない。
【0009】
【実施例】本発明のシリコンウェハに移し替え方法に基
づいて作製した装置の一実施例を図1〜5に示す。先
ず、この装置の正面には、シリコンウェハCを収容した
キャリアAと空のキャリアAを別々にセットできるよう
に2つの設置台10があり、両設置台10は夫々前後
(図1中X−X方向)にスライドすることができる。ま
た、両設置台10には図3に示すようにわずかではある
が傾斜が付けられているため、シリコンウェハCを収容
したキャリアAを前記設置台10にセットする際は、前
記ウエハAの表面(電子回路を印刷する面)が正面を向
くようにする。この装置で使用するキャリアAとしては
先に図6に示したようなものを使用し、これは内部に
2、30枚のシリコンウェハCを縦に立てて密に並べて
収容することができるような溝Bが多数形成されている
ものであって、既存のキャリアAが使用できる。ちなみ
に、本実施例のキャリアAは8インチのシリコンウェハ
Cを通常25枚を収容するものを使用している。
づいて作製した装置の一実施例を図1〜5に示す。先
ず、この装置の正面には、シリコンウェハCを収容した
キャリアAと空のキャリアAを別々にセットできるよう
に2つの設置台10があり、両設置台10は夫々前後
(図1中X−X方向)にスライドすることができる。ま
た、両設置台10には図3に示すようにわずかではある
が傾斜が付けられているため、シリコンウェハCを収容
したキャリアAを前記設置台10にセットする際は、前
記ウエハAの表面(電子回路を印刷する面)が正面を向
くようにする。この装置で使用するキャリアAとしては
先に図6に示したようなものを使用し、これは内部に
2、30枚のシリコンウェハCを縦に立てて密に並べて
収容することができるような溝Bが多数形成されている
ものであって、既存のキャリアAが使用できる。ちなみ
に、本実施例のキャリアAは8インチのシリコンウェハ
Cを通常25枚を収容するものを使用している。
【0010】また、この装置には、セットしたキャリア
Aから一括して25枚のシリコンウェハCを引き上げ、
もう一方の空のキャリアAへ前記ウェハCを移し替える
ためにコムユニット15と呼ばれるものが備えつけられ
ている。このコムユニット15は2つのキャリアA間を
移動することができるように装置の移動ユニット16に
取り付けられており、図1の停止位置から左右方向(図
1中Y−Y方向)にスライドすることも、さらに夫々の
キャリアAの上部位置においては上下方向(図1中Z−
Z方向)にスライドすることもできる(図2)。
Aから一括して25枚のシリコンウェハCを引き上げ、
もう一方の空のキャリアAへ前記ウェハCを移し替える
ためにコムユニット15と呼ばれるものが備えつけられ
ている。このコムユニット15は2つのキャリアA間を
移動することができるように装置の移動ユニット16に
取り付けられており、図1の停止位置から左右方向(図
1中Y−Y方向)にスライドすることも、さらに夫々の
キャリアAの上部位置においては上下方向(図1中Z−
Z方向)にスライドすることもできる(図2)。
【0011】前記コムユニット15は25枚の支持具1
とその両側に設けられた2本のガイド17及びそれらを
取り付けるための固定材18とから構成され、また、本
装置にセットされたキャリアAのシリコンウェハCと平
行に帯状支持具1を挿入できるように前記設置台10と
同じ角度の傾斜が付けられている(図3)。
とその両側に設けられた2本のガイド17及びそれらを
取り付けるための固定材18とから構成され、また、本
装置にセットされたキャリアAのシリコンウェハCと平
行に帯状支持具1を挿入できるように前記設置台10と
同じ角度の傾斜が付けられている(図3)。
【0012】前記支持具1は、図4に示すようにステン
レス素材を用いて長さ255mm、幅30mm、厚さ
1.2mmの帯状に形成したもので、両面にテフロンコ
ートを施してある。また、その長手方向の一端には四角
い支持突起2が形成されていて、同支持突起2はそこに
シリコンウェハCの下縁を乗せて支持できる程度の厚み
を有している。そして、図3に示すように前記支持具1
を支持突起2を下にして前記固定材18の下にシリコン
ウェハCの配列間隔と同じ間隔で25枚を平行に並べて
取り付けてある。この実施例では、前記支持具1の表面
の中央部に厚さ0.3mm、直径0.5mm程度のテフ
ロンの突起26を設けてあるため、図4に示すシリコン
ウェハCは下縁の支持突起2により支持されると共に、
前記突起26に点接触する状態で保持されている。
レス素材を用いて長さ255mm、幅30mm、厚さ
1.2mmの帯状に形成したもので、両面にテフロンコ
ートを施してある。また、その長手方向の一端には四角
い支持突起2が形成されていて、同支持突起2はそこに
シリコンウェハCの下縁を乗せて支持できる程度の厚み
を有している。そして、図3に示すように前記支持具1
を支持突起2を下にして前記固定材18の下にシリコン
ウェハCの配列間隔と同じ間隔で25枚を平行に並べて
取り付けてある。この実施例では、前記支持具1の表面
の中央部に厚さ0.3mm、直径0.5mm程度のテフ
ロンの突起26を設けてあるため、図4に示すシリコン
ウェハCは下縁の支持突起2により支持されると共に、
前記突起26に点接触する状態で保持されている。
【0013】前記ガイド17は、図4に示すように前記
支持具1及びその支持突起2で引き出したシリコンウェ
ハCを移送中にそこから落ちないようにホールドするた
めのもので、円柱状の棒材20にシリコンウェハCの配
列間隔と同じ間隔で多数(25)の溝21を形成してテ
フロン加工たものを2本用い、夫々をシリコンウェハC
の左右両側部分に位置するように前記固定材18に取り
付け、コムユニット15の帯状支持具1をシリコンウェ
ハCに差し込んで引き上げる際、前記ウェハCの上縁の
2箇所をガイド17の溝21で挟んで、移送中にコムユ
ニット15から前記ウェハCが落下するのを防いでい
る。なお、このガイド17としては、板状のテフロン材
にシリコンウェハCの配列間隔と同じ間隔で(くし状
の)切り込みを形成したものを使用することもできる。
支持具1及びその支持突起2で引き出したシリコンウェ
ハCを移送中にそこから落ちないようにホールドするた
めのもので、円柱状の棒材20にシリコンウェハCの配
列間隔と同じ間隔で多数(25)の溝21を形成してテ
フロン加工たものを2本用い、夫々をシリコンウェハC
の左右両側部分に位置するように前記固定材18に取り
付け、コムユニット15の帯状支持具1をシリコンウェ
ハCに差し込んで引き上げる際、前記ウェハCの上縁の
2箇所をガイド17の溝21で挟んで、移送中にコムユ
ニット15から前記ウェハCが落下するのを防いでい
る。なお、このガイド17としては、板状のテフロン材
にシリコンウェハCの配列間隔と同じ間隔で(くし状
の)切り込みを形成したものを使用することもできる。
【0014】この装置によるシリコンウエハの移し替え
動作の例を順に説明する。図1に示すように、この装置
の2つの設置台10にシリコンウェハCを収容している
キャリアAと空のキャリアAを夫々セットし、コムユニ
ット15を動作させる。同コムユニット15は自動的に
シリコンウェハCを収容しているキャリアAの上方位置
まで水平方向にスライドし、そこから下側に降下して同
ユニット15の支持具1を前記キャリアA内の各シリコ
ンウェハCの裏面に平行に挿入する(図5(a))。こ
のとき前記支持具1はウェハCに接触しないように各ウ
ェハC間の隙間に確実に挿入されるようになっている
が、本装置では、前記支持具1がウェハCに過って触れ
た場合は自動的にストップするようになっている。そし
て、前記コムユニット15は支持具1の下端の支持突起
2がウェハCの下部の縁より少し下に位置したところで
自動的に降下がストップする(図2)。
動作の例を順に説明する。図1に示すように、この装置
の2つの設置台10にシリコンウェハCを収容している
キャリアAと空のキャリアAを夫々セットし、コムユニ
ット15を動作させる。同コムユニット15は自動的に
シリコンウェハCを収容しているキャリアAの上方位置
まで水平方向にスライドし、そこから下側に降下して同
ユニット15の支持具1を前記キャリアA内の各シリコ
ンウェハCの裏面に平行に挿入する(図5(a))。こ
のとき前記支持具1はウェハCに接触しないように各ウ
ェハC間の隙間に確実に挿入されるようになっている
が、本装置では、前記支持具1がウェハCに過って触れ
た場合は自動的にストップするようになっている。そし
て、前記コムユニット15は支持具1の下端の支持突起
2がウェハCの下部の縁より少し下に位置したところで
自動的に降下がストップする(図2)。
【0015】次に、図5(b)に矢印(図1中X−X方
向)で示されるように前記キャリアAがわずかに後方に
スライドして、キャリアA内の各ウェハCの裏面が支持
具1の表面と接触し、またウェハCの下縁が前記支持具
1の支持突起2に支持される。このときシリコンウェハ
Cの上縁の2箇所が前記ガイド17の溝21に挿入され
ているので、各ウェハCは丁度図4に示した状態にな
る。
向)で示されるように前記キャリアAがわずかに後方に
スライドして、キャリアA内の各ウェハCの裏面が支持
具1の表面と接触し、またウェハCの下縁が前記支持具
1の支持突起2に支持される。このときシリコンウェハ
Cの上縁の2箇所が前記ガイド17の溝21に挿入され
ているので、各ウェハCは丁度図4に示した状態にな
る。
【0016】次に、各ウエハを図4の状態に保持したコ
ムユニット15は、そのまま上方(図1中Z−Z方向)
に移動して、空のキャリアAがセットされている方へ水
平移動(図1中Y−Y方向)して、そのキャリアAの上
方位置でストップし、そこから降下してキャリアA内に
シリコンウェハCを挿入する。この時各ウェハCはキャ
リアAに形成された溝Bに夫々納まる。完全にコムユニ
ット15が降下した後、今度はそのキャリアA(図1中
X−X方向)が前方にわずかにスライドして、各ウェハ
Cから支持具1を離し、その後、コムユニット15が上
昇してシリコンウェハCの移し替え作業が完了する。
ムユニット15は、そのまま上方(図1中Z−Z方向)
に移動して、空のキャリアAがセットされている方へ水
平移動(図1中Y−Y方向)して、そのキャリアAの上
方位置でストップし、そこから降下してキャリアA内に
シリコンウェハCを挿入する。この時各ウェハCはキャ
リアAに形成された溝Bに夫々納まる。完全にコムユニ
ット15が降下した後、今度はそのキャリアA(図1中
X−X方向)が前方にわずかにスライドして、各ウェハ
Cから支持具1を離し、その後、コムユニット15が上
昇してシリコンウェハCの移し替え作業が完了する。
【0017】以上の作業はこの装置の正面に設けられた
制御パネル25にあるスイッチ(図示していない)を入
れると自動的に行われるが、必要に応じてRS232C
等のインターフェースを使用してコンピュータと接続
し、一連の動作をコンピュータで制御し、その状態をC
RTでモニタすることもできる。
制御パネル25にあるスイッチ(図示していない)を入
れると自動的に行われるが、必要に応じてRS232C
等のインターフェースを使用してコンピュータと接続
し、一連の動作をコンピュータで制御し、その状態をC
RTでモニタすることもできる。
【0018】
【発明の効果】本発明のシリコンウェハの移し替え方法
によれば下記のような効果がある。 起立状態のシリコンウェハCを上下方向に伸びる支
持具1の支持突起2で吊り上げるようにして支持して引
き上げ、移送するため、ウェハCの加重が支持具1の長
手方向にかかり、大径のウェハCでも前記支持具1が湾
曲したりすることがない。 しかも、水平保持のフォークEより支持具1を薄く
することができるので、多数の支持具1からなるコムユ
ニット15は、従来のものと比較した場合約1/4程度
まで軽量化することができ、従って洗浄のためのコムユ
ニット15の取り外しが楽である。 ウェハCの下縁を支持具1の支持突起2で吊り上げ
支持して移送するため、ウェハCと支持具1の接触面に
大きな力が加わらず、従って、シリコンウェハCに傷が
つく虞が殆どない。 シリコンウェハCもそれに接触する支持具1も共に
立っているため(ダウンフローの方向)、それらにパー
ティクル(ほこり等の微粒子)が付着せず、従って、シ
リコンウェハCがパーティクルで汚染されることがな
い。 各シリコンウェハCを支持具1の支持突起2及び突
起26との2点で支持すると共に、ガイド17で落下し
ないようにしているため安全である。
によれば下記のような効果がある。 起立状態のシリコンウェハCを上下方向に伸びる支
持具1の支持突起2で吊り上げるようにして支持して引
き上げ、移送するため、ウェハCの加重が支持具1の長
手方向にかかり、大径のウェハCでも前記支持具1が湾
曲したりすることがない。 しかも、水平保持のフォークEより支持具1を薄く
することができるので、多数の支持具1からなるコムユ
ニット15は、従来のものと比較した場合約1/4程度
まで軽量化することができ、従って洗浄のためのコムユ
ニット15の取り外しが楽である。 ウェハCの下縁を支持具1の支持突起2で吊り上げ
支持して移送するため、ウェハCと支持具1の接触面に
大きな力が加わらず、従って、シリコンウェハCに傷が
つく虞が殆どない。 シリコンウェハCもそれに接触する支持具1も共に
立っているため(ダウンフローの方向)、それらにパー
ティクル(ほこり等の微粒子)が付着せず、従って、シ
リコンウェハCがパーティクルで汚染されることがな
い。 各シリコンウェハCを支持具1の支持突起2及び突
起26との2点で支持すると共に、ガイド17で落下し
ないようにしているため安全である。
【図1】本発明のシリコンウェハの移し替え方法に基づ
いて作製した装置の一実施例を示す斜視図。
いて作製した装置の一実施例を示す斜視図。
【図2】図1の装置におけるウェハ取り出しを示す斜視
図。
図。
【図3】図1の装置の側面図。
【図4】図1の装置におけるウェハ取り出し部分を示し
た斜視図。
た斜視図。
【図5】(a)、(b)は図1の装置におけるシリコン
ウェハの移し替え状態を示す側面図。
ウェハの移し替え状態を示す側面図。
【図6】キャリアの一例を示す斜視図。
【図7】従来のシリコンウェハの移し替え方法による装
置の一例を示す側面図。
置の一例を示す側面図。
【図8】図7の装置を説明するための該略図。
【図9】(a)、(b)、(c)は図7の装置における
ウェハとフォークとの関係を示す側面図。
ウェハとフォークとの関係を示す側面図。
A キャリア B 溝 C シリコンウェハ 1 支持具 2 支持突起
Claims (1)
- 【請求項1】 キャリアA内の溝Bに一定間隔で縦向き
に並べて収納されている多数枚のシリコンウェハCを一
括して取り出して別のキャリアAに移し替えるシリコン
ウェハの移し替え方法において、キャリアA内の各シリ
コンウェハCの上方から、その裏面に沿って上下方向に
伸びた支持具1を挿入し、同支持具1の下部に形成され
た支持突起2が各ウェハCの下縁に到達したところで、
前記キャリアAをウェハCの裏面方向にスライドさせる
か或は支持具1をウェハCの裏面側にスライドさせて、
各ウェハCの下縁を夫々の支持突起2で支持し、その状
態で前記支持具1を上方に移動させてキャリアA内の全
てのシリコンウェハCを取り出し、同支持具1を別のキ
ャリアAの位置まで移動し、同キャリアA内に降下させ
た後、前記キャリアAをウェハCの表面方向にスライド
させるか或は支持具1をウェハCの裏面から離すように
スライドさせて、各ウェハCの下縁を夫々の支持突起2
から離し、前記支持具1に支持されているシリコンウェ
ハCを一括して同キャリアA内に移し替えることを特徴
とするシリコンウェハの移し替え方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5938392A JPH05226458A (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | シリコンウェハーの移し替え方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5938392A JPH05226458A (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | シリコンウェハーの移し替え方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05226458A true JPH05226458A (ja) | 1993-09-03 |
Family
ID=13111707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5938392A Pending JPH05226458A (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | シリコンウェハーの移し替え方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05226458A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100272544A1 (en) * | 2009-03-30 | 2010-10-28 | Ats Automation Tooling Systems Inc. | Systems and methods for handling wafers |
-
1992
- 1992-02-13 JP JP5938392A patent/JPH05226458A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100272544A1 (en) * | 2009-03-30 | 2010-10-28 | Ats Automation Tooling Systems Inc. | Systems and methods for handling wafers |
CN102369595A (zh) * | 2009-03-30 | 2012-03-07 | Ats自动化加工系统公司 | 用于搬运晶片的系统和方法 |
US9184079B2 (en) * | 2009-03-30 | 2015-11-10 | Ats Automation Tooling Systems Inc. | Systems and methods for handling wafers |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100623170B1 (ko) | 플랫 디스크형 서스셉터를 구비한 에픽택셜 유도 반응기 내에서 셀프-레벨링 진공 시스템에 의해 기판을 핸들링하는 장치 및 그 작동 방법 | |
US4573851A (en) | Semiconductor wafer transfer apparatus and method | |
US4566839A (en) | Semiconductor wafer diffusion boat and method | |
JP4650831B2 (ja) | 基板キャリアを支持する場所を変更するための方法および装置 | |
US6109677A (en) | Apparatus for handling and transporting plate like substrates | |
US6457929B2 (en) | Apparatus and method for automatically transferring wafers between wafer holders in a liquid environment | |
JPH05102056A (ja) | ウエハー支持具 | |
JPH0159352B2 (ja) | ||
KR20140008502A (ko) | 다중 위치 접촉 지점을 가지는 엔드 이펙터 | |
JPH09172052A (ja) | ウェーハ移載装置及びウェーハ移載方法 | |
JPH05226458A (ja) | シリコンウェハーの移し替え方法 | |
JPH07263521A (ja) | ウェーハ移載の装置と方法並びに半導体装置の製造方法 | |
US4536122A (en) | Wafer transfer device | |
CN217375054U (zh) | 晶圆搬运机 | |
EP0244772B1 (en) | Wafer cassette transfer mechanismand method | |
JP2008027937A (ja) | 真空処理装置 | |
JP2639375B2 (ja) | 連続熱処理装置 | |
KR100778394B1 (ko) | 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 반도체 소자 제조용 장비 | |
JPH07153816A (ja) | 基板移載方法および装置 | |
JP3057945B2 (ja) | 基板支持装置 | |
JPH019170Y2 (ja) | ||
JPS60231337A (ja) | ウエハ−移し替え装置 | |
JP3101312B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP2000164689A (ja) | 基板保持具および基板処理装置 | |
JPH0325405Y2 (ja) |