CN117795651A - 品质管理系统、对象物管理系统以及对象物管理方法 - Google Patents
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- 238000003908 quality control method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 133
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 119
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000007726 management method Methods 0.000 claims description 24
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 238000003326 Quality management system Methods 0.000 claims description 6
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 4
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 13
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 13
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 12
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009296 electrodeionization Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002189 poly(glycerol 1-O-monomethacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002454 poly(glycidyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 1
- UYPYRKYUKCHHIB-UHFFFAOYSA-N trimethylamine N-oxide Chemical compound C[N+](C)(C)[O-] UYPYRKYUKCHHIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q10/00—Administration; Management
- G06Q10/06—Resources, workflows, human or project management; Enterprise or organisation planning; Enterprise or organisation modelling
- G06Q10/063—Operations research, analysis or management
- G06Q10/0639—Performance analysis of employees; Performance analysis of enterprise or organisation operations
- G06Q10/06395—Quality analysis or management
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
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- G06Q50/00—Information and communication technology [ICT] specially adapted for implementation of business processes of specific business sectors, e.g. utilities or tourism
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Human Resources & Organizations (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Economics (AREA)
- Strategic Management (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Tourism & Hospitality (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Entrepreneurship & Innovation (AREA)
- Marketing (AREA)
- General Business, Economics & Management (AREA)
- Educational Administration (AREA)
- Development Economics (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Immunology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Primary Health Care (AREA)
- Game Theory and Decision Science (AREA)
- Operations Research (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Abstract
本发明的品质管理系统具有:取得部(100),取得浓缩期间信息,该浓缩期间信息表示使浓缩单元对用于清洗对象物的清洗液所包含的杂质进行浓缩的期间;数据库(200),将赋予为对象物固有的对象物识别信息与表示对对象物进行了清洗的期间的清洗期间信息相关联地作为关联信息进行存储;以及确定部(300),基于取得部(100)取得的浓缩期间信息和存储于数据库(200)中的关联信息,来确定使用与在浓缩期间信息所示的浓缩期间向浓缩单元供给的清洗液对应的清洗液进行了清洗的对象物。
Description
技术领域
本发明涉及一种品质管理系统、对象物管理系统以及对象物管理方法。
背景技术
近年来,半导体器件等电子部件在各种场景下使用,高功能化、高集成化不断发展。在这样的电子部件中,不言而喻需要确保高品质。通常,为了向市场供给符合需求的电子部件,进行精密的设计工序、包括使用超纯水的清洗处理的制造工序、严密的检查工序等。例如,考虑如下方法:预先存储各工序中的处理条件与比该工序靠后的工序中的质量管理条件的关系,基于所存储的关系,选择与检测到的处理条件对应的品质管理条件,基于所选择的品质管理条件和检测到的品质,进行半导体装置的良好与否判定(例如,参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2004-296676号公报
发明内容
发明所要解决的课题
如上所述的技术中的品质管理是每个工序的品质管理。因此,存在难以进行与制造期间相应的品质的严密管理这样的问题点。
本发明的目的在于提供一种能够进行与期间相应的品质的严密管理的品质管理系统、对象物管理系统以及对象物管理方法。
用于解决课题的技术方案
本发明的品质管理系统具有:
取得部,其取得浓缩期间信息,该浓缩期间信息表示使浓缩单元对用于清洗对象物的清洗液所包含的杂质进行浓缩的期间;
数据库,其将赋予为所述对象物固有的对象物识别信息与表示对该对象物进行了清洗的期间的清洗期间信息相关联地作为关联信息进行存储;以及
确定部,其基于所述取得部取得的浓缩期间信息和存储于所述数据库中的关联信息,来确定使用与在所述浓缩期间信息所示的浓缩期间向所述浓缩单元供给的清洗液对应的清洗液进行了清洗的对象物。
另外,本发明的对象物管理系统具有:
液质测定部,其测定用于清洗对象物的清洗液的液质;
调整阀,其设置于向清洗槽供给所述清洗液的流路;以及
开闭控制部,其基于所述液质测定部测定出的液质,来控制所述调整阀的开闭。
另外,本发明的对象物管理方法测定用于清洗对象物的清洗液的液质,并基于所测定出的所述液质,使用设置于向清洗槽供给所述清洗液的流路的调整阀,来控制所述清洗液向清洗所述对象物的清洗槽的供给。
发明效果
在本发明中,能够进行与期间相应的品质的严密管理。
附图说明
图1是表示本发明的品质管理系统的一个实施方式的图。
图2是表示图1所示的数据库中存储的关联信息的一例的图。
图3是用于说明图1所示的品质管理系统中的处理的一例的流程图。
图4是表示应用了本发明的品质管理系统的第一方式的图。
图5是表示应用了本发明的品质管理系统的第二方式的图。
图6是表示本发明的对象物管理系统的一个实施方式的图。
图7是表示图6所示的开闭控制部所进行的判断基准和控制内容的一例的图。
图8是用于说明图6所示的对象物管理系统中的对象物管理方法的一例的流程图。
图9是表示应用了本发明的对象物管理系统的第一方式的图。
图10是表示应用了本发明的对象物管理系统的第二方式的图。
具体实施方式
以下,参照附图来说明本发明的实施方式。
图1是表示本发明的品质管理系统的一个实施方式的图。如图1所示,本方式中的品质管理系统具有取得部100、数据库200、确定部300以及输出部400。
取得部100取得浓缩期间信息,该浓缩期间信息表示使浓缩单元对用于清洗对象物的清洗液进行浓缩的期间,该浓缩单元将该清洗液所包含的杂质进行浓缩。在此,对象物例如是半导体器件等电子部件。另外,浓缩单元是吸附作为杂质的金属离子等金属杂质的吸附体。作为浓缩单元,例如可举出整块状有机多孔体。浓缩期间信息按每个吸附体记录并管理。浓缩期间信息例如是将预先赋予为被通入清洗液的吸附体固有的吸附体识别信息和表示向该吸附体通入清洗液的期间(日期及时间)的浓缩期间信息作为通液记录而存储于数据库(未图示。也可以是图1所示的数据库200)中的信息。取得部100可以从存储有通液记录的数据库取得浓缩期间信息。另外,取得部100也可以基于来自作业者的外部的操作(输入)来取得。需要说明的是,为了使浓缩单元浓缩杂质而向浓缩单元供给的清洗液是清洗对象物的清洗液中的至少一部分,不需要将清洗对象物的清洗液全部进行供给。另外,浓缩单元也可以是使用了如日本特开2004-77299号公报所记载的通过多级设置反渗透膜装置、电去离子装置来浓缩分析对象物质的方法的单元。另外,浓缩单元也可以是使用了如国际公开第2012-073566号公报所记载的使用透过膜的方法的单元。另外,浓缩单元也可以是使用了如日本特开2004-101408号公报所记载的使试样的表面浓缩的方法的单元。
数据库200将赋予为对象物固有的对象物识别信息与表示对该对象物进行清洗的期间的清洗期间信息相关联地作为关联信息进行存储。
图2是表示图1所示的数据库200中存储的关联信息的一例的图。如图2所示,图1所示的数据库200中存储的关联信息是将对象物识别信息与清洗期间信息相关联的信息。对象物识别信息是预先赋予为使用清洗液清洗的对象物固有的识别信息。通过使用该对象物识别信息,能够识别对象物。对象物识别信息只要能够相互识别对象物即可。对象物识别信息例如可以是组合了多个字母、数字的信息。清洗期间信息是以能够识别清洗对象物的期间(例如,时间段)的方式表示清洗开始的年月日以及时刻和清洗结束的年月日以及时刻的信息。例如,如图2所示,对象物识别信息“A00010001”与清洗期间信息“2021/3/1 00:00:00~2021/3/5 24:00:00”相关联。这表示被赋予了对象物识别信息“A00010001”的对象物在2021年3月1日的0时0分0秒至2021年3月5日的24时0分0秒的期间使用清洗液进行了清洗。另外,对象物识别信息“A00020001”与清洗期间信息“2021/3/6 00:00:00~2021/3/10 24:00:00”相关联。这表示被赋予了对象物识别信息“A00020001”的对象物在2021年3月6日的0时0分0秒至2021年3月10日的24时0分0秒的期间使用清洗液进行了清洗。另外,对象物识别信息“A00030001”与清洗期间信息“2021/3/11 00:00:00~2021/3/15 24:00:00”相关联。这表示被赋予了对象物识别信息“A00030001”的对象物在2021年3月11日的0时0分0秒至2021年3月15日的24时0分0秒的期间使用清洗液进行了清洗。另外,对象物识别信息“A00040001”与清洗期间信息“2021/3/16 00:00:00~2021/3/20 24:00:00”相关联。这表示被赋予了对象物识别信息“A00040001”的对象物在2021年3月16日的0时0分0秒至2021年3月20日的24时0分0秒的期间使用清洗液进行了清洗。该关联在各个对象物的清洗结束后,基于作业者进行的操作(输入)而存储于数据库200中。也可以在各个对象物的清洗结束后,将表示清洗开始时期的信息和表示清洗结束时期的信息输入并存储于数据库200中。还可以在各个对象物的清洗开始的时间点将表示清洗开始时期的信息输入并存储于数据库200中,并在各个对象物的清洗结束的时间点将表示清洗结束时期的信息输入并存储于数据库200中。
确定部300基于取得部100取得的浓缩期间信息和存储于数据库200中的关联信息来确定对象物。具体而言,确定部300从数据库200检索与表示与取得部100取得的浓缩期间信息所示的浓缩期间相应的清洗期间的清洗期间信息相关联的对象物识别信息。然后,确定部300确定被赋予了检索到的对象物识别信息的对象物。浓缩期间与清洗期间的关系依赖于该系统中的取得部100配置的位置与清洗对象物的位置的距离(配管距离)以及它们之间的配管内的流速(配管流速)。例如,在配管距离为100m、配管流速为2m/秒的情况下,浓缩期间的50秒后为清洗期间。即,确定部300基于取得部100取得的浓缩期间信息所示的期间和根据该系统的规格得到的处理时间来计算清洗期间。然后,确定部300将表示计算出的清洗期间的清洗期间信息作为检索关键字,从数据库200检索与该清洗期间相关联的对象物识别信息来确定对象物。由此,确定部300确定使用与在取得部100取得的浓缩期间信息所示的浓缩期间向浓缩单元供给了至少一部分的清洗液对应的清洗液进行了清洗的对象物。
输出部400输出表示确定部300所确定的对象物的对象物识别信息。输出部400也可以显示对象物识别信息。另外,输出部400也可以向其他装置发送。不限定输出部400的输出方式。
以下,对图1所示的品质管理系统中的处理进行说明。图3是用于说明图1所示的品质管理系统中的处理的一例的流程图。首先,取得部100取得浓缩期间信息(步骤S1)。取得部100取得浓缩期间信息的定时(timing)可以是预先设定的定时(例如,周期性)。另外,取得部100取得浓缩期间信息的定时也可以是基于事后连续进行的水质分析的结果而从外部有要求的定时。取得部100也可以从存储有浓缩期间信息的数据库取得浓缩期间信息。另外,取得部100也可以基于来自外部的操作(输入)取得浓缩期间信息。另外,取得部100也可以对能够与取得部100之间进行通信的其他装置请求浓缩期间信息,接收从其他装置发送来的浓缩期间信息来取得。
接着,确定部300计算与取得部100取得的浓缩期间信息所示的浓缩期间相应的清洗期间。确定部300从数据库200检索与表示计算出的清洗期间的清洗期间信息相关联的对象物识别信息来确定对象物(步骤S2)。于是,输出部400输出表示确定部300所确定的对象物的对象物识别信息(步骤S3)。输出部400也可以输出能够识别确定部300所确定的对象物的信息。在此,不限定于输出部400输出对象物识别信息。
以下,对本发明的品质管理系统的应用例进行说明。图4是表示应用了本发明的品质管理系统的第一方式的图。图4所示的方式是经由超纯水制造设备内的作为非再生型离子交换装置的CP20和作为超滤膜装置的UF30向作为半导体清洗装置的湿式清洗机(日语原文:Wet洗浄機)60-1、湿式清洗机60-2(使用点)供给作为清洗水的超纯水的系统。湿式清洗机60-1、湿式清洗机60-2也可以是清洗槽。向CP20供给的超纯水从超纯水制造设备的前处理系统向一次纯水制造系统供给,由一次纯水制造系统处理后供给。图4所示的虚线表示为了检查作为清洗水的超纯水的水质而对向使用点供给的超纯水的一部分进行取水的水的流路或控制信号的路径。另外,也可以在清洗水向浓缩/洗脱/回收装置40分支的部位设置分支用的阀,并控制该阀的开闭。
浓缩/洗脱/回收装置40具备作为上述浓缩单元的吸附体,吸附并取得CP20的出口水或UF30的出口水中所包含的杂质。浓缩/洗脱/回收装置40通过对吸附有杂质的吸附体通入洗脱液,从而将所吸附的杂质洗脱,回收包含洗脱出的杂质的洗脱液。作为在此所使用的洗脱液400,例如可举出硝酸、盐酸、硫酸等酸性的水溶液或者三甲基羟基铵、四甲基氢氧化铵(TMAH)等有机性碱的碱性的水溶液。作为回收所洗脱出的杂质时的回收容器,可以使用回收瓶。ICP-MS50是测定所回收的洗脱液中的杂质的量并计算杂质浓度的装置。信息处理装置10具有取得部100、数据库200、确定部300以及输出部400。
图5是表示应用了本发明的品质管理系统的第二方式的图。在图5所示的方式中,对浓缩/洗脱/回收装置40所具备的吸附体通入的水是即将向湿式清洗机60-1供给之前的水或即将向湿式清洗机60-2供给之前的水,在这一点上与图4所示的方式不同。需要说明的是,对吸附体通入清洗液的位置只要是CP20的出口以后的位置即可。另外,也可以在清洗水向浓缩/洗脱/回收装置40分支的部位设置分支用的阀,并控制该阀的开闭。在图4中,举出湿式清洗机60-1、湿式清洗机60-2为2台的情况为例,但并不限定于该数量。
如此,在本发明的品质管理系统中,取得部100取得表示将用于清洗对象物的清洗液向吸附体通入的期间的浓缩期间信息。确定部300基于浓缩期间信息所示的期间来计算清洗期间。确定部300将表示计算出的清洗期间的清洗期间信息作为检索关键字,从数据库200检索对象物识别信息来确定对象物。因此,能够进行与清洗对象物的期间相应的品质的严密管理。
图6是表示本发明的对象物管理系统的一个实施方式的图。如图6所示,本方式中的对象物管理系统具有液质测定部500、调整阀600以及开闭控制部700。
液质测定部500测定用于清洗对象物的清洗液的液质。液质测定部500测定清洗液所包含的杂质的量(例如,浓度)。在使用吸附体对清洗液所包含的杂质进行浓缩的情况下,液质测定部500测定该吸附体所吸附的杂质的浓度。液质测定部500在吸附体吸附作为杂质的金属杂质(例如金属离子)的情况下,也可以使用洗脱液将吸附体所吸附的金属离子洗脱,测定向吸附体通入后的洗脱液中所包含的金属离子的浓度。吸附体也可以是整块状有机多孔体。液质测定部500也可以是图4及图5所示的ICP-MS50。即,液质测定部500例如是如下装置:使用洗脱液将吸附于吸附体的杂质洗脱,回收洗脱液,测定所回收的洗脱液中的杂质的量,计算清洗液中的杂质量。在此,基于液质测定部500测定出的结果,图1所示的确定部300开始对象部的确定。例如,在液质测定部500测定出的杂质的量超过给定的量的情况下,需要确定使用该清洗液进行了清洗的对象物。因此,确定部300开始对象物的确定。
调整阀600是设置于向清洗槽供给清洗液的流路的调整阀。通过调整阀600开闭,能够控制向该流路中的调整阀600的下游的清洗液的供给。调整阀600例如能够控制向使用清洗液清洗对象物的点的清洗水的供给。调整阀600基于来自开闭控制部700的控制信号进行开闭。关于调整阀600的具体的设置位置在后面叙述。
开闭控制部700基于液质测定部500测定出的液质(即,清洗液中的杂质量)来控制调整阀600的开闭。开闭控制部700在液质测定部500测定出的液质满足给定的基准值的情况下(即,在给定的基准值以下的情况下),将调整阀600设为开状态。另外,在液质测定部500测定出的液质不满足基准值的情况下(即,超过给定的基准值的情况下),开闭控制部700将调整阀600设为闭状态。需要说明的是,如果向吸附体的每单位时间的通水量没有大的变动,则开闭控制部700也可以基于液质测定部500测定出的洗脱液中所包含的杂质的量来控制调整阀600的开闭。此外,开闭控制部700也可以使用能够根据液质测定部500测定出的值判定清洗液的水质的水平的值来控制调整阀600的开闭。
图7是表示图6所示的开闭控制部700所进行的判断基准和控制内容的一例的图。在图7所示的例子中,将判断的基准值设为杂质的浓度的值。如图7所示,杂质的浓度为预先设定的阈值T以下的情况与开闭信息“开”相关联。基于该关联,开闭控制部700在液质测定部500测定出的液质(杂质的浓度)为作为基准值的阈值T以下的情况下,视为满足基准值,将调整阀600设为开状态。通过这样,能够将满足基准值的清洗液向使用点(清洗槽)供给。另外,开闭控制部700在液质测定部500测定出的液质(杂质的浓度)超过作为基准值的阈值T的情况下,视为不满足基准值,将调整阀600设为闭状态。通过这样,能够避免向使用点(清洗槽)供给不满足基准值的清洗液。
以下,对图6所示的对象物管理系统中的对象物管理方法进行说明。图8是用于说明图6所示的对象物管理系统中的对象物管理方法的一例的流程图。在此,举出液质测定部500测定清洗液所包含的杂质的浓度的情况为例进行说明。
首先,液质测定部500测定用于清洗对象物的清洗液所包含的杂质的浓度(步骤S11)。接着,开闭控制部700判定液质测定部500测定出的杂质的浓度是否超过预先设定的阈值(步骤S12)。在判定为液质测定部500测定出的杂质的浓度未超过阈值的情况下,开闭控制部700将调整阀600设为开状态(步骤S13)。此时,在调整阀600已经为开状态的情况下,开闭控制部700将调整阀600维持为开状态不变。另一方面,在步骤S12中判定为液质测定部500测定出的杂质的浓度超过阈值的情况下,开闭控制部700将调整阀600设为闭状态(步骤S14)。此时,在调整阀600已经为闭状态的情况下,开闭控制部700将调整阀600维持为闭状态不变。
以下,对本发明的对象物管理系统的应用例进行说明。图9是表示应用了本发明的对象物管理系统的第一方式的图。图9所示的方式是经由在贮存有一次纯水的一次纯水罐的后级配置的超纯水制造设备内的作为非再生型离子交换装置的CP20、作为超滤膜装置的UF30以及调整阀600向作为半导体清洗装置的湿式清洗机60-1、湿式清洗机60-2(使用点)供给作为清洗水的超纯水的系统。CP20、UF30以及湿式清洗机60-1、湿式清洗机60-2分别与图4所示的相同。另外,在一次纯水罐与CP20之间,例如也可以设置有泵、热交换器、UV氧化装置等。调整阀600使用图6进行了说明,控制来自UF30的水向湿式清洗机60-1、湿式清洗机60-2的供给。向CP20供给的超纯水从设置于上游的液体制造供给设备供给。液体制造供给设备也是制造超纯水的设备。图9所示的虚线表示用于检查作为清洗水的超纯水的水质的水的流路或控制信号的路径。另外,也可以在清洗水向浓缩/洗脱/回收装置40分支的部位设置分支用的阀,并控制该阀的开闭。另外,设置有使来自UF30的水向一次纯水罐返回的返回配管。
浓缩/洗脱/回收装置40与图4所示的装置相同,吸附并取得CP20的出口水或UF30的出口水中所包含的杂质。浓缩/洗脱/回收装置40通过向吸附有杂质的吸附体通入洗脱液,来洗脱所吸附的杂质,回收包含所洗脱出的杂质的洗脱液。信息处理装置11具有液质测定部500及开闭控制部700。液质测定部500基于浓缩/洗脱/回收装置40回收的洗脱液,测定清洗液的液质。由信息处理装置11和调整阀600构成本发明的对象物管理系统。
图10是表示应用了本发明的对象物管理系统的第二方式的图。在图10所示的方式中,对浓缩/洗脱/回收装置40所具备的吸附体通入的水除了从UF30流向调整阀600的水之外,还是即将向湿式清洗机60-1供给之前的水或即将向湿式清洗机60-2供给之前的水,在这一点上与图9所示的方式不同。需要说明的是,对吸附体通入清洗液的位置只要是CP20的出口以后的位置即可。另外,也可以在清洗水向浓缩/洗脱/回收装置40分支的部位设置分支用的阀,并控制该阀的开闭。在图10中,举出湿式清洗机60-1、湿式清洗机60-2为2台的情况为例,但并不限定于该数量。
这样,在本发明的对象物管理系统中,液质测定部500测定用于清洗对象物的清洗液的液质。开闭控制部700基于液质测定部500测定出的液质,来控制设置于向清洗半导体器件的清洗点供给清洗液的流路的调整阀600的开闭。因此,能够进行与清洗液的状态相应的实时的品质管理。
需要说明的是,测量对象即液体(水)不限于超纯水,也可以是IPA(异丙醇)、PGMA(聚甲基丙烯酸缩水甘油酯)、PGMEA(丙二醇单甲醚乙酸酯)等药液。
尽管以上使各构成要素分别分担各功能(处理)来进行了说明,但该分配不限定于上述方式。另外,关于构成要素的构成,上述方式只不过是例子,并不限于此。另外,也可以组合各实施方式。
尽管以上参照实施方式来说明了本发明,但本发明不限于上述实施方式。对于本发明的结构、细节,能够在本发明的范围内进行本领域技术人员能理解的各种变更。
该申请主张以在2021年8月10日申请的日本申请特愿2021-130607为基础的优先权,在此引入其公开的全部内容。
Claims (9)
1.一种品质管理系统,其具有:
取得部,其取得浓缩期间信息,该浓缩期间信息表示使浓缩单元对用于清洗对象物的清洗液所包含的杂质进行浓缩的期间;
数据库,其将赋予为所述对象物固有的对象物识别信息与表示对该对象物进行了清洗的期间的清洗期间信息相关联地作为关联信息进行存储;以及
确定部,其基于所述取得部取得的浓缩期间信息和存储于所述数据库中的关联信息,来确定使用与在所述浓缩期间信息所示的浓缩期间向所述浓缩单元供给的清洗液对应的清洗液进行了清洗的对象物。
2.根据权利要求1所述的品质管理系统,其中,
所述品质管理系统具有测定所述浓缩单元进行浓缩后的杂质的量的液质测定部,
所述确定部基于所述液质测定部测定出的结果,开始所述对象部的确定。
3.根据权利要求1或2所述的品质管理系统,其中,
所述浓缩单元被通入流通过设置于所述清洗液的流路的非再生型离子交换装置后的清洗液。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的品质管理系统,其中,
所述浓缩单元将金属杂质作为所述杂质而进行浓缩。
5.根据权利要求4所述的品质管理系统,其中,
所述浓缩单元为整块状有机多孔体。
6.一种对象物管理系统,其具有:
液质测定部,其测定用于清洗对象物的清洗液的液质;
调整阀,其设置于向清洗槽供给所述清洗液的流路;以及
开闭控制部,其基于所述液质测定部测定出的液质,来控制所述调整阀的开闭。
7.根据权利要求6所述的对象物管理系统,其中,
所述液质测定部对流通过设置于所述清洗液的流路的非再生型离子交换装置后的清洗液的液质进行测定。
8.根据权利要求6或7所述的对象物管理系统,其中,
所述开闭控制部在所述液质测定部测定出的液质满足基准值的情况下,将所述调整阀设为开状态,在所述液质测定部测定出的液质不满足基准值的情况下,将所述调整阀设为闭状态。
9.一种对象物管理方法,基于用于清洗对象物的清洗液的液质,使用设置于向清洗槽供给所述清洗液的流路的调整阀,来控制所述清洗液向清洗所述对象物的清洗槽的供给。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021-130607 | 2021-08-10 | ||
JP2021130607A JP2023025395A (ja) | 2021-08-10 | 2021-08-10 | 品質管理システム、対象物管理システムおよび対象物管理方法 |
PCT/JP2022/029453 WO2023017750A1 (ja) | 2021-08-10 | 2022-08-01 | 品質管理システム、対象物管理システムおよび対象物管理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN117795651A true CN117795651A (zh) | 2024-03-29 |
Family
ID=85200500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202280055749.9A Pending CN117795651A (zh) | 2021-08-10 | 2022-08-01 | 品质管理系统、对象物管理系统以及对象物管理方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023025395A (zh) |
KR (1) | KR20240046198A (zh) |
CN (1) | CN117795651A (zh) |
TW (1) | TW202328682A (zh) |
WO (1) | WO2023017750A1 (zh) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2953904B2 (ja) * | 1993-04-02 | 1999-09-27 | オルガノ株式会社 | 水中のシリカ成分の分析装置 |
JP2004296676A (ja) | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の品質管理方法 |
JP6754512B1 (ja) * | 2018-10-17 | 2020-09-09 | オルガノ株式会社 | 水質管理方法、イオン吸着装置、情報処理装置および情報処理システム |
-
2021
- 2021-08-10 JP JP2021130607A patent/JP2023025395A/ja active Pending
-
2022
- 2022-08-01 KR KR1020247007202A patent/KR20240046198A/ko active Search and Examination
- 2022-08-01 CN CN202280055749.9A patent/CN117795651A/zh active Pending
- 2022-08-01 WO PCT/JP2022/029453 patent/WO2023017750A1/ja active Application Filing
- 2022-08-05 TW TW111129434A patent/TW202328682A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2023025395A (ja) | 2023-02-22 |
KR20240046198A (ko) | 2024-04-08 |
TW202328682A (zh) | 2023-07-16 |
WO2023017750A1 (ja) | 2023-02-16 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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