JP2024027294A - 不純物取得システム、品質検査システムおよび液体製造供給システム - Google Patents
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Abstract
【課題】液体の品質の効率的な検査を行う。【解決手段】検査対象液中の不純物を吸着する濃縮カラム２００と、検査対象液を濃縮カラム２００へ通液させる濃縮工程と、濃縮カラム２００に吸着された不純物を溶離させる溶離液５０２を所定量充填容器５０３に充填する溶離液充填工程と、充填容器５０３に充填された溶離液を濃縮カラム２００へ通液させて回収容器に回収する溶離回収工程とを切り替える制御装置７００とを有する。【選択図】図１
Description
本発明は、不純物取得システム、品質検査システムおよび液体製造供給システムに関する。
一般的に、超純水製造設備からユースポイント（例えば、半導体洗浄装置内の使用箇所）へ供給される超純水の水質の検査方法の１つとして、イオン交換体を用いた濃縮法による分析を用いるものが挙げられる。このような濃縮法による分析として、所定の期間、イオン交換体に超純水を通水させて、そのイオン交換体を取り外して回収し、回収したイオン交換体から不純物を溶離させてその濃度を測定することで、超純水の水質を検査する方法が考えられている（例えば、特許文献１参照。）。
上述したような技術においては、超純水の水質検査を行うにはイオン交換体を取り外さなければならなく、その手間がかかってしまい、効率的な検査を行うことができないという問題点がある。
本発明の目的は、液体の品質の効率的な検査を行うことができる不純物取得システム、品質検査システムおよび液体製造供給システムを提供することにある。
本発明の不純物取得システムは、
検査対象液中の不純物を取得する不純物取得システムであって、
前記検査対象液中の不純物を吸着する第１の吸着体と、
前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させる濃縮工程と、前記第１の吸着体に吸着された不純物を溶離させる溶離液を所定量充填容器に充填する溶離液充填工程と、前記充填容器に充填された溶離液を前記第１の吸着体へ通液させて回収容器に回収する溶離回収工程とを切り替える第１の制御装置と、を有する。
検査対象液中の不純物を取得する不純物取得システムであって、
前記検査対象液中の不純物を吸着する第１の吸着体と、
前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させる濃縮工程と、前記第１の吸着体に吸着された不純物を溶離させる溶離液を所定量充填容器に充填する溶離液充填工程と、前記充填容器に充填された溶離液を前記第１の吸着体へ通液させて回収容器に回収する溶離回収工程とを切り替える第１の制御装置と、を有する。
また、本発明の品質検査システムは、
検査対象液中の不純物を吸着する第１の吸着体と、前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させる濃縮工程と、前記第１の吸着体に吸着された不純物を溶離させる溶離液を所定量充填容器に充填する溶離液充填工程と、前記充填容器に充填された溶離液を前記第１の吸着体へ通液させて回収容器に回収する溶離回収工程とを切り替える第１の制御装置と、を有する不純物取得システムと、
前記第１の吸着体に通液された溶離液中の不純物の量を検出する情報処理装置と、
前記検査対象液中の不純物の量を算出する演算処理装置とを備える。
検査対象液中の不純物を吸着する第１の吸着体と、前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させる濃縮工程と、前記第１の吸着体に吸着された不純物を溶離させる溶離液を所定量充填容器に充填する溶離液充填工程と、前記充填容器に充填された溶離液を前記第１の吸着体へ通液させて回収容器に回収する溶離回収工程とを切り替える第１の制御装置と、を有する不純物取得システムと、
前記第１の吸着体に通液された溶離液中の不純物の量を検出する情報処理装置と、
前記検査対象液中の不純物の量を算出する演算処理装置とを備える。
また、本発明の液体製造供給システムは、
検査対象液中の不純物を吸着する第１の吸着体と、前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させる濃縮工程と、前記第１の吸着体に吸着された不純物を溶離させる溶離液を所定量充填容器に充填する溶離液充填工程と、前記充填容器に充填された溶離液を前記第１の吸着体へ通液させて回収容器に回収する溶離回収工程とを切り替える第１の制御装置と、を有する不純物取得システムと、
前記第１の吸着体に通液された溶離液中の不純物の量を検出する情報処理装置と、
前記検査対象液中の不純物の量を算出する演算処理装置と、
前記検査対象液の製造と供給との少なくとも一方を行う液体製造供給設備から前記検査対象液を使用するユースポイントへの前記検査対象液の供給を制御する弁部と、
前記演算処理装置が算出した前記検査対象液中の不純物の量に基づいて、前記弁部を制御する第２の制御装置と、を備える。
検査対象液中の不純物を吸着する第１の吸着体と、前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させる濃縮工程と、前記第１の吸着体に吸着された不純物を溶離させる溶離液を所定量充填容器に充填する溶離液充填工程と、前記充填容器に充填された溶離液を前記第１の吸着体へ通液させて回収容器に回収する溶離回収工程とを切り替える第１の制御装置と、を有する不純物取得システムと、
前記第１の吸着体に通液された溶離液中の不純物の量を検出する情報処理装置と、
前記検査対象液中の不純物の量を算出する演算処理装置と、
前記検査対象液の製造と供給との少なくとも一方を行う液体製造供給設備から前記検査対象液を使用するユースポイントへの前記検査対象液の供給を制御する弁部と、
前記演算処理装置が算出した前記検査対象液中の不純物の量に基づいて、前記弁部を制御する第２の制御装置と、を備える。
本発明においては、液体の品質の効率的な検査を行うことができる。
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。ここでは、検査の対象液が超純水である場合を例に挙げて説明する。
（第１の実施の形態）
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の不純物取得システムの第１の実施の形態を示す図である。本形態における不純物取得システムは図１に示すように、第１の吸着体である濃縮カラム（イオン交換体ユニット）２００と、第２の吸着体であるガードカラム２１０と、弁であるバルブ３０１～３０６と、積算流量計４１１と、溶離液５０２が貯留された容器５０１と、充填容器５０３と、回収容器５０４と、制御装置７００とを有する。
濃縮カラム２００は、超純水製造設備からの検査対象液から不純物を吸着するユニットである。ここで、超純水製造設備は、例えば、ユースポイントである半導体洗浄装置へ供給する超純水を製造し、半導体洗浄装置へ供給する。以下の説明において、この超純水が検査の対象の液体（検査対象液）であり、検査対象液は超純水製造設備から供給される超純水を示す。濃縮カラム２００は、イオン除去またはイオン吸着機能を有する材料であれば良い。濃縮カラム２００として、例えば、イオン吸着膜またはモノリス状有機多孔質、イオン交換樹脂が挙げられる。濃縮カラム２００が除去または吸着する対象物は不純物である。この不純物には、イオン（イオン性金属不純物）や微粒子形態のものが含まれる。本形態において、濃縮カラム２００の官能基は、カチオン交換基、アニオン交換基またはキレート化合物である。
本発明の濃縮カラム２００を用いた濃縮法として、例えば、モノリス状有機多孔質を使用した濃縮法を用いる。ここで用いるモノリス状有機多孔質の構造例としては、特開２００２－３０６９７６号公報や特開２００９－６２５１２号公報に開示されている連続気泡構造や、特開２００９－６７９８２号公報に開示されている共連続構造や、特開２００９－７５５０号公報に開示されている粒子凝集型構造や、特開２００９－１０８２９４号公報に開示されている粒子複合型構造等が挙げられる。また、イオン交換体の構造や材料、性質については、特開２０１９－１９５７６３号公報に開示されているようなものが挙げられる。また、モノリス状有機多孔質において、導入されているイオン交換基や、モノリス状有機多孔質カチオン交換体に導入されているカチオン交換基、モノリス状有機多孔質アニオン交換体に導入されているアニオン交換基は、特開２０１９－１９５７６３号公報に開示されているようなものが挙げられる。
ガードカラム２１０は、超純水製造設備からの検査対象液から不純物を吸着する材料である。ガードカラム２１０は、検査対象液から不純物を吸着除去できるものであれば良く、例えば、濃縮カラム２００と同じものでも良い。
バルブ３０１は、超純水製造設備からの検査対象液や洗浄に使用する液体の本不純物取得システムへの通液を制御する開閉弁である。バルブ３０１は、超純水製造設備から半導体洗浄装置への経路から検査対象液を取得するために用いられる取得手段である。バルブ３０２は、バルブ３０１からの液体（検査対象液や洗浄に使用する液体）をバルブ３０３へ通液する経路として、ガードカラム２１０を経由する経路と経由しない経路とのいずれかを制御する弁である。バルブ３０３は、バルブ３０２からの液体をバルブ３０４と排水経路とのいずれかへの通液を、またバルブ３０４からの液体を排水経路への通液を制御する弁である。バルブ３０４は、バルブ３０３からの液体を濃縮カラム２００へ通液するか、濃縮カラム２００からの溶離液を回収容器５０４へ通液するかを制御する弁である。バルブ３０５は、充填容器５０３から通液される液体（溶離液）と、バルブ３０６からのガスとのいずれか一方が濃縮カラム２００へ通るように、また濃縮カラム２００からの液体をバルブ３０６へ通液されるように制御する弁である。バルブ３０６は、バルブ３０５から通液される液体が積算流量計４１１が設けられている排水経路へ通液されるように、または、パージ工程で供給されるガス（例えば、窒素）またはそのガスにより押し出された液体がバルブ３０５へ排出されるように制御する弁である。これらのバルブは、制御装置７００からの制御信号に従って、開閉や経路選択を行う。また、バルブ３０２～３０６として、例えば三方弁が用いられる。
溶離液５０２は、濃縮カラム２００に濃縮された不純物を溶離する酸性またはアルカリ性の水溶液である。溶離液５０２として、例えば、硝酸や、塩酸、硫酸等の酸性の水溶液またはテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）等の有機性アルカリのアルカリ性の水溶液が挙げられる。溶離液５０２は、金属不純物濃度が１００ｎｇ／Ｌ未満である。溶離液５０２の希釈度は特に限定しない。溶離液５０２は、測定対象の検査対象水を用いて希釈されたものでも良い。
回収容器５０４は、溶離回収工程において濃縮カラム２００から溶離された不純物が含まれる溶離液がバルブ３０４を介して流入する容器である。回収容器５０４としては、例えば、回収ボトルが挙げられるが、溶離液を回収できるものであれば特に限定しない。充填容器５０３は、溶離回収工程にて使用する所定の量の溶離液が充填される容器である。充填容器５０３としては、液体を充填できる構造を持つものであれば良く、例えば、チューブや、ボトル、タンクなどが挙げられる。充填容器５０３がチューブである場合、その形状はループ状でも良い。充填容器５０３は、金属不純物溶出の少ない樹脂製材料からなる容器が挙げられ、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ、ＰＶＤＦなどのフッ素系材料からなるものが好ましい。充填容器５０３をチューブとすることで、充填容器５０３の前段および後段に設けられた構成要素と直接つなぐことができ、部品点数の削減を図ることができる。この充填容器５０３への所定の量の溶離液の充填方法は、ガス圧送やポンプを用いて溶離液５０２を容器５０１から送液する方法でも良い。また、充填容器５０３への溶離液の充填量が所定の量であるかどうかは、例えば、充填容器５０３への溶離液の充填量を測定する計測器や、所定の量の充填を検知するセンサ、所定の量の溶離液の重量を測定する重量計を用いて判定しても良い。積算流量計４１１は、排水として流出される液体の流量を測定する。積算流量計４１１が測定した値は、制御装置７００へ通知される。この通知には、所定の信号が用いられ、この信号を積算流量計４１１が送信し、制御装置７００が受信するものであっても良い。
制御装置７００は、あらかじめ設定された時間に基づいて、バルブ３０１～３０６それぞれの開閉および溶離液５０２の充填容器５０３への充填の開始・終了を制御する第１の制御装置である。この所定の期間の経過は、あらかじめ設定された時間が経過したかどうかに基づいて判定されるものであっても良い。また、制御装置７００は、積算流量計４１１が測定した液体（検査対象液）の量があらかじめ設定された値（閾値）に達したかどうかに基づいて、バルブ３０１～３０６それぞれの開閉を制御しても良い。また、制御装置７００は、上述したセンサの検知結果や重量計の測定結果等に基づいて、ガス圧送やポンプを制御して溶離液５０２の充填容器５０３への充填の開始・終了を制御しても良い。
以下に、図１に示した不純物取得システムにおける不純物取得方法について説明する。この不純物取得方法において、制御装置７００がバルブ３０１～３０６それぞれを制御する。図２は、図１に示した不純物取得システムにおける不純物取得方法の一例を説明するためのフローチャートである。
まず、制御装置７００は、濃縮工程を実行する（ステップＳ１）。図３は、図２に示したフローチャートにおけるステップＳ１の濃縮工程の処理の一例を説明するためのフローチャートである。制御装置７００は、バルブ３０２を、バルブ３０１からの検査対象液がガードカラム２１０を経由せずにバルブ３０３への経路へ流れるように制御する（ステップＳ１１１）。制御装置７００は、バルブ３０３を、バルブ３０２からの検査対象液がバルブ３０４への経路へ流れるように制御する（ステップＳ１１２）。制御装置７００は、バルブ３０４を、バルブ３０３からの検査対象液が濃縮カラム２００へ通液されるように制御する（ステップＳ１１３）。制御装置７００は、バルブ３０５を、濃縮カラム２００に通液された検査対象液がバルブ３０６への経路へ流れるように制御する（ステップＳ１１４）。制御装置７００は、バルブ３０６を、バルブ３０５からの検査対象液が積算流量計４１１を介した排水経路へ流れるように制御する（ステップＳ１１５）。ステップＳ１１１～Ｓ１１５の制御が完了すると、バルブ３０１、バルブ３０２、バルブ３０３、バルブ３０４、濃縮カラム２００、バルブ３０５、バルブ３０６および積算流量計４１１を経由した経路が確立される。ここで、制御装置７００は、バルブ３０１の開閉状態を一旦閉状態として、超純水製造設備からの検査対象液が本システム内に流れないように制御する。続いて、制御装置７００は、積算流量計４１１をリセットする（ステップＳ１１６）。そして、制御装置７００は、バルブ３０１の開閉状態を開状態として、超純水製造設備からの検査対象液が本システム内に流れるように制御する。その後、積算流量計４１１が測定した流量の値が所定の閾値に達したかどうかを制御装置７００が判定する（ステップＳ１１７）。積算流量計４１１が測定した流量の値が所定の閾値に達すると、制御装置７００は、ステップＳ２の工程を行う。
制御装置７００は、パージ工程を実行する（ステップＳ２）。パージ工程では、配管（経路）等にガスを流して、当該配管等に残存している不純物や水等を流し出す処理が行われる。図４は、図２に示したフローチャートにおけるステップＳ２のパージ工程の処理の一例を説明するためのフローチャートである。制御装置７００は、バルブ３０６を、外部から供給されるガス（例えば窒素）がバルブ３０５への経路へ供給されるように制御する（ステップＳ１２１）。ここで使用されるガスの種類として、不活性ガスや、空気（大気）や酸素等が挙げられる。不活性ガスとして、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の希ガスが挙げられる。ガスの純度は、９９．９％以上が好ましく、９９．９９％以上がより好ましく、ガス中の不純物が少ない程好ましい。高純度ガスに含まれる不純物とは、当該ガスが不活性ガスである場合、メタン、酸素、二酸化炭素、水分などを示し、当該ガスが空気および酸素である場合、微粒子、水分などを示す。制御装置７００は、バルブ３０３を、バルブ３０４からのガスやガスにより押し出された液体が排水経路へ排出されるように制御する（ステップＳ１２２）。ステップＳ１２１，Ｓ１２２の制御が完了すると、バルブ３０６、バルブ３０５、濃縮カラム２００、バルブ３０４およびバルブ３０３を経由した経路が確立される。続いて、ガスが注入されてパージが行われる。その後、制御装置７００は、パージが完了したかどうかを判定する（ステップＳ１２３）。この判定は、パージの開始時にバルブ３０６、バルブ３０５、バルブ３０４およびバルブ３０３を一旦閉じてから開き、前記経路を開いてから経過した時間に基づいた判定でも良いし、経路を開いてから注入されたガスの量に基づいた判定でも良い。パージが完了すると、制御装置７００は、ステップＳ３の工程を行う。
制御装置７００は、溶離液充填工程を実行する（ステップＳ３）。図５は、図２に示したフローチャートにおけるステップＳ３の溶離液充填工程の処理の一例を説明するためのフローチャートである。制御装置７００は、容器５０１に貯留されている溶離液５０２の充填容器５０３への充填を開始する（ステップＳ１３１）。例えば、制御装置７００は、ガス圧送やポンプを用いて溶離液５０２を容器５０１から送液する。その後、制御装置７００は、充填容器５０３への溶離液５０２の充填量が所定の量に達したかどうかを判定する（ステップＳ１３２）。この判定は、上述したセンサの検知結果や重量計の測定結果等に基づいて行われても良い。制御装置７００は、充填容器５０３への溶離液５０２の充填量が所定の量に達したと判定すると、溶離液の充填を終了し（ステップＳ１３３）、ステップＳ４の工程を行う。
制御装置７００は、溶離回収工程を実行する（ステップＳ４）。図６は、図２に示したフローチャートにおけるステップＳ４の溶離回収工程の処理の一例を説明するためのフローチャートである。この工程では、ステップＳ３の溶離液充填工程で充填容器５０３に充填された所定の量の溶離液を用いて、濃縮カラム２００の不純物を溶離する。制御装置７００は、バルブ３０５を、充填容器５０３に充填されている溶離液が濃縮カラム２００へ通液されるように制御する（ステップＳ１４１）。このとき、制御装置７００は、容器５０１に貯留されている溶離液５０２が充填容器５０３へ供給されないように制御する。例えば、容器５０１と充填容器５０３との間に開閉バルブを設け、その開閉バルブの開閉状態を制御装置７００が閉状態に制御しても良い。制御装置７００は、バルブ３０４を、濃縮カラム２００を通液した溶離液が回収容器５０４へ回収されるように制御する（ステップＳ１４２）。ステップＳ１４１，Ｓ１４２の制御が完了すると、充填容器５０３から、バルブ３０５、濃縮カラム２００およびバルブ３０４を経由した回収容器５０４への経路が確立される。制御装置７００は、例えば、ガス圧送やポンプを用いて充填容器５０３から溶離液を送液する。制御装置７００は、回収容器５０４への溶離液の回収が完了すると（ステップＳ１４３）、ステップＳ５の工程を行う。回収容器５０４への溶離液の回収が完了したかどうかは、例えば、充填容器５０３からの溶離液の供給がなくなったことをセンサ等を用いて検知した場合に制御装置７００は回収容器５０４への溶離液の回収が完了したと判定しても良い。この溶離回収工程において溶離液を濃縮カラム２００へ通液する方向は、濃縮工程において検査対象液を濃縮カラム２００へ通液させた方向と対向する方向である。濃縮工程にて濃縮カラム２００に通液された検査対象液に含まれる不純物の量（濃度を含む）は、通液方向に従って減少していく。そのため、濃縮工程において検査対象液を濃縮カラム２００へ通液させる方向と対向する方向へ溶離液を通液することで、より少ない量の溶離液を用いて高い回収率を得ることができる。
制御装置７００は、洗浄工程を実行する（ステップＳ５）。図７は、図２に示したフローチャートにおけるステップＳ５の洗浄工程の処理の一例を説明するためのフローチャートである。制御装置７００は、バルブ３０２を、バルブ３０１からの検査対象液がガードカラム２１０へ流れるように制御する（ステップＳ１５１）。制御装置７００は、バルブ３０３を、ガードカラム２１０からの検査対象液がバルブ３０４への経路へ流れるように制御する（ステップＳ１５２）。制御装置７００は、バルブ３０４を、バルブ３０３からの検査対象液が濃縮カラム２００へ通液されるように制御する（ステップＳ１５３）。制御装置７００は、バルブ３０５を、濃縮カラム２００に通液された検査対象液がバルブ３０６への経路へ流れるように制御する（ステップＳ１５４）。制御装置７００は、バルブ３０６を、バルブ３０５からの検査対象液が積算流量計４１１を介して排水経路へ排出されるように制御する（ステップＳ１５５）。ステップＳ１５１～Ｓ１５５の制御が完了すると、バルブ３０１、バルブ３０２、ガードカラム２１０、バルブ３０３、バルブ３０４、濃縮カラム２００、バルブ３０５、バルブ３０６および積算流量計４１１を経由した経路が確立される。ここで、制御装置７００は、バルブ３０１の開閉状態を一旦閉状態として、超純水製造設備からの検査対象液が本システム内に流れないように制御する。続いて、制御装置７００は、積算流量計４１１をリセットする（ステップＳ１５６）。そして、制御装置７００は、バルブ３０１の開閉状態を開状態として、超純水製造設備からの検査対象液が本システム内に流れるように制御する。その後、積算流量計４１１が測定した流量の値が所定の閾値に達したかどうかを制御装置７００が判定する（ステップＳ１５７）。積算流量計４１１が測定した流量の値が所定の閾値に達すると、制御装置７００は、ステップＳ１の工程を行う。
このように本形態においては、濃縮カラム２００を用いて検査対象液中の不純物を捕捉する濃縮工程と、捕捉した不純物を濃縮カラム２００から溶離して回収する溶離回収工程と、不純物が溶離された濃縮カラム２００を検査対象液で洗浄する洗浄工程とを、経路の要所に設けたバルブやポンプ等を所定の期間の経過ごとに制御することで遷移させる。これにより、濃縮カラム２００をシステムから取り外すことなく、検査対象水の水質を検査するための試料を得ることができ、検査対象水の水質の効率的な検査を行うことができる。また、濃縮カラム２００をシステムから取り外してから溶離回収工程を実施する場合、濃縮カラム２００を取り外した際や溶離するための装置に取り付ける際に濃縮カラム２００が汚染するおそれがあり、検査精度が低下し得る。本形態では、濃縮カラム２００をシステムから取り外すことなく繰り返し溶離回収工程を実施することができるため、濃縮カラム２００が汚染することがなく検査精度の低下を抑制することができる。さらに、溶離液回収工程で使用する溶離液は、あらかじめ決められた量だけ使用し、容器に回収し分析する。連続分析の手法として溶離液を検出器（分析装置）に直接導入するフローインジェクション法（ＦＩＡ法）がある。ＦＩＡ法において不純物濃度は、保持時間と変化量とから導かれるピーク面積を用いて算出される。ＦＩＡ法では、不純物ごとに保持時間が異なるため、検出する不純物ごとに溶離液を選定、また、不純物によっては検出器の測定モードを変更する必要があることから、１つの工程で得られた溶離液から複数の不純物を同時に検出することが困難であるという課題がある。一方、本形態では、一定量の溶離液を使用し、容器に回収した後に不純物を検出する。そのため、本形態では、１つの工程で得られた溶離液から複数の不純物を同時に検出することが可能となり、上述したＦＩＡ法の課題を解決することができる。なお、制御装置７００は、パージ工程と、溶離液充填工程とのうち任意の１つの工程のみを実行しても良い。また、制御装置７００は、溶離液充填工程では、溶離液を充填容器５０３以外の部材に充填しても良い。その場合、制御装置７００は、その部材に充填された溶離液を、溶離液回収工程で回収する。なお、制御装置７００は、濃縮工程の前に、バルブ３０１、バルブ３０２、ガードカラム２１０およびバルブ３０３を経由した経路を洗浄するライン洗浄工程を行っても良い。ライン洗浄工程を設けることで、超純水製造設備から不純物取得システムまでの間の配管中の溜水を排出できるため、超純水製造設備から通水を開始した状態で濃縮工程へ移行することができる。
（第２の実施の形態）
（第２の実施の形態）
図９は、本発明の不純物取得システムの第２の実施の形態を示す図である。本形態における不純物取得システムは図９に示すように、図１に示した形態における構成要素に加えて、バルブ３０７と、再生液５０６が貯留された容器５０５と、充填容器５０７とを有する。また、本形態における不純物取得システムは図９に示すように、図１に示した形態における制御装置７００の代わりに、制御装置７０１を有する。
再生液５０６は、濃縮カラム２００に濃縮された不純物を溶離して洗浄した後に、再生工程において濃縮カラム２００を再生させるための酸性またはアルカリ性の液体である。再生液５０６は、容器５０５のようなボトル等の容器に入れられている。再生液５０６は、金属不純物濃度が１００ｎｇ／Ｌ未満である。
充填容器５０７は、再生工程にて使用する所定の量の再生液が充填される容器である。充填容器５０７の部材は、充填容器５０３の部材と同じでも良い。この充填容器５０７への所定の量の再生液の充填方法は、ガス圧送やポンプを用いて再生液５０６を容器５０５から送液する方法でも良い。また、充填容器５０７への再生液の充填量が所定の量であるかどうかは、例えば、充填容器５０７への再生液の充填量を測定する計測器や、所定の量の充填を検知するセンサ、所定の量の再生液の重量を測定する重量計を用いて判定しても良い。
バルブ３０７は、バルブ３０６からのガスと、充填容器５０７から通液される液体（再生液）とのいずれか一方が濃縮カラム２００へ通るように、またバルブ３０５を介した濃縮カラム２００からの液体をバルブ３０６へ通液されるように制御する弁である。バルブ３０７は、制御装置７０１からの制御信号に従って、開閉や経路選択を行う。また、バルブ３０７として、例えば三方弁が用いられる。
制御装置７０１は、あらかじめ設定された時間に基づいて、バルブ３０１～３０７それぞれの開閉および溶離液５０２や再生液５０６の充填容器５０３，５０７へのそれぞれの充填の開始・終了を制御する第１の制御装置である。制御装置７０１は、積算流量計４１１が測定した液体（検査対象液）の量があらかじめ設定された値（閾値）に達したかどうかに基づいて、バルブ３０１～３０７それぞれの開閉を制御しても良い。また、制御装置７０１は、上述したセンサの検知結果や重量計の測定結果等に基づいて、ガス圧送やポンプを制御して溶離液５０２や再生液５０６の充填の開始・終了を制御しても良い。
以下に、図８に示した不純物取得システムにおける不純物取得方法について説明する。この不純物取得方法において、制御装置７０１がバルブ３０１～３０７それぞれを制御する。図９は、図８に示した不純物取得システムにおける不純物取得方法の一例を説明するためのフローチャートである。
まず、制御装置７０１は、濃縮工程を実行する（ステップＳ２１）。この処理は、第１の実施の形態における濃縮工程と同じ処理である。続いて、制御装置７０１は、パージ工程を実行する（ステップＳ２２）。この処理は、第１の実施の形態におけるパージ工程と同じ処理である。続いて、制御装置７０１は、溶離液充填工程を実行する（ステップＳ２３）。この処理は、第１の実施の形態における溶離液充填工程と同じ処理である。続いて、制御装置７０１は、溶離回収工程を実行する（ステップＳ２４）。この処理は、第１の実施の形態における溶離回収工程と同じ処理である。続いて、制御装置７０１は、洗浄工程（第１の洗浄工程）を実行する（ステップＳ２５）。この処理は、第１の実施の形態における洗浄工程と同じ処理である。
続いて、制御装置７０１は、再生液充填工程を実行する（ステップＳ２６）。図１０は、図９に示したフローチャートにおけるステップＳ２６の再生液充填工程の処理の一例を説明するためのフローチャートである。制御装置７０１は、容器５０５に貯留されている再生液５０６の充填容器５０７への充填を開始する（ステップＳ２６１）。例えば、制御装置７０１は、ガス圧送やポンプを用いて再生液５０６を容器５０５から送液する。その後、制御装置７０１は、充填容器５０７への再生液５０６の充填量が所定の量に達したかどうかを判定する（ステップＳ２６２）。この判定は、上述したセンサの検知結果や重量計の測定結果等に基づいて行われても良い。制御装置７０１は、再生液５０６の充填量が所定の量に達したと判定すると、再生液の充填を終了し（ステップＳ２６３）、ステップＳ２７の工程を行う。
制御装置７０１は、再生工程を実行する（ステップＳ２７）。図１１は、図９に示したフローチャートにおけるステップＳ２７の再生工程の処理の一例を説明するためのフローチャートである。この工程では、ステップＳ２６の再生液充填工程で充填容器５０７に充填された所定の量の再生液を用いて、濃縮カラム２００を再生する。制御装置７０１は、バルブ３０７を、充填容器５０７に充填されている再生液がバルブ３０７を介して濃縮カラム２００へ通液されるように制御する（ステップＳ２７１）。このとき、制御装置７０１は、容器５０５に貯留されている再生液５０６が充填容器５０７へ供給されないように制御する。例えば、容器５０５と充填容器５０７との間に開閉バルブを設け、その開閉バルブの開閉状態を制御装置７０１が閉状態に制御しても良い。制御装置７０１は、バルブ３０３を、バルブ３０４からの再生液が排水経路へ排出されるように制御する（ステップＳ２７２）。ステップＳ２７１，Ｓ２７２の制御が完了すると、充填容器５０７から、バルブ３０７、バルブ３０５、濃縮カラム２００、バルブ３０４およびバルブ３０３を経由して再生液が通液されて排水される経路が確立される。制御装置７０１は、例えば、ガス圧送やポンプを用いて充填容器５０７から再生液を濃縮カラム２００へ送液する。制御装置７０１は、充填容器５０７に充填されていた再生液の送液が完了すると（ステップＳ２７３）、ステップＳ２８の工程を行う。充填容器５０７に充填されていた再生液の送液が完了したかどうかは、例えば、充填容器５０７からの再生液の供給がなくなったことをセンサ等を用いて検知した場合に制御装置７０１は充填容器５０７に充填されていた再生液の送液が完了したと判定しても良い。この再生工程において再生液を濃縮カラム２００へ通液する方向が、濃縮工程において検査対象液を濃縮カラム２００へ通液させた方向と対向する方向である。
制御装置７０１は、洗浄工程（第２の洗浄工程）を実行する（ステップＳ２８）。この処理は、ステップＳ２５の洗浄工程と同じ処理である。制御装置７０１は、ステップＳ２８の処理が完了した後、ステップＳ２１の処理を行う。
このように本形態においては、濃縮カラム２００を用いて検査対象液中の不純物を捕捉する濃縮工程と、捕捉した不純物を濃縮カラム２００から溶離して回収する溶離回収工程と、不純物が溶離された濃縮カラム２００を検査対象液で洗浄する洗浄工程とを、経路の要所に設けたバルブやポンプ等を所定の期間の経過ごとに制御することで遷移させる。これにより、濃縮カラム２００をシステムから取り外すことなく、検査対象水の水質を検査するための試料を得ることができ、検査対象水の水質の効率的な検査を行うことができる。また、濃縮カラム２００をシステムから取り外してから溶離回収工程を実施する場合、濃縮カラム２００を取り外した際や溶離するための装置に取り付ける際に濃縮カラム２００が汚染するおそれがあり、検査精度が低下し得る。本形態では、濃縮カラム２００をシステムから取り外すことなく溶離回収工程を実施することができるため、濃縮カラム２００が汚染することがなく検査精度の低下を抑制することができる。さらに、溶離液回収工程で使用する溶離液を、あらかじめ決められた量だけ使用する。これにより、一定量を回収した後に分析を行うため、溶離液内の不純物濃度が時間的に変化のない均一な値となり、正確な値を得ることができる。なお、制御装置７０１は、パージ工程と、溶離液充填工程とのうち任意の１つの工程のみを実行しても良い。また、制御装置７０１は、溶離液充填工程では、溶離液を充填容器５０３以外の部材に充填しても良い。その場合、制御装置７０１は、その部材に充填された溶離液を、溶離液回収工程で回収する。さらに、制御装置７０１は、再生工程で使用する再生液を、あらかじめ決められた量だけ使用する。これにより、再生工程では無駄のない再生液の使用を実現することができる。一般的に行われているような濃縮カラム２００を一旦取り外して再生を行い取り付けるという手順では、濃縮カラム２００を取り外した際や再生するための装置に取り付ける際に濃縮カラム２００が汚染するおそれがあり、検査精度が低下し得る。本形態では、濃縮カラム２００をシステムから取り外すことなく繰り返し再生工程を実施することができるため、取り外しや取り付けの時間を省くことができ、濃縮カラム２００が汚染することがなく検査精度の低下を抑制することができる。
（第３の実施の形態）
（第３の実施の形態）
図１２は、本発明の不純物取得システムの第３の実施の形態を示す図である。本形態における不純物取得システムは図１２に示すように、濃縮カラム２００－１～２００－３と、バルブ３０１－１～３０１－３，３０４－１～３０４－３，３０５－１～３０５－３と、溶離液５０２－１～５０２－３それぞれが貯留された容器５０１－１～５０１－３と、充填容器５０３－１～５０３－３と、回収容器５０４－１～５０４－３と、制御装置７０２とを有する。つまり、本形態における不純物取得システムは、第１の実施の形態における不純物取得システムの構成要素を並列に３系統設けた形態である。図１２においては、第１の実施の形態における他のバルブや流量計については、図示の便宜上、割愛している。濃縮カラム２００－１～２００－３それぞれは、濃縮カラム２００に相当する。バルブ３０１－１～３０１－３それぞれは、バルブ３０１に該当する。バルブ３０１－１～３０１－３それぞれは、濃縮カラム２００－１～２００－３それぞれを用いて検査対象液を濃縮する、互いに異なるポイントに設けられている。これらのポイントは、検査対象液を製造する超純水製造設備から当該検査対象液を使用するユースポイントまでの経路上（ライン方向）の任意の場所であり、互いに離れていても良い。バルブ３０４－１～３０４－３それぞれは、バルブ３０４に相当する。バルブ３０５－１～３０５－３それぞれは、バルブ３０５に相当する。溶離液５０２－１～５０２－３それぞれが貯留された容器５０１－１～５０１－３それぞれは、容器５０１に相当する。充填容器５０３－１～５０３－３それぞれは、充填容器５０３に相当する。回収容器５０４－１～５０４－３それぞれは、回収容器５０４に相当する。なお、溶離液５０２－１～５０２－３は、１つの容器から汲み上げられるものであっても良い。また、回収容器５０４－１～５０４－３が１つの容器であっても良い。
制御装置７０２は、第１の実施の形態における制御装置７００と同様に、バルブ３０１－１～３０１－３，３０４－１～３０４－３，３０５－１～３０５－３を制御する。各系統内における濃縮工程、パージ工程、溶離液充填工程、溶離回収工程および洗浄工程それぞれの処理については、第１の実施の形態と同じである。第３の実施の形態においては、各系統間における濃縮工程、パージ工程、溶離液充填工程、溶離回収工程および洗浄工程の処理のタイミングを制御装置７０２が制御する。
図１３は、図１２に示した制御装置７０２が行う系統間のタイミング制御の一例を説明するためのタイムチャートである。濃縮カラム２００－１を具備する系統（以下、系統Ａと称する）と、濃縮カラム２００－２を具備する系統（以下、系統Ｂと称する）と、濃縮カラム２００－３を具備する系統（以下、系統Ｃと称する）とのそれぞれにおいて、濃縮工程、パージ工程、溶離液充填工程、溶離回収工程および洗浄工程が順次繰り返して行われる。このとき、制御装置７０２は、系統Ａと系統Ｂと系統Ｃとで、各系統における溶離回収工程が行われるタイミングが、系統間で重ならないように制御する。また、制御装置７０２は、系統Ａと系統Ｂと系統Ｃとの少なくとも１つの系統の濃縮カラムに検査対象液が通液されるようにバルブ３０１－１～３０１－３，３０４－１～３０４－３，３０５－１～３０５－３を制御する。つまり、制御装置７０２は、超純水製造設備等から供給された検査対象液の濃縮カラム２００－１～２００－３への通液を切り替える制御を行う。本形態においては、３つの系統を並列に設けた例を挙げて説明したが、系統の数はこれに限らない。回収容器５０４－１～５０４－３が１つの容器であっても、上述したように回収のタイミングを複数のポイントで互いに異なるタイミングとすることで、各濃縮カラムそれぞれについて別個の分析が可能となる。また、分析や他の工程のタイミングが重なった場合においても、制御装置７０２により溶離回収工程を行うタイミングを制御することにより別個の溶離液回収が可能である。
このように本形態においては、互いに異なるポイントで検査対象液の分析を行うための複数の系統を並列に設け、各系統間における溶離回収工程が行われるタイミングを系統間で重ならないように制御する。こうすることで、濃縮工程を連続的に実行することができるため、検査結果を連続的に得ることができる。
以下に、上述した不純物取得システムが用いられる形態について説明する。図１４は、本発明の不純物取得システムを適用した液体製造供給システムの一例を示す図である。図１４に示す形態は、超純水製造設備内の非再生型イオン交換装置であるＣＰ１０００と、限外ろ過装置であるＵＦ１１００とを経由して半導体洗浄装置（ユースポイント）へ超純水が供給されるシステムである。ＣＰ１０００へ供給される超純水（検査対象水）は、上流に設けられた液体製造供給設備から供給される。液体製造供給設備は、超純水を製造する設備でもある。図１４に示した破線は、検査対象液となる超純水の水質を検査するための水の流路または制御信号の経路を示す。
超純水が半導体洗浄装置へ供給される流路は２つの系統があり、そのうち一方の流路には不純物除去ユニット１２００が設けられ、不純物除去ユニット１２００を介して超純水が半導体洗浄装置へ供給されるようになっている。また、ＣＰ１０００とＵＦ１１００との間に開閉弁２０００が設けられている。また、ＣＰ１０００からの水を排水ラインへの流路へ制御する開閉弁２３００が設けられている。また、ＵＦ１１００からの水を排水ラインへの流路へ制御する開閉弁２４００が設けられている。また、超純水を半導体洗浄装置へ供給するための２つ流路それぞれに開閉弁２１００，２２００が設けられている。排水ラインから排出される水は、排水処理設備だけでなく超純水設備に設けられているタンクに回収されても良い。
不純物取得システム１３００は、図１，９，１３それぞれに示した不純物取得システムに相当し、検査対象液となるＣＰ１０００からの超純水またはＵＦ１１００からの超純水について、第１～３の実施の形態で説明した処理を行う。ＩＣＰ－ＭＳ（誘導結合プラズマ質量分析装置）１４００は、取得した溶離液中の不純物の量を検出する装置（情報処理装置）である。演算処理装置１６００は、不純物取得システム１３００の積算流量計４１１が濃縮工程で取得した積算流量と、ＩＣＰ－ＭＳ１４００が検出した溶離液中の不純物の量とにより、検査対象液中の不純物の量（濃度を含む）を算出する装置である。不純物取得システム１３００と、ＩＣＰ－ＭＳ１４００と、演算処理装置１６００とから品質検査システムを構成する。制御装置１５００は、品質検査システムが取得した不純物の量に基づいて、開閉弁２０００，２１００，２２００，２３００，２４００の開閉を制御する第２の制御装置である。なお、制御装置１５００は、上述した制御装置７００～７０２の役割を兼ねても良い。情報処理装置としては、不純物の量を検出できる装置であれば特に制限されず、例えば、ＩＣＰ－ＭＳを用いる方法、ＩＣＰ－ＯＥＳ（誘導結合プラズマ発光分析装置）、原子吸光光度計、イオンクロマト分析装置等が挙げられる。
制御装置１５００は、ＣＰ１０００の出口水について品質検査システムが取得した不純物濃度があらかじめ設定された濃度閾値を超えている場合、開閉弁２０００を閉状態に制御する。このとき、制御装置１５００は、開閉弁２３００を開状態に制御する。また、制御装置１５００は、ＣＰ１０００の出口水について品質検査システムが取得した不純物濃度が濃度閾値以下である場合、開閉弁２０００を開状態とする。このとき、制御装置１５００は、開閉弁２３００を閉状態にする。また、制御装置１５００は、ＵＦ１１００の出口水について品質検査システムが取得した不純物濃度があらかじめ設定された濃度閾値を超えている場合、開閉弁２１００，２２００を閉状態に制御する。このとき、制御装置１５００は、開閉弁２４００を開状態に制御する。また、制御装置１５００は、ＵＦ１１００の出口水について品質検査システムが取得した不純物濃度が濃度閾値以下である場合、開閉弁２１００，２２００を開状態とする。このとき、制御装置１５００は、開閉弁２４００を閉状態に制御する。なお、制御装置１５００は、ＵＦ１１００の出口水について品質検査システムが取得した不純物濃度が第１の濃度閾値以下である場合、開閉弁２１００を開状態に制御し、品質検査システムが取得した不純物濃度が第１の濃度閾値を超えており第２の濃度閾値以下である場合、開閉弁２２００を開状態に制御し、開閉弁２１００を閉状態に制御し、品質検査システムが取得した不純物濃度が第２の濃度閾値を超えている場合、開閉弁２１００，２２００を閉状態に制御するものであっても良い。これは、不純物除去ユニット１２００が設けられている流路は、不純物濃度がある程度高くても、その超純水に含まれる不純物が不純物除去ユニット１２００によって除去されるため、半導体洗浄装置へ供給される超純水の不純物濃度が下がることを利用している。
以下に、図１４に示したシステムにおける処理について説明する。図１５は、図１４に示したシステムにおける処理の一例を説明するためのフローチャートである。ここでは、図１４に示したＵＦ１１００の出口水について品質検査システムが不純物濃度を算出する場合を例に挙げて説明する。まず、ＵＦ１１００の出口水について、不純物取得システム１３００の回収容器５０４に回収された溶離回収液中の不純物の量をＩＣＰ－ＭＳ１４００が検出する（ステップＳ３１）。この検出は、ＩＣＰ－ＭＳ１４００による負圧吸引を用いたものでも良いし、ガスやポンプを用いて送液して検出する方法でも良い。すると、演算処理装置１６００は、不純物取得システム１３００の積算流量計４１１が濃縮工程で取得した積算流量と、ＩＣＰ－ＭＳ１４００が検出した溶離回収液に含まれる不純物の量とにより、ＵＦ１１００の出口水の濃度を算出する（ステップＳ３２）。算出された濃度を示す濃度情報が演算処理装置１６００から制御装置１５００へ送信される。制御装置１５００は送信されてきた濃度情報が示す濃度があらかじめ設定された濃度閾値を超えているかどうかを判定する（ステップＳ３３）。送信されてきた濃度情報が示す濃度が濃度閾値を超えている場合、制御装置１５００は、所定の開閉弁を閉じる（ステップＳ３４）。この所定の開閉弁は、超純水製造設備からの超純水が半導体洗浄装置へ供給されることを阻止する開閉弁であって、例えば、開閉弁２１００，２２００である。このとき、制御装置１５００は、開閉弁２４００を開状態として、超純水を排水ラインへ供給しても良い。続いて、制御装置１５００は、送信されてきた濃度情報が示す濃度が濃度閾値を超えている旨を通知する（ステップＳ３５）。この通知は、システムの管理者や運用者、超純水製造設備の管理者等に対する通知であって、その旨を示す情報の送信や画面の表示等の出力である。ここで、上述したように、濃度と比較する閾値を２つ有し、濃度を２つの閾値それぞれと比較した結果に基づいて開閉弁２１００，２２００の開閉を制御装置１５００が制御しても良い。この制御の具体的な方法は、上述した通りである。また、図１４に示したＣＰ１０００の出口水について品質検査システムが不純物濃度を算出する場合も、上述した処理と同様の処理が行われる。
図１６は、本発明の不純物取得システムを適用した液体製造供給システムの他の例を示す図である。図１６に示した適用例において、ＣＰ１０００，ＵＦ１１００、不純物取得システム１３００、ＩＣＰ－ＭＳ１４００、演算処理装置１６００、制御装置１５００および開閉弁２４００それぞれは、図１４に示したＣＰ１０００，ＵＦ１１００、不純物取得システム１３００、ＩＣＰ－ＭＳ１４００、演算処理装置１６００、制御装置１５００および開閉弁２４００それぞれと同じものである。ＵＦ１１００から出口水である超純水が複数の流路に分配されて、それぞれの流路に接続された複数の半導体洗浄装置へ供給される。複数の流路それぞれは、不純物取得システム１３００への流路が分岐されており、それぞれの流路に流れる超純水について、それぞれの超純水を検査対象水として不純物取得システム１３００において第１～３の実施の形態で説明した処理が行われる。どの流路に流れる超純水について処理を行うかは、制御装置１５００がそれぞれの分岐流路に設けられた開閉弁２５００－１～２５００－４の開閉を制御することで選択される。また、制御装置１５００は、上述した処理と同様に、品質検査システムが取得した不純物濃度に基づいて、それぞれの流路に設けられた開閉弁２１００－１～２１００－４の開閉を制御する。なお、制御装置１５００は、複数の半導体洗浄装置それぞれに応じた閾値を有し、品質検査システムが取得した不純物濃度と、閾値との比較に基づいて、開閉弁２１００－１～２１００－４の開閉を制御するものであっても良い。
このように、超純水に含まれる不純物の濃度が所定の濃度閾値を超えている場合、開閉弁を制御して超純水の半導体洗浄装置への供給を阻止することで、半導体製造装置や超純水設備内の部材の汚染を防ぐことができる。なお、測定対象となる液体（水）は超純水に限らず、塩酸、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＰＧＭＡ（ポリグリセロールメタクリレート）、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）等の液体であっても良い。また、溶離液の回収にボトルを用いた形態を説明したが、回収する溶離液を分析装置へ直接噴霧し、定量分析を行うものであっても良い。また、本不純物取得システムにおいて測定する金属不純物の濃度は特に限定されないが、１００ｎｇ／Ｌ以下、好ましくは１０ｎｇ／Ｌ以下、更に好ましくは０．１ｎｇ／Ｌ以下であることが望ましい。
以上、各構成要素に各機能（処理）それぞれを分担させて説明したが、この割り当ては上述したものに限定しない。また、構成要素の構成についても、上述した形態はあくまでも例であって、これに限定しない。また、各実施の形態を組み合わせたものであっても良い。
２００，２００－１～２００－３ 濃縮カラム
２１０ ガードカラム
３０１，３０１－１～３０１－３，３０２～３０４，３０４－１～３０４－３，３０５，３０５－１～３０５－３，３０６，３０７ バルブ
４１１ 積算流量計
５０１，５０１－１～５０１－３，５０５ 容器
５０２，５０２－１～５０２－３ 溶離液
５０３，５０３－１～５０３－３，５０７ 充填容器
５０４，５０４－１～５０４－３ 回収容器
５０６ 再生液
７００～７０２，１５００ 制御装置
１０００ ＣＰ
１１００ ＵＦ
１２００ 不純物除去ユニット
１３００ 不純物取得システム
１４００ ＩＣＰ－ＭＳ
１６００ 演算処理装置
２０００，２１００，２１００－１～２１００－４，２２００，２３００，２４００，２５００－１～２５００－４ 開閉弁
２１０ ガードカラム
３０１，３０１－１～３０１－３，３０２～３０４，３０４－１～３０４－３，３０５，３０５－１～３０５－３，３０６，３０７ バルブ
４１１ 積算流量計
５０１，５０１－１～５０１－３，５０５ 容器
５０２，５０２－１～５０２－３ 溶離液
５０３，５０３－１～５０３－３，５０７ 充填容器
５０４，５０４－１～５０４－３ 回収容器
５０６ 再生液
７００～７０２，１５００ 制御装置
１０００ ＣＰ
１１００ ＵＦ
１２００ 不純物除去ユニット
１３００ 不純物取得システム
１４００ ＩＣＰ－ＭＳ
１６００ 演算処理装置
２０００，２１００，２１００－１～２１００－４，２２００，２３００，２４００，２５００－１～２５００－４ 開閉弁
Claims (10)
- 検査対象液中の不純物を取得する不純物取得システムであって、
前記検査対象液中の不純物を吸着する第１の吸着体と、
前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させる濃縮工程と、前記第１の吸着体に吸着された不純物を溶離させる溶離液を所定量充填容器に充填する溶離液充填工程と、前記充填容器に充填された溶離液を前記第１の吸着体へ通液させて回収容器に回収する溶離回収工程とを切り替える第１の制御装置と、を有する不純物取得システム。 - 請求項１に記載の不純物取得システムにおいて、
前記第１の制御装置は、前記濃縮工程の後に、前記検査対象液の通液ラインおよび前記第１の吸着体に対してガスを流してパージするパージ工程を行う不純物取得システム。 - 請求項１または請求項２に記載の不純物取得システムにおいて、
前記第１の制御装置は、前記溶離回収工程で、前記濃縮工程にて前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させた方向と対向する方向に、前記溶離液を通液させる、不純物取得システム。 - 請求項１または請求項２に記載の不純物取得システムにおいて、
前記第１の制御装置は、前記溶離回収工程の後、前記第１の吸着体を洗浄する洗浄液を前記第１の吸着体に通液させる洗浄工程を行う、不純物取得システム。 - 請求項４に記載の不純物取得システムにおいて、
前記第１の制御装置は、前記洗浄工程を第１の洗浄工程として行った後、前記第１の吸着体を再生する再生液を前記第１の吸着体に通液させる再生工程を行い、前記再生工程を行った後、前記洗浄液を前記第１の吸着体に通液させる第２の洗浄工程を行う、不純物取得システム。 - 請求項５に記載の不純物取得システムにおいて、
前記第１の制御装置は、前記再生工程で、前記濃縮工程にて前記検査対象液を前記第１の吸着体へ通液させた方向と対向する方向に、前記再生液を通液させる、不純物取得システム。 - 請求項５に記載の不純物取得システムにおいて、
前記第１の制御装置は、前記第１の洗浄工程および第２の洗浄工程にて、前記検査対象液を当該検査対象液中の不純物を吸着する第２の吸着体に通液した液体を前記洗浄液として前記第１の吸着体へ供給させる、不純物取得システム。 - 請求項１または請求項２に記載の不純物取得システムにおいて、
前記検査対象液を製造する設備から該検査対象液を使用するユースポイントまでの経路上の複数のポイントから前記検査対象液をそれぞれ取得するための複数の取得手段と、
前記複数の取得手段それぞれを用いて前記複数のポイントから取得した液体がそれぞれ通液される複数の前記第１の吸着体とを設け、
前記第１の制御装置は、前記複数の第１の吸着体それぞれに対する複数の溶離回収工程を互いに重ならないタイミングで行う、不純物取得システム。 - 請求項１または請求項２に記載の不純物取得システムと、
前記第１の吸着体に通液された溶離回収液中の不純物の量を検出する情報処理装置と、
前記検査対象液中の不純物の量を算出する演算処理装置とを備える品質検査システム。 - 請求項９に記載の品質検査システムと、
前記検査対象液の製造と供給との少なくとも一方を行う液体製造供給設備から前記検査対象液を使用するユースポイントへの前記検査対象液の供給を制御する弁部と、
前記演算処理装置が算出した前記検査対象液中の不純物の量に基づいて、前記弁部を制御する第２の制御装置と、を備える液体製造供給システム。
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| JP2022129978A JP2024027294A (ja) | 2022-08-17 | 2022-08-17 | 不純物取得システム、品質検査システムおよび液体製造供給システム |
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