JPH05223797A - イオンクロマトグラフィー測定方法及び測定装置 - Google Patents

イオンクロマトグラフィー測定方法及び測定装置

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JPH05223797A
JPH05223797A JP4058920A JP5892092A JPH05223797A JP H05223797 A JPH05223797 A JP H05223797A JP 4058920 A JP4058920 A JP 4058920A JP 5892092 A JP5892092 A JP 5892092A JP H05223797 A JPH05223797 A JP H05223797A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】VLSIの製造などに使用される超純水は、pp
b 以下の高純度が要求され、この測定にはイオンクロマ
トグラフが使用されるが、現状では、かかる低濃度領域
では信頼性のある検量線の作成ができない。検量線作成
のための標準液のゼロ水のばらつきや標準液調製時の外
部汚染を低減し、高精度の検量線を作成し、これにより
ppt オーダーの低濃度領域の定量ができるようにする。 【構成】試料溶液を導入する被測定イオン濃縮カラムを
通した超純水を、新設した標準液調製用槽にため、この
超純水をゼロ水として被測定イオン標準液を調製し、こ
の標準液を前記濃縮カラムに導入し、濃縮、測定して検
量線を作成する。上記ゼロ水を含む標準液調製などの操
作は、外気と非接触で装置内部で行なわれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、イオンクロマトグラフ
ィー(測定方法)及びイオンクロマトグラフ(測定装
置)に関するもので、特に超純水のような低濃度の不純
物分析に使用されるものである。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの高密度高集積化に伴
い、半導体製造プロセスで使用される超純水の水質は、
より高純度を必要とされることは周知の通りである。
【0003】水質管理項目の中で塩素(Cl )等の陰イ
オン不純物濃度は、イオンクロマトグラフを用いて測定
することが規格化されているが、現状の超純水中の陰イ
オン濃度は、極めて低く、すでに定量できる下限値以下
のレベルであり、水質レベルは測定能力に依存した形
で、限界に来ている。
【0004】このような試料溶液中の微量な陰イオン不
純物濃度を測定する従来のイオンクロマトグラフ装置に
ついて、図2を参照して説明する。同図は、従来の装置
の基本構成概略図である。該装置は、試料溶液1、溶離
液2、これら溶液を送液するための送液ポンプ(P1
3、(P2 )4、被測定イオン(目的イオンとも呼ぶ)
濃縮カラム5、被測定イオン分離カラム6、及び液の流
路を切り換えるための6方バルブ(V1 )7等より構成
されている。
【0005】次に上記装置を使用して、試料溶液中の微
量のイオン濃度を測定する方法について説明する。まず
6方バルブ(V1 )7の流路(円周枠内に示す弧状の実
線または破線)を、実線の状態(Aモードと呼ぶ)にし
ておく。次に試料溶液1を、送液ポンプ(P1 )3によ
り、6方バルブV1 の実線流路を経て、濃縮カラム5
に、一定時間(すなわち一定量)通過させ、目的イオン
のみを吸着濃縮させる。目的イオンを濃縮カラム5によ
り除去した溶液は、6方バルブV1 の他の実線流路を経
て、ドレイン8より捨てられる。一方このAモードの
間、溶離液2は、送液ポンプ(P2 )4より、6方バル
ブV1 の実線流路を経て分離カラム6を通って、図示し
てないが、サプレッサー、検出器を流れ、ドレイン9に
導かれ、分離カラムやサプレッサー等に残っている前の
測定時の試料を流し出し、洗浄する。
【0006】次に6方バルブ(V1 )7の流路を、破線
の状態(Bモードと呼ぶ)に切り換える。溶離液2を送
液ポンプ(P2 )4により、6方バルブV1 の破線流路
を経て濃縮カラム5に通し、吸着濃縮されている目的イ
オンを、該濃縮カラム5から脱離させ、6方バルブV1
の他の破線流路を経て分離カラム6へと導き、図示しな
いサプレッサー、検出器を通し、検出器により目的イオ
ン濃度が測定される。測定後、溶離液は、ドレイン9か
ら流れ出る。
【0007】現状の超純水中の陰イオンレベルは、測定
器であるイオンクロマトグラフの検出器などの性能上で
は、原理的に十分測定可能な濃度であるにもかかわら
ず、定量のための検量線が、高純度の低濃度領域では、
値のばらつきが大きいため作成できず、信頼性が極端に
低いものとなる。すなわち高精度の検量線の作成ができ
るかどうかが、定量できる濃度の下限値を決めている。
【0008】周知の通り、検量線(working curve )
は、例えば超純水中のイオン濃度などと測定値との関係
を表わしたグラフで、機器分析において一連の標準液な
どを用いてあらかじめ作成しておき、これを利用して定
量を行なうために使用するものである。従来技術では、
この検量線作成のため、装置外部において、既知濃度の
陰イオンを含む標準液を複数種類調製するが、その際の
ゼロ水(陰イオン濃度ゼロと見做す純水)には、被測定
試料と同じ、もしくは同レベルの超純水を用いるため、
ゼロ水のばらつきの影響が大きく、また標準液の陰イオ
ンレベルはppt (10-12 )レベルと非常に低濃度である
ため、標準液調製時の雰囲気、治具、ハンドリング等に
よる汚染の影響を受けやすいことなどにより、高精度の
検量線の作成が困難となる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】これまで述べたよう
に、超LSIの製造などに使用される超純水は、例えば
陰イオンレベルはppb 以下と、極めて高純度が要求さ
れ、現状では、超純水中の陰イオン濃度は、定量できる
下限値以下の低濃度である。このような低濃度領域で
は、定量のための信頼性のある検量線作成ができない。
これは、検量線作成のための標準液のゼロ水の純度のば
らつき及びppt レベルと非常に低濃度の標準液を使用す
るので、標準液調製時の雰囲気等より外部汚染の影響を
受けやすいこと等による。
【0010】本発明は、上記低濃度領域における検量線
を、高精度に作成することにより、低濃度の超純水レベ
ル(ppt オーダー)の定量が可能な高定量感度のイオン
クロマトグラフィー測定方法及びその測定装置を提供す
ることを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
イオンクロマトグラフィー測定方法は、イオンクロマト
グラフ装置内部で、試料溶液を導入する被測定イオン濃
縮カラムに、超純水を通過させた後、この通過させた超
純水をゼロ水として被測定イオンの標準液を調製し、こ
の標準液を利用して定量的に被測定イオンの分析を行な
う測定方法である。
【0012】なお、超純水については、公認された明確
な定義はないが、本明細書における超純水は、VLSI
等の半導体装置の製造に使用される高純度の純水で、溶
解物質としてはppb 以下の低濃度の純水である。
【0013】本発明の請求項2に係るイオンクロマトグ
ラフ装置は、前記請求項1に係るイオンクロマトグラフ
ィー測定方法を実施するために必要な装置であって、試
料溶液を導入する被測定イオン濃縮カラムと、該濃縮カ
ラムに連結し、該カラムを通過させた超純水をゼロ水と
して調製する被測定イオン標準液調製用(希釈用)槽と
を具備することを特徴とする装置である。
【0014】
【作用】本発明のイオンクロマトグラフィー測定方法に
おいては、超純水を陰イオン等の被測定イオン濃縮カラ
ムを通過させ、この被測定イオンが除去された超純水を
ゼロ水として使用し、検量線作成のための被測定イオン
の標準液を調製する。次にこの標準液を同一の被測定イ
オン濃縮カラムに導入し濃縮、測定するので、従来技術
に比し、ゼロ水のばらつきや器差等による標準液濃度の
測定値の変動は大幅に低減される。
【0015】また従来は、低濃度の前記標準液は、装置
外部で調製されるため、雰囲気や取扱い等による外部汚
染の影響を受けやすいのに対し、本発明においてはイオ
ンクロマトグラフ装置の内部で、後述するように、大気
とも非接触で、標準液の調製をするので、外部からの汚
染は防止される。
【0016】本発明のイオンクロマトグラフィー測定方
法とその測定装置によれば、上記作用により低濃度領域
(ppt オーダー)における検量線を高精度に作成でき
る。
【0017】
【実施例】以下、図面を参照し、本発明の実施例を説明
する。図1に本発明のイオンクロマトグラフ装置の実施
例の構成概略図を示す。なお同図において、図2と同符
号は同一部分または対応する部分を示すので説明を一部
省略する。
【0018】図1に示す装置は、図2に示す従来装置の
基本構成に加え、装置内部に被測定イオン標準液調製用
槽10を設け、槽10には装置外部より濃い標準液をシ
リンジ11により注入するためのシリンジ注入口12が
設けられている。なお図1において垂直破線は、装置の
内部と外部との境界を示す。試料溶液槽1aと送液ポン
プ(P1 )3との間に2方バルブ(V2 )13を、また
バルブ(V1 )7とドレイン8との間に2方バルブ(V
3 )14をそれぞれ設ける。標準液調製用槽10とバル
ブ(V2 )13と、及び槽10とバルブ(V3 )14と
はそれぞれ互いにつながっている。また槽10の高さ方
向の位置は、バルブ(V3 )14の下部に、またバルブ
(V2 )13の上部に位置し、バルブ(V3 )14出口
と槽10の上部と及びバルブ(V2 )13入口と槽10
の下部とが、それぞれ互いに接続されている。なお槽1
0上部には、高純度窒素ライン15及びドレインライン
16がニードルバルブ(逆止弁)(V5 ) 17及び(V
4 )18を介して接続されている。符号5は、試料溶液
を導入する被測定イオン濃縮カラムである。
【0019】次に上記構成の装置を用いた本発明の測定
方法の実施例を説明する。
【0020】従来は装置外部で超純水を用いて調製した
標準液を試料液槽1aより装置内に導入し、濃縮、測定
し、検量線を作成していた。
【0021】これに対し、本発明では、超純水を試料溶
液槽1aより装置内に導入し、被測定イオン濃縮カラム
5を通過させた後、6方バルブ(V1 )7及び2方バル
ブ(V3 )14等を介して連結された被測定イオン標準
液調製用槽10にたくわえる。一定容量たくわえた後、
この被測定イオンを除去した超純水を、濃度 0のゼロ水
と見做し、装置外部よりシリンジ11を用い、濃い標準
液をシリンジ注入口12より槽10に注入し、所望濃度
の標準液を調製する。以下公知の方法により、この標準
液を被測定イオン濃縮カラム5に導入、濃縮した後、溶
離液2を送液ポンプ(P2 )4により濃縮カラム5に通
し、濃縮された被測定イオンを脱離させ、分離カラム6
へ導き、検出器により標準液中の被測定イオン濃度を測
定する。異なる濃度の標準液ごとに上記測定を繰り返
し、検量線を作成する。
【0022】上記測定に際し、バルブV1 ないしV5
切り換えは、タイマーにより一定のシーケンスに従って
自動的に行なわれる。以下、各シーケンスの動作及びシ
ーケンスごとのバルブの状態等を含め、上記測定方法に
ついてさらに詳細に説明する。
【0023】
【表1】
【0024】表1はシーケンスごとのバルブの状態を示
すものである。バルブV1 、V2 及びV3 では、円周枠
内の実線で示す流路の場合をAモード、破線で示す流路
の場合をBモードとし、バルブV4 及びV5 の場合は流
路の開閉を、単に開及び閉で示す。
【0025】シーケンス1において、まず試料溶液槽1
aより、超純水を濃縮カラム5に通し、目的イオン(被
測定イオン)を除去した超純水を標準液調製用槽10に
ためる。このとき溶離液2は、分離カラム6を通り、測
定ラインの洗浄を行なっている。
【0026】この時、シリンジ11より濃い標準液を槽
10のシリンジ注入口12より、槽10内に注入し、超
純水19と混合し、低濃度の標準液を調製する。この実
施例では、(数〜数十)ppb の標準液を(10〜 100)μ
l 外部より注入し、( 100〜1000)倍希釈し、(数〜数
百)ppt の各種濃度の標準液を調製した。液量は10ml、
槽10の容積は約20mlとした。槽10内は常に高純度窒
素ガスでパージされている。続いてシーケンス2におい
て、濃縮カラム5の再生及び槽10からのラインの置換
が行なわれる。次にシーケンス3において、槽10内で
調製した標準液の一部の一定容量約10mlを濃縮カラム5
に送り濃縮する。この間に、シーケンス2において分離
カラムに入ったイオンは、放出される。
【0027】次にシーケンス4において、溶離液2を濃
縮カラム5を通し、濃縮された標準液中の目的イオンを
濃縮カラム5より脱離させ、分離カラム6に導き、図示
してないがサプレッサー→検出器→ドレイン9に流し、
検出器により目的イオン濃度を測定する。この時試料溶
液槽1aより超純水を槽10に送り、槽10内を水洗
し、バルブ(V4 )18より排液する。このときバルブ
(V5 )17は閉じておく。
【0028】十分に洗浄後、シーケンス5に移る。バル
ブ(V2 )13及び(V3 )14を切り換え、バルブ
(V5 )17を開け、高純度窒素ガスを流し、槽10に
たまった超純水で配管内に残っていた液をドレイン8に
押し出し置換する。このとき槽10が空になり、ライン
に窒素が入らないように注意する。続いてシーケンス6
においてバルブ(V1 )7の流路Aに残っている液を置
換するため,バルブ(V2 )13及びバルブ(V1 )7
をAモードに切り換え、次にシーケンス7においてバル
ブ(V1 )7をBモードに切り換え、流路Bに残ってい
る液を置換する。
【0029】この後、シーケンス1に戻り、次の標準液
の作成及び測定に入る。このようにシーケンス1ないし
7の操作を繰り返し、異なる濃度の複数種類の標準液に
ついて、それぞれの濃度測定を行ない、検量線を作成す
る。
【0030】また測定終了時には、シーケンス8で示す
ようにバルブ(V4 )18、バルブ(V5 )17を閉
じ、槽10内及び配管内が汚れないよう、高純度窒素ガ
スを満たしておく。気泡が誤ってラインに入った場合
は、カラムに入らないよう、ポンプ(P1 )3及び(P
2 )4を稼働し、必ず気泡抜きを行なった。なお、配管
及び標準液調製用槽等試料溶液の接触部には、材質とし
て、陰イオン等の不純物イオンの溶出が少ないPEEK
(ポリエーテルエーテルケトン)樹脂を使用した。
【0031】以上述べたイオンクロマトグラフィー測定
方法と測定装置では、超純水を被測定イオン濃縮カラム
を通し、被測定イオンを除去した後、この超純水をゼロ
水として用いたこと、このゼロ水を用いて調製した標準
液を同じ被測定イオン濃縮カラムを通し濃縮、測定する
こと、及びゼロ水を含む標準液調製がすべて装置内部で
行なわれ外部からの汚染が実質的にないこと等により、
高精度の検量線を作成することができた。これによりpp
t オーダーの超純水レベルの低濃度被測定試料の定量分
析を高精度に行なうことができる。すなわち塩素イオン
(Cl - )で、80ppt から 5ppt 、弗素イオン(F-
で、20 pptから1 ppt まで定量下限を下げることができ
た。
【0032】
【発明の効果】これまで詳述したように、本発明によ
り、低濃度領域における検量線を、高精度に作成するこ
とができ、これによりppt オーダーの低濃度の超純水レ
ベルの定量が可能な高定量感度のイオンクロマトグラフ
ィー測定方法及びその測定装置を提供することができ
た。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のイオンクロマトグラフ装置の実施例の
基本構成概略図を示す。
【図2】従来のイオンクロマトグラフ装置の基本構成概
略図である。
【符号の説明】
1 試料溶液 2 溶離液 3 送液ポンプP1 4 送液ポンプP2 5 被測定イオン濃縮カラム 6 被測定イオン分離カラム 7 6方バルブ(V1 ) 8 ドレイン 9 サプレッサー→検出器→ドレイン 10 標準液調製用(希釈用)槽 11 シリンジ 12 シリンジ注入口 13 2方バルブ(V2 ) 14 2方バルブ(V3 ) 15 高純度窒素ライン 16 ドレインライン 17 ニードルバルブ(V5 ) 18 ニードルバルブ(V4 ) 19 超純水(希釈標準液)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】超純水を、試料溶液を導入する被測定イオ
    ン濃縮カラムを通過させた後、この通過させた超純水を
    ゼロ水として調製した被測定イオン標準液を利用して定
    量的に被測定イオンの分析を行なうことを特徴とするイ
    オンクロマトグラフィー測定方法。
  2. 【請求項2】試料溶液を導入する被測定イオン濃縮カラ
    ムと、該濃縮カラムに連結し、該カラムを通過させた超
    純水をゼロ水として調製する被測定イオン標準液調製用
    槽とを備えた請求項1記載の測定方法を実施するイオン
    クロマトグラフィー測定装置。
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