JPH0522363Y2 - - Google Patents
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- JPH0522363Y2 JPH0522363Y2 JP8452188U JP8452188U JPH0522363Y2 JP H0522363 Y2 JPH0522363 Y2 JP H0522363Y2 JP 8452188 U JP8452188 U JP 8452188U JP 8452188 U JP8452188 U JP 8452188U JP H0522363 Y2 JPH0522363 Y2 JP H0522363Y2
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- expansion joint
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Landscapes
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本考案は、真空取鍋精錬の排気ダクトと真空鍋
蓋との間にある接続用のエキスパンシヨン継手の
構造に関するものである。
蓋との間にある接続用のエキスパンシヨン継手の
構造に関するものである。
＜従来の技術＞
取鍋に入れた溶鋼を真空ポンプで高真空に保つ
と溶鋼面より溶鋼中のN2ガス、O2ガス等が脱ガ
スされ、N2分、O2分の少ない高純度の溶鋼が得
られる。
と溶鋼面より溶鋼中のN2ガス、O2ガス等が脱ガ
スされ、N2分、O2分の少ない高純度の溶鋼が得
られる。
また、脱リン、脱硫処理を行なつた溶鋼をさら
に特開昭52−142606号公報に開示されているよう
に真空脱ガスを行なうことによりさらに溶鋼の物
理的性質は改善される。
に特開昭52−142606号公報に開示されているよう
に真空脱ガスを行なうことによりさらに溶鋼の物
理的性質は改善される。
このような高純度鋼の製造に当り取鍋内で高
Cr鋼の脱炭を真空下で行なえば、Cr酸化が防止
され、溶鋼中のカーボンが優先脱炭される。この
ような脱炭用酸素ランスを取鍋鍋蓋に取付けた場
合、あるいは取鍋底から撹拌ガスを吹込みながら
酸素を吹き付けた場合、そのカーボンと酸素との
反応熱により排ガス温度は、1000℃〜1500℃にも
達する。昇降式鍋蓋に真空保持のためのエキスパ
ンシヨン継手を取付けた真空装置の場合、その耐
熱性はSUS製のエキスパンシヨン継手で約500℃
程度であり、通常のエキスパンシヨン継手のみで
は耐熱性、耐スプラツシユ性の点から問題があ
り、簡単に孔が開いて使用に耐えなくなつてい
た。
Cr鋼の脱炭を真空下で行なえば、Cr酸化が防止
され、溶鋼中のカーボンが優先脱炭される。この
ような脱炭用酸素ランスを取鍋鍋蓋に取付けた場
合、あるいは取鍋底から撹拌ガスを吹込みながら
酸素を吹き付けた場合、そのカーボンと酸素との
反応熱により排ガス温度は、1000℃〜1500℃にも
達する。昇降式鍋蓋に真空保持のためのエキスパ
ンシヨン継手を取付けた真空装置の場合、その耐
熱性はSUS製のエキスパンシヨン継手で約500℃
程度であり、通常のエキスパンシヨン継手のみで
は耐熱性、耐スプラツシユ性の点から問題があ
り、簡単に孔が開いて使用に耐えなくなつてい
た。
＜考案が解決しようとする課題＞
前述のとおり排ガス温度が1000℃〜1500℃と高
くエキスパンシヨン継手の安全使用温度を越え、
さらに取鍋鍋底よりArガス吹きを行なつた時に
排ガス中に飛散してくるスプラツシユがエキスパ
ンシヨン継手に接触すると簡単に孔が開いて使用
に耐えなくなるという問題に鑑み、本考案は、
COガスの燃焼高温排ガスの高温度雰囲気や飛散
スプラツシユにも強いエキスパンシヨン継手を提
供するためになされたものである。
くエキスパンシヨン継手の安全使用温度を越え、
さらに取鍋鍋底よりArガス吹きを行なつた時に
排ガス中に飛散してくるスプラツシユがエキスパ
ンシヨン継手に接触すると簡単に孔が開いて使用
に耐えなくなるという問題に鑑み、本考案は、
COガスの燃焼高温排ガスの高温度雰囲気や飛散
スプラツシユにも強いエキスパンシヨン継手を提
供するためになされたものである。
＜課題を解決するための手段＞
本考案は、溶鋼２７を取鍋２に装入し、取鍋２
を真空鍋蓋１で覆い真空排気を行いながら酸素ラ
ンス３０を介して酸素を吸込み、あるいは取鍋２
底から精錬ガス、撹拌ガス等を吹込んで真空脱炭
及び脱ガスを行う取鍋精錬設備に用いる取鍋真空
精錬用エキスパンシヨン継手１６において、 取鍋２上に上下昇降可能な真空鍋蓋１を設け、
該真空鍋蓋１とその上方にある固定式の排気ダク
ト２１とを接続する円筒状のエキスパンシヨン継
手１６と、該エキスパンシヨン継手１６内に該エ
キスパンシヨン継手１６より直径が小さい同心円
の円筒状で、かつ真空鍋蓋上端部の支持プレート
２５に立設された水冷二重管１０と、該水冷二重
管１０と前記エキスパンシヨン継手１６との間
に、前記エキスパンシヨン継手１６の継手上部フ
ランジ２４の内端部から吊設された上部保護筒１
５と、前記エキスパンシヨン継手１６の継手下部
フランジ１３に密着している中間フランジ１２の
内端部に立設された下部保護筒１４とが、互いに
嵌合するように配設されていることを特徴とする
取鍋真空精錬用エキスパンシヨン継手である。
を真空鍋蓋１で覆い真空排気を行いながら酸素ラ
ンス３０を介して酸素を吸込み、あるいは取鍋２
底から精錬ガス、撹拌ガス等を吹込んで真空脱炭
及び脱ガスを行う取鍋精錬設備に用いる取鍋真空
精錬用エキスパンシヨン継手１６において、 取鍋２上に上下昇降可能な真空鍋蓋１を設け、
該真空鍋蓋１とその上方にある固定式の排気ダク
ト２１とを接続する円筒状のエキスパンシヨン継
手１６と、該エキスパンシヨン継手１６内に該エ
キスパンシヨン継手１６より直径が小さい同心円
の円筒状で、かつ真空鍋蓋上端部の支持プレート
２５に立設された水冷二重管１０と、該水冷二重
管１０と前記エキスパンシヨン継手１６との間
に、前記エキスパンシヨン継手１６の継手上部フ
ランジ２４の内端部から吊設された上部保護筒１
５と、前記エキスパンシヨン継手１６の継手下部
フランジ１３に密着している中間フランジ１２の
内端部に立設された下部保護筒１４とが、互いに
嵌合するように配設されていることを特徴とする
取鍋真空精錬用エキスパンシヨン継手である。
＜作用＞
取鍋中の溶鋼に真空下で酸素吹込み又は底部か
らの精錬ガス、撹拌ガス吹込みによる真空脱炭及
び脱ガスを行う取鍋精錬装置において、本考案で
は、第１図、第２図に示すように取鍋上であつて
上下に昇降できる真空鍋蓋１とその上方にある固
定式真空排気ダクト２１とを接続する円筒状エキ
スパンシヨン継手の内部に耐熱性水冷二重管１０
を設けたので、高温排ガスからエキスパンシヨン
継手１６の内面への伝熱が防止できる。また水冷
二重管とエキスパンシヨン継手間に上部保護筒１
５と下部保護筒１４とを互に摺接するように設け
てあるので、水冷二重管１０とエキスパンシヨン
継手１６との隙間に飛散し侵入してくるスプラツ
シユは直接エキスパンシヨン継手に当らず、従来
のようなスプラツシユによる孔開きはおこらな
い。
らの精錬ガス、撹拌ガス吹込みによる真空脱炭及
び脱ガスを行う取鍋精錬装置において、本考案で
は、第１図、第２図に示すように取鍋上であつて
上下に昇降できる真空鍋蓋１とその上方にある固
定式真空排気ダクト２１とを接続する円筒状エキ
スパンシヨン継手の内部に耐熱性水冷二重管１０
を設けたので、高温排ガスからエキスパンシヨン
継手１６の内面への伝熱が防止できる。また水冷
二重管とエキスパンシヨン継手間に上部保護筒１
５と下部保護筒１４とを互に摺接するように設け
てあるので、水冷二重管１０とエキスパンシヨン
継手１６との隙間に飛散し侵入してくるスプラツ
シユは直接エキスパンシヨン継手に当らず、従来
のようなスプラツシユによる孔開きはおこらな
い。
＜実施例＞
装置の実施例を以下に説明する。
先づ第１図・第２図に従つて装置概要を説明す
る。
る。
溶鋼２７を入れた取鍋２を台車２６に載せ、真
空精錬位置に移動させると、真空鍋蓋１が下降
し、取鍋２の真空鍋蓋フランジ３面と真空鍋蓋の
水冷フランジ５面が、パツキン４を介し密着され
る。この状態で酸素ランス昇降装置３１に取付け
た酸素ランス３０を鍋内にさしこみ、酸素ランス
と鍋蓋間の大気のもれをグランドパツキン等でシ
ールし、真空ポンプ３２を起動させることによ
り、溶鋼面を減圧しながら酸素ランス３０から酸
素を吹込み脱炭を始める。この時は真空測温サン
プリング塔２２のシール弁２３は密閉されてい
る。測温サンプリング必要時のみシール弁２３は
開かれる。排ガスCOは排気ダクト２１を通りガ
スクーラ２８、ダストトラツプ２９を通つて真空
ポンプ３２に吸引され、大気に放出される。真空
鍋蓋１の上部にはエキスパンシヨン継手１６が設
けてあり、その詳細を第２図に従つて説明する。
空精錬位置に移動させると、真空鍋蓋１が下降
し、取鍋２の真空鍋蓋フランジ３面と真空鍋蓋の
水冷フランジ５面が、パツキン４を介し密着され
る。この状態で酸素ランス昇降装置３１に取付け
た酸素ランス３０を鍋内にさしこみ、酸素ランス
と鍋蓋間の大気のもれをグランドパツキン等でシ
ールし、真空ポンプ３２を起動させることによ
り、溶鋼面を減圧しながら酸素ランス３０から酸
素を吹込み脱炭を始める。この時は真空測温サン
プリング塔２２のシール弁２３は密閉されてい
る。測温サンプリング必要時のみシール弁２３は
開かれる。排ガスCOは排気ダクト２１を通りガ
スクーラ２８、ダストトラツプ２９を通つて真空
ポンプ３２に吸引され、大気に放出される。真空
鍋蓋１の上部にはエキスパンシヨン継手１６が設
けてあり、その詳細を第２図に従つて説明する。
エキスパンシヨン継手１６は、その上端に継手
上部フランジ２４が取付けられ、その下端に六角
穴付ボルト用穴を設けた継手下部フランジ１３に
取付けられている。継手上部フランジ２４内端部
には上部保護筒１５が取り付いてあり、一方、継
手下部フランジ１３は六角穴付ボルト１９、オー
リング１８を介して、中間フランジ１２と密着し
てあり、その中間フランジ内端部に下部保護筒１
４が溶接してある。その中間フランジ１２下面内
側には水冷二重管１０の支持プレート２５が溶接
してあり、冷却水は入口管９より入り、排水管８
より排水され、さらに外部配管に排水されてい
る。これにより、エキスパンシヨン継手１６のメ
ンテナンス交換時には、鍋蓋の昇降チエン６を巻
下げ、台車２６上に載せ、その後、エキスパンシ
ヨン継手の上部フランジ２４及び継手下部フラン
ジ１３のボルトを外すことにより簡単に取り外
せ、エキスパンシヨン継手と下部保護筒間に落ち
込んだスプラツシユや冷却されたダストの排出が
可能となる。
上部フランジ２４が取付けられ、その下端に六角
穴付ボルト用穴を設けた継手下部フランジ１３に
取付けられている。継手上部フランジ２４内端部
には上部保護筒１５が取り付いてあり、一方、継
手下部フランジ１３は六角穴付ボルト１９、オー
リング１８を介して、中間フランジ１２と密着し
てあり、その中間フランジ内端部に下部保護筒１
４が溶接してある。その中間フランジ１２下面内
側には水冷二重管１０の支持プレート２５が溶接
してあり、冷却水は入口管９より入り、排水管８
より排水され、さらに外部配管に排水されてい
る。これにより、エキスパンシヨン継手１６のメ
ンテナンス交換時には、鍋蓋の昇降チエン６を巻
下げ、台車２６上に載せ、その後、エキスパンシ
ヨン継手の上部フランジ２４及び継手下部フラン
ジ１３のボルトを外すことにより簡単に取り外
せ、エキスパンシヨン継手と下部保護筒間に落ち
込んだスプラツシユや冷却されたダストの排出が
可能となる。
以上の考案によると、エキスパンシヨン継手の
内部に水冷二重管を取り付けたので、排ガスの高
温度雰囲気（約1000〜1500℃）からエキスパンシ
ヨン継手への伝熱を防止でき、また飛散したスプ
ラツシユは水冷二重管壁面に当つて容易に冷却さ
れ、粉末状になり脱落し下方へ落下する。上部保
護筒と下部保護筒とは互いに嵌合しており、自由
に摺動できる。さらに、水冷二重管と上部・下部
保護筒の間から、エキスパンシヨン継手内に入り
こんだ冷却粉末状となつたスプラツシユの排出が
容易である。
内部に水冷二重管を取り付けたので、排ガスの高
温度雰囲気（約1000〜1500℃）からエキスパンシ
ヨン継手への伝熱を防止でき、また飛散したスプ
ラツシユは水冷二重管壁面に当つて容易に冷却さ
れ、粉末状になり脱落し下方へ落下する。上部保
護筒と下部保護筒とは互いに嵌合しており、自由
に摺動できる。さらに、水冷二重管と上部・下部
保護筒の間から、エキスパンシヨン継手内に入り
こんだ冷却粉末状となつたスプラツシユの排出が
容易である。
高Cr鋼溶鋼の5ToN真空取鍋精錬に本考案に係
るエキスパンシヨン継手を使用した結果、連続的
に50ToNを精錬してもエキスパンシヨン継手の
損耗は生じなかつた。なお従来の継手の場合に
は、15ToNの精錬で、開孔などでエキスパンシ
ヨン継手は使用不可能となつた。
るエキスパンシヨン継手を使用した結果、連続的
に50ToNを精錬してもエキスパンシヨン継手の
損耗は生じなかつた。なお従来の継手の場合に
は、15ToNの精錬で、開孔などでエキスパンシ
ヨン継手は使用不可能となつた。
＜考案の効果＞
本考案の係るエキスパンシヨン継手は、高温排
ガスの高温雰囲気に強く、飛散スプラツシユによ
つて孔が開くことなく寿命は従来に比べて著しく
のびた。
ガスの高温雰囲気に強く、飛散スプラツシユによ
つて孔が開くことなく寿命は従来に比べて著しく
のびた。
第１図は、本考案に依るエキスパンシヨン継手
の概略説明図、第２図は、本考案に依るエキスパ
ンシヨン継手の詳細説明図である。 １……真空鍋蓋、２……取鍋、３……真空鍋蓋
フランジ、４……パツキン、５……水冷フラン
ジ、６……昇降チエーン、７……昇降スプロケツ
ト、８……排水管、９……入口管、１０……水冷
二重管、１１……真空鍋蓋上部フランジ、１２…
…中間フランジ、１３……継手下部フランジ、１
４……下部保護筒、１５……上部保護筒、１６…
…エキスパンシヨン継手、１７……キヤスタ、１
８……Ｏリング、１９……六角穴付ボルト、２０
……エキスパンシヨン継手取付ボルト、２１……
排気ダクト、２２……真空測温サンプリング塔、
２３……シール弁、２４……継手上部フランジ、
２５……支持プレート、２６……台車、２７……
溶鋼、２８……ガスクーラー、２９……ダストト
ラツプ、３０……酸素ランス、３１……酸素ラン
ス昇降装置、３２……真空ポンプ。
の概略説明図、第２図は、本考案に依るエキスパ
ンシヨン継手の詳細説明図である。 １……真空鍋蓋、２……取鍋、３……真空鍋蓋
フランジ、４……パツキン、５……水冷フラン
ジ、６……昇降チエーン、７……昇降スプロケツ
ト、８……排水管、９……入口管、１０……水冷
二重管、１１……真空鍋蓋上部フランジ、１２…
…中間フランジ、１３……継手下部フランジ、１
４……下部保護筒、１５……上部保護筒、１６…
…エキスパンシヨン継手、１７……キヤスタ、１
８……Ｏリング、１９……六角穴付ボルト、２０
……エキスパンシヨン継手取付ボルト、２１……
排気ダクト、２２……真空測温サンプリング塔、
２３……シール弁、２４……継手上部フランジ、
２５……支持プレート、２６……台車、２７……
溶鋼、２８……ガスクーラー、２９……ダストト
ラツプ、３０……酸素ランス、３１……酸素ラン
ス昇降装置、３２……真空ポンプ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 溶鋼２７を取鍋２に装入し、取鍋２を真空鍋蓋
１で覆い真空排気を行いながら酸素ランス３０を
介して酸素を吸込み、あるいは取鍋２底から精錬
ガス、撹拌ガス等を吹込んで真空脱炭及び脱ガス
を行う取鍋精錬設備に用いる取鍋真空精錬用エキ
スパンシヨン継手１６において、 取鍋２上に上下昇降可能な真空鍋蓋１を設け、
該真空鍋蓋１とその上方にある固定式の排気ダク
ト２１とを接続する円筒状のエキスパンシヨン継
手１６と、該エキスパンシヨン継手１６内に該エ
キスパンシヨン継手１６より直径が小さい同心円
の円筒状で、かつ真空鍋蓋上端部の支持プレート
２５に立設された水冷二重管１０と、該水冷二重
管１０と前記エキスパンシヨン継手１６との間
に、前記エキスパンシヨン継手１６の継手上部フ
ランジ２４の内端部から吊設された上部保護筒１
５と、前記エキスパンシヨン継手１６の継手下部
フランジ１３に密着している中間フランジ１２の
内端部に立設された下部保護筒１４とが、互いに
嵌合するように配設されていることを特徴とする
取鍋真空精錬用エキスパンシヨン継手。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8452188U JPH0522363Y2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8452188U JPH0522363Y2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH026158U JPH026158U (ja) | 1990-01-16 |
| JPH0522363Y2 true JPH0522363Y2 (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=31309206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8452188U Expired - Lifetime JPH0522363Y2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0522363Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50139770U (ja) * | 1974-05-04 | 1975-11-18 | ||
| KR100455977B1 (ko) * | 2000-05-12 | 2004-11-08 | 신닛뽄세이테쯔 카부시키카이샤 | 레이들 정련 장치 및 이 장치를 사용하는 레이들 정련 방법 |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP8452188U patent/JPH0522363Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH026158U (ja) | 1990-01-16 |
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