JPH0522551U - 真空成膜用シヤツタ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シャッタア−ムを脱着することなく、シャッ
タブレ−ドに付着した余分な付着物を除去する。 【構成】 シャッタア−ム１５は、その一部に切欠き溝
１５ａ，１５ａを形成している。一方、シャッタブレ−
ド１６は、上記シャッタア−ム１５の切欠き溝１５ａ，
１５ａの適合するフランジ部１６ａ，１６ａを有する。
それらによって、シャッタア−ム１５とシャッタブレ−
ド１６とを分割して取外し可能に連結する。シャッタと
しての使用時には一体となって動作し、付着物除去時に
は、容易にシャッタア−ム１５よりシャッタブレ−ド１
６を分割して取り外せる。よって、シャッタア−ム１５
をベ−スより脱着することなく、シャッタブレ−ド１６
のみを取り外し、それに付着した余分な付着物を除去で
きる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、真空成膜用シャッタ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来、例えば真空成膜装置（真空蒸着装置）において、蒸発物質の飛翔経路を 遮断するために、シャッタ装置が用いられている。この種のシャッタ装置におい て、単板状のシャッタブレ−ドが二位置間を揺動変位して前記飛翔経路を遮断又 は開放し、特に蒸着終了タイミングを厳密に規制するものがある。

【０００３】 ところで、そのようなシャッタ装置は、蒸発物質のワ−クへの付着量を厳密に 制御するために使用される。例えば水晶振動子の形成過程において、水晶の表面 に銀を蒸着し、その発振周波数を所定値に調整する際に用いられ、蒸着量が所定 値に達するのと同時に、蒸発物質の飛翔経路をシャッタブレ−ドで遮断して蒸着 を停止させるのに使用される。

【０００４】 従来、シャッタ装置は、例えば特開平２−３８５６２号公報に記載されるよう に、ベ−ス上に片持ち支持されるシャッタア−ムと、該シャッタア−ムの遊端側 に設けられるシャッタブレ−ドと、上記シャッタア−ムを撓み変位操作するア− ム操作手段を有し、上記シャッタア−ムをばね材で形成し、シャッタア−ムの自 由状態位置と、ア−ム操作手段によって操作された退避位置との間の変位操作で 、シャッタブレ−ドを待機姿勢と作動姿勢とに切替可能としたものが知られてい る。 ところで、そのようなシャッタ装置では、蒸発物質の飛翔経路をシャッタ ブレ−ドで遮断して蒸着を停止させるときにシャッタブレ−ドに余分な成膜物質 が付着するので、この付着物を定期的に取除く必要がある。取り除く必要がある のは、シャッタブレ−ドへの成膜物質の付着が多くなってくると、付着物質が剥 離落下してゴミとなるからであり、シャッタブレ−ドの重量が増すことにより、 シャッタ開閉速度が変化するからである。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

ところが、従来、付着物を取り除くためには、シャッタア−ムとシャッタブレ −ドとが一体成形品であったため、シャッタア−ムをシャッタ装置より脱着して 行っていたが、シャッタア−ムはばね材で形成されて非常に薄く、また、シャッ タ装置内の周囲には成膜に必要な部品が密度高く配置されているため、その取扱 いに細心の注意が必要であった。

【０００６】 それに加えて、シャッタア−ムとシャッタブレ−ドとが一体成形品であるため 、シャッタブレ−ドに要求される特性からシャッタア−ムの材質が限定されて、 特殊材料を使用することとなり、経済性、耐久性に劣るという課題があった。

【０００７】 本考案はかかる点に鑑みてなされたもので、シャッタア−ムを脱着することな く、シャッタブレ−ドに付着した余分な付着物を除去することができる真空成膜 用シャッタ装置を提供することを目的とするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

本考案は、ベ−ス上に片持ち支持されるシャッタア−ムと、該シャッタア−ム の遊端側に設けられるシャッタブレ−ドと、上記シャッタア−ムを撓み変位操作 するア−ム操作手段とを有し、上記シャッタア−ムをばね材で形成するシャッタ 装置を前提とする。

【０００９】 本考案は、上記シャッタア−ムとシャッタブレ−ドとが分割して取外し可能に 連結されている構成とする。

【００１０】

【作用】

シャッタア−ムとシャッタブレ−ドとが分割して取外し可能に連結されている ので、使用時にはそれらは一体となって、従来のものと同様に動作する。また、 付着物除去時には、シャッタブレ−ドをシャッタア−ムより容易に分割して取外 すことができる。よって、シャッタア−ムをベ−スより脱着することなく、シャ ッタブレ−ドのみを取外して、それに付着した余分な付着物を除去できる。

【００１１】

【実施例】

以下、本考案を、真空成膜装置のシャッタ装置に適用した実施例について図面 に沿って詳細に説明する。

【００１２】 真空成膜装置の概略構成を示す図１において、真空成膜装置は、隔壁１でされ た真空チャンバ２を有し、その内部に蒸発源３、ヒ−タ４及びシャッタ装置５等 を配置し、蒸発源３からワ−ク６に向かって蒸発物質を照射供給するように構成 されている。蒸発物質は区画壁７で密閉状に区画された蒸発室８に配置してあり 、区画壁７に通設した放射口９からワ−ク６に蒸発物質を照射するようになって いる。なお、Ｐは蒸発物質の飛翔経路である。

【００１３】 そして、前記放射口９の外面において蒸発物質の飛翔経路Ｐを遮断し、あるい は開放するために上記シャッタ装置５が設けられている。

【００１４】 図２において、シャッタ装置５は、正面視Ｌ字状のベ−ス１１と、該ベ−ス１ １の取付台１１ａに片持ち支持されるシャッタ１２と、ベ−ス１１の脚部１１ｂ の先端に傾斜姿勢で固定される電磁石１３と、シャッタ１２の停止位置を調整す るストッパ１４を備えている。

【００１５】 シャッタ１２は、板ばねを素材とするプレス成形品で左右に長い帯状のシャッ タア−ム１５と、このシャッタア−ム１５の一端側縁に取付けられたシャッタブ レ−ド１６とを有し、それらを分割して取外し可能に連結してなる。シャッタア −ム１５の他端側縁部は、ストッパ１４と共にボルト１７でベ−ス１１の取付部 １１ａに共締めされている。

【００１６】 シャッタア−ム１５は、図３に示すように、その一部に切欠き溝１５ａ，１５ ａが形成されている。シャッタブレ−ド１６は、上記シャッタア−ム１５の切欠 き溝１５ａ，１５ａに適合するフランジ部１６ａ，１６ａを有しシャッタア−ム １５に取付けられる基部１６ｂと、該基部１６ｂの一端側縁から垂直に折り起こ された四角形状のシャッタ部１６ｃとを備える。そしてシャッタア−ム１５の切 欠き溝１５ａ，１５ａにシャッタブレ−ド１６のフランジ部１６ａ，１６ａ適合 して、シャッタア−ム１５にシャッタブレ−ド１６が分割して取外し可能に連結 されて、使用時にはそれらは一体となって従来のものと同様に動作するシャッタ １２が構成されている（図４〜図６参照）。なお、１５ｂはシャッタア−ム１５ の基端部に設けられボルト１７が挿通される挿通孔である。

【００１７】 上記シャッタア−ム１５とシャッタブレ−ド１６とは同一材質でもって成形す るようにしてもよいが、経済性、耐久性を考えて異種材質のものを組合わせるこ ともできる。例えば、シャッタア−ム１５として磁性ステンレス鋼を用い、シャ ッタブレ−ド１６としてステンレス鋼、鋼、又はモリブデンを用いることができ る。また、シャッタア−ム１５としてバネ鋼を用い、シャッタブレ−ド１６とし てタンタル、タングステンを用いることができる。

【００１８】 上記ストッパ１４は鋼板で帯状に形成され、ストッパ１４の板面全体がシャッ タア−ム１５に密着するようになっており、シャッタア−ム１５がストッパ１４ に当接したときのシャッタア−ム１５の振動を抑制することができるように構成 されている。

【００１９】 上記電磁石１３は、シャッタア−ム１５をア−ム自身のばね力に抗して下向き に揺動変位させて、シャッタブレ−ド１６を待機姿勢に変位させ、この状態を維 持するために設けられている。

【００２０】 電磁石１３のポ−ルピ−ス２１は、シャッタア−ム１５の下面に対向して設け られており、そのコイル１３ａに駆動電流が印加されると、ポ−ルピ−ス２１か ら発生する磁界によってシャッタア−ム１５を吸着する。このとき、ポ−ルピ− ス２１とシャッタア−ム１５との間に、効果的な磁界を作用させるために、ベ− ス１１及びストッパ１４はそれぞれ強磁性体で形成している。つまり、電磁石１ ３のポ−ルピ−ス２１を一方の磁極とするとき、他方の磁極がベ−ス１１とスト ッパ１４を介してシャッタア−ム１５の側に作用するよう磁気回路を形成し、シ ャッタア−ム１５を揺動変位させる。

【００２１】 なお、ワ−ク６はブロック状に切り出された水晶であり、その表面に銀などの 蒸発物質を蒸着して発振周波数が所定値に調整される。ワ−ク６の振動数を図外 の測定装置で計測しながら、蒸着を行うことにより、ワ−ク６自身が蒸着量を検 知するためのセンサとして利用される。つまり、蒸着量の増加に伴ってワ−ク６ の振動数が徐々に低下するので、振動数が所定値に達した状態を検知し、この検 知信号に基づいて電磁石１３への通電を停止させるのである。

【００２２】 上記のように構成すれば、シャッタア−ム１５が自由状態にあるとき、シャッ タブレ−ド１６は飛翔経路Ｐを遮断した作動状態となっている。この状態から蒸 発物質を発生させ、酸化物等の不純物の蒸発がなくなった段階で電磁石１３を作 動させてシャッタブレ−ド１６を飛翔経路Ｐ外に退避させ、この待機姿勢を維持 したまま蒸着を行う。

【００２３】 そして、ワ−ク６の蒸着量が所定値に達した状態で電磁石１３を消磁すると、 シャッタア−ム１５はそれ自身のばね力によって自由状態時の姿勢に復帰揺動し 、シャッタブレ−ド１６が再び作動姿勢に切替わって蒸発物質の飛翔経路Ｐを遮 断し、蒸着を停止させる。

【００２４】 ところで、そのようなシャッタ装置５では、シャッタ１２の閉止中にシャッタ ブレ−ド１６に余分な成膜物質が付着し、この付着物を定期的に取除く必要があ るが、上記シャッタブレ−ド１６は、シャッタア−ム１５に分割して取外し可能 に連結されており、シャッタア−ム１５よりのシャッタブレ−ド１６の取外しは 指の力で十分に行うことができるので、シャッタア−ム１５を取外すことなくベ −ス１１に取付けた状態で、シャッタブレ−ド１６のみの着脱を容易に行うこと ができる。

【００２５】 また、図７〜図９に示すように、シャッタア−ム１５Ａの中央部に切欠き１５ ｂ，１５ｂを形成し、折曲げ形成時に、この切欠き１５ｂ，１５ｂに適合するシ ャッタブレ−ド１６Ａの折曲げ部１６ｄ，１６ｄをシャッタア−ム１５Ａの切欠 き１５ｂ，１５ｂに適合させ、折曲げ部１６ｄ，１６ｄを折り曲げることにより 、分割して取外し可能に一体化することもできる。

【００２６】

【考案の効果】

本考案は、シャッタア−ムとシャッタブレ−ドとを分割して取外し可能に連結 しているので、使用時にはそれらは一体となって動作し、付着物除去時には、容 易に分割して取り外すことができるようになり、シャッタア−ムを脱着すること なく、シャッタブレ−ドのみを取り外して該シャッタブレ−ドに付着した余分な 付着物を除去することができる。

【００２７】 また、シャッタア−ムとシャッタブレ−ドを分割することにより、相互に異種 材料を選択することができ、経済性、耐久性の向上の点で有利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】真空成膜装置を概念的に示す内部平面図であ
る。

【図２】シャッタ装置の正面図である。

【図３】シャッタの分解図である。

【図４】シャッタの平面図である。

【図５】シャッタの側面図である。

【図６】シャッタの斜視図である。

【図７】他の実施例の図３と同様の図である。

【図８】他の実施例の図４と同様の図である。

【図９】他の実施例の図５と同様の図である。

【符号の説明】

5 シャッタ装置 13 電磁石（ア−ム操作手段） 15,15A シャッタア−ム 15a 切欠き溝 15b 切欠き 16,16A シャッタブレ−ド 16a フランジ部 16d 折曲げ部

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 ベ−ス上に片持ち支持されるシャッタア
   −ムと、該シャッタア−ムの遊端側に設けられるシャッ
   タブレ−ドと、上記シャッタア−ムを撓み変位操作する
   ア−ム操作手段とを有し、上記シャッタア−ムをばね材
   で形成し、シャッタア−ムの自由状態位置と、ア−ム操
   作手段によって操作された退避位置との間の変位操作
   で、シャッタブレ−ドを待機姿勢と作動姿勢とに切替可
   能としたシャッタ装置において、 上記シャッタア−ムとシャッタブレ−ドとが分割して取
   外し可能に連結されていることを特徴とする真空成膜用
   シャッタ装置。