JPH0596059U - 基板保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板上に成膜層を製造する場合に常に成膜基
板面から非成膜基板面への移行区域において常にシャー
プな層段を得ることができるようにする。 【構成】 弾性的な薄膜状のマスク６が前面側の基板ホ
ルダー４と結合されており、しかも該マスク６の輪郭形
状は、マスク縁部が前記前面側の基板ホルダー４から平
行な間隔をおいて張出すように成形されており、前記マ
スク６が前記前面側の基板ホルダー４によって所定の角
度δをとって、基板１の成膜すべき前面へ導かれてお
り、かつ、前面側の基板ホルダー４を超えて張出してい
る前記のマスク縁部が、基板１の前面に圧着される。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、スパッタリング法、真空蒸着法又はＣＶＤ（化学的気相成長法）の ような成膜法の実施中に、実質的に扁平な基板を保持するための少なくとも２部 構成の基板ホルダーから成る基板保持装置であって、前記基板ホルダーの前面側 部分が、膜生成源の方に向いた基板前面をマスク状に被覆しかつ前記基板ホルダ ーの背面側部分が、膜生成源から離反した方の基板の背面側に設けられている形 式の基板保持装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

基板を成膜する場合、基板前面の一部分にだけ成膜を施すことが要求される場 合が往々にしてある。これは例えばディスプレイ装置の画像スクリーンの場合で あり、この場合、基板前面側の外縁域には成膜処理は施されてはならない。この ために従来は、主として扁平なマスクプレートが使用され、該マスクプレートは 、成膜すべき基板前面に載設され、場合によっては圧着された。しかしその場合 に特に留意すべき点は、このマスクによって成形される成膜層が著しく細い移行 区域を有していること、すなわち成膜区域から非成膜区域へ移行する層段がシャ ープに境界づけられていることである。この移行区域の幅は、実質的に３つのフ ァクターに関連している、すなわち： １．膜生成粒子が基板−マスク区域に衝突する衝突角度、 ２．制限縁におけるマスク材料の肉厚、及び ３．マスクと基板との距離に関連している。

【０００３】 しかしながら、これまで使用された前記の公知の解決手段は、マスクと基板と の気密な密閉部を作るためには、マスクも基板も共に著しく扁平でなければなら ず、起伏状に湾曲していてはならない。このような起伏は大型のマスク及び基板 の場合に特に問題になる。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

本考案の課題は、基板上に成膜層を製造する場合に常に成膜基板面から非成膜 基板面への移行区域において常にシャープな層段を得ることができるようにする ことである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

前記課題を解決する本考案の構成手段は、弾性的な薄膜状のマスクが前面側の 基板ホルダーと結合されており、しかも該マスクの輪郭形状は、マスク縁部が前 記前面側の基板ホルダーから平行な間隔をおいて張出すように成形されており、 前記マスクが前記前面側の基板ホルダーによって所定の角度をとって、基板の成 膜すべき前面へ導かれており、かつ、前面側の基板ホルダーを超えて張出してい る前記のマスク縁部が、基板の前面に圧着される点にある。

【０００６】

【作用】

本考案の構成手段によって、たとえ基板前面又はマスクが真っ平らでないよう な場合でさえも、マスクを常に基板上に気密に載せることができるという利点が 得られる。

【０００７】 本考案の有利な実施態様及びその他の構成手段は請求項２以降に記載した通り である。

【０００８】 ディスプレイの画像スクリーンに成膜する場合の１具体例では、層厚約１５０ ｎｍの成膜層が基板上に被着された。その場合、銅−ベリリウム薄膜から成る使 用マスクの肉厚は０．１ｍｍであり、またマスク角度δ、すなわち基板前面に対 するマスク薄膜の衝突角度は約２０〜３０°であった。

【０００９】 成膜工程時に前記マスクが曝される温度は２００℃の温度範囲内にあった。

【００１０】

【実施例】 次に、多種多様の実施態様を可能にする本考案をその１実施例について図面に 基づいて詳説する。

【００１１】 成膜すべき扁平な基板１は、図示を省いた真空室内に設けられたベース体２に よって、基板１とベース体２の互いに対面した両端面間に狭いギャップ３を残存 させるように、周方向で取り囲まれている。ベース体２の扁平な前面には、前面 側の基板ホルダー４が固定されており、該基板ホルダーは膜生成源の方に向いて いる。膜生成源自体は、図面を簡単にするために図示されていないが、該膜生成 源の位置は成膜方向Ｂによって明確に特定されている。実質的に扁平な基板ホル ダー４は、基板中心寄りの自由端部に、ノーズ状の屈曲部５を有し、該屈曲部５ は成膜方向Ｂへ基板１の方に向かって方向づけられている。

【００１２】 前記前面側の基板ホルダー４の背面にはフレキシブルなマスク６が固定されて おり、この場合その固定は例えばリベット７によって行なうことができる。該マ スク６は所定の固有剛さを有する材料から成り、薄膜状であり、マスクの初期形 状は扁平である。いマスク６は角度δだけ基板１の方に向かって屈曲されて屈曲 部５を形成してる。基板１は、背面側の基板ホルダー８と固定的に結合された保 持ばね９によってマスク６に圧着される。その際、角度δだけ曲げられたマスク ６は、該マスク６の弾性的な端部が基板１の前面に対して平行に延びて該前面に 密着するまで、基板１の成膜すべき前面上を基板中心の方へ摺動する。

【００１３】 こうして成膜方向Ｂに従って膜生成源から基板１上に成膜層１０が被着され、 該成膜層は、周方向に延びる外縁に沿ってマスク６によって制限されてシャープ なエッジを形成する。

【図面の簡単な説明】

【図１】成膜すべき基板の縁部区域に本考案のマスクを
備えた基板保持装置の断面図である。

【符号の説明】

１ 基板、 ２ ベース体、 ３ ギャップ、
４ 前面側の基板ホルダー、 ５ ノーズ状の屈曲
部、 ６ マスク、 ７ リベット、 ８背面側の
基板ホルダー、 ９ 保持ばね、 １０ 成膜層、
Ｂ 成膜方向、 δ 角度

Claims (13)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 スパッタリング法、真空蒸着法又は化学
   的気相成長法のような成膜法の実施中に、実質的に扁平
   な基板（１）を保持するための少なくとも２部構成の基
   板ホルダーから成る基板保持装置であって、前記基板ホ
   ルダーの前面側部分（７）が、膜生成源の方に向いた基
   板前面をマスク状に被覆しかつ前記基板ホルダーの背面
   側部分（８）が、膜生成源から離反した方の基板（１）
   の背面側に設けられている形式のものにおいて、弾性的
   な薄膜状のマスク（６）が前面側の基板ホルダー（４）
   と結合されており、しかも該マスク（６）の輪郭形状
   は、マスク縁部が前記前面側の基板ホルダー（４）から
   平行な間隔をおいて張出すように成形されており、前記
   マスク（６）が前記前面側の基板ホルダー（４）によっ
   て所定の角度（δ）をとって、基板（１）の成膜すべき
   前面へ導かれており、かつ、前面側の基板ホルダー
   （４）を超えて張出している前記のマスク縁部が、基板
   （１）の前面に圧着されることを特徴とする、基板保持
   装置。
2. 【請求項２】 背面側の基板ホルダー（８）に保持ばね
   （９）が設けられている、請求項１記載の基板保持装
   置。
3. 【請求項３】 基板（１）が保持ばね（９）によってマ
   スク（６）に圧着される、請求項２記載の基板保持装
   置。
4. 【請求項４】 マスク（６）が固有剛さを有する材料か
   ら成る、請求項１記載の基板保持装置。
5. 【請求項５】 マスク（６）がＣｒ−Ｎｉ鋼又はＣｕ−
   Ｂｅ合金から製造されている、請求項４記載の基板保持
   装置。
6. 【請求項６】 前面側の基板ホルダー（４）がノーズ状
   の屈曲部（５）を有している、請求項１記載の基板保持
   装置。
7. 【請求項７】 屈曲部（５）が基板前面に対して所定の
   角度（δ）を有している、請求項６記載の基板保持装
   置。
8. 【請求項８】 マスク（６）が、前面側の基板ホルダー
   （４）の、膜生成源から離反した方の背面に固定されて
   いる、請求項１記載の基板保持装置。
9. 【請求項９】 マスク（６）の肉厚が、基板（１）の前
   面に被着すべき成膜層（１０）の層厚の複数倍に選ばれ
   ている、請求項１記載の基板保持装置。
10. 【請求項１０】 マスク（６）の固有剛さが、該マスク
    （６）を基板前面の起伏に追従させて基板前面に密着さ
    せうるように選ばれている、請求項１又は４記載の基板
    保持装置。
11. 【請求項１１】 マスク（６）が枠状に構成されてい
    る、請求項１記載の基板保持装置。
12. 【請求項１２】 マスク（６）が、基板前面の周方向に
    延びる外縁を被覆している、請求項１１記載の基板保持
    装置。
13. 【請求項１３】 マスク（６）が任意の形状に構成可能
    である、請求項１記載の基板保持装置。