JPH05223536A - 表面形状測定装置 - Google Patents

表面形状測定装置

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JPH05223536A
JPH05223536A JP5610292A JP5610292A JPH05223536A JP H05223536 A JPH05223536 A JP H05223536A JP 5610292 A JP5610292 A JP 5610292A JP 5610292 A JP5610292 A JP 5610292A JP H05223536 A JPH05223536 A JP H05223536A
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JP
Japan
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distance
phase data
light
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Application number
JP5610292A
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English (en)
Inventor
Hiroo Fujita
宏夫 藤田
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Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】3次元的に変化する物体の表面形状を非接触で
高精度に検出する測定装置を実現すること。 【構成】音響光学素子から周波数の異なる2ビーム光を
発生させ、光ヘテロダイン干渉により2ビーム光の間の
光路差を電気信号の位相で検出する。このとき、2ビー
ム光の間の距離を2通りに設定し、位相が|π|より小
さい状態での位相を基準とし、位相が|π|を超えた場
合に位相補正を行う。 【効果】位相が|π|を超えた場合でも正確な表面形状
が測定できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ光を用いた光学的
な3次元表面形状測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年の精密加工技術の進歩により、サブ
ミクロン以下のオーダで3次元的に変化する表面の加工
が行われるようになり、被加工物の表面形状を0.01
μm以上の精度で測定するニーズが高まっている。この
種の測定には非接触測定が必要で、従来から光干渉法が
用いられている。高精度な表面形状測定として最近は、
(1)干渉縞の強度変化から光の位相変化を検出する干
渉縞解析法、(2)光ヘテロダイン干渉法が用いられて
いる。(1)の干渉縞解析法は、干渉縞パターンの明暗
の強度変化を細かい強度変化に分割して検出し、対応す
る位相変化を計算機処理により1/100波長程度で検
出する。(2)の光ヘテロダイン法は、周波数の異なる
2つのレーザ光を干渉させて差の周波数のビート信号を
作成し、ビート信号の位相変化から1/500波長程度
の分解能で2ビーム光の間の光路差を検出して表面形状
を測定する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】(1)の干渉縞解析法
は、干渉縞の強度変化を安定に検出するために、特に振
動による外乱を除去する必要があり、精度の良い防振機
構が重要になる。また、位相の微小な変化を安定に検出
するために、複雑なソフトウエアー処理が必要になる。
従って装置が高級、複雑になり、生産現場でのインライ
ン的測定機として必ずしも適していない。(2)の2ビ
ーム光を用いる光ヘテロダイン干渉法は、2ビーム光の
間の光路差による位相変化を電気信号の位相で検出する
とき、光路差が絶対値で1/4波長を越えたときに位相
検出に飛びが生じ、表面の凹凸の正確な検出が出来ない
という問題点がある。それは、電気信号の位相の検出範
囲が位相の正、負の方向を含めると0から±πまでの範
囲しか検出できないため、位相差が絶対値でπを越える
とき凹と凸の判定が逆になることによる。本発明は上記
問題点を解消し、簡素な構成で正確に表面形状を測定す
る表面形状測定装置を実現することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明は、音響光学素子から作成された周波数の異
なる2ビーム光を物体面上に照射させ、2ビーム光の相
互の光路長の差によって生じる位相変化を検出する光ヘ
テロダイン干渉法による表面形状測定装置において、2
ビーム光を構成する個々のビームの各ピーク強度間距離
を第一の距離に設定して被測定物上を走査し、走査の各
点で位相変化を検出して走査の一周期で第一の位相デー
タを記憶し、次に前記ピーク強度間距離を前記第一の距
離よりも長い第二の距離に設定して被測定物面上を走査
し、走査の各点で位相変化を検出して走査の一周期で第
二の位相データを記憶し、前記第一の位相データの符号
の変化から、被測定物の高さ方向への形状変化を検出
し、第一の位相データの結果に基ずいて第二の位相デー
タの補正を行って第三の位相データを作成し、該第三の
位相データから被測定物の表面形状を測定するものであ
る。
【0005】
【作用】音響光学素子を2周波数成分を持つ電気信号で
駆動し、周波数が異なり、接近して異なる方向に進行す
る2ビーム光を発生させる。2ビーム光を構成する個々
のビームのピーク強度間距離を電気信号の周波数で制御
する。最初に、周波数を低くしてピーク強度間距離を個
々のビームスポット半径程度の第一の距離に設定して被
測定物面上を走査する。この状態では、物体表面に照射
された2ビーム光の間の光路差による位相変化の範囲が
±π(ラディアン)以下になるような設定にする。第一
の距離に設定した2ビーム光の走査はプリスキャン的走
査で、走査の各位置で検出される第一の位相データをメ
モリー回路に記憶する。この第一の位相データは、2ビ
ーム光の間の高さ方向の変化が凸か凹かの判定に用い
る。次に、周波数を高くして2ビーム光のピーク強度間
距離を第一の距離よりも大きい第二の距離に設定して被
測定物面上を走査する。この状態では物体表面に照射さ
れた2ビーム光の間の光路差が大きく、位相の変化も大
きくなるような設定とする。走査の各位置で検出される
第二の位相データをメモリー回路に記憶する。
【0006】第二の位相データは物体表面の形状に応じ
ては、位相の変化が±πを越えたものも含まれている。
位相変化が±πを超えていても、第一の位相データから
表面の凹と凸の区別が付けられている。そこで、第一の
位相データを参照して、位相が±πを越えた場合につい
て位相変化が接続するように第二の位相データの補正を
行い、第三の位相データを作成する。この第三の位相デ
ータでは表面の凹凸の方向が予め分かっているため、正
確な表面形状が測定できる。本方式で測定される位相は
2ビーム光の間の光路差に対応するもので、差動型の位
相検出である。そのため、2ビーム光が照射されている
2点間の光路差に対応する位相変化だけを考慮すれば良
い。なお、第一の位相データに対して、第三の位相デー
タは位相の変化が大きいため、位相変化を形状に変換す
るときの精度が高い。
【0007】
【実施例】以下図面により本発明の実施例を説明する。
図1は本発明の動作を説明するシステムブロック図であ
る。10はレーザ光源で、例えばHe−Neレーザ管、
半導体レーザ等から成り、レーザ光100を放射する。
110はレーザ光100の制御を行い、光ヘテロダイン
干渉を行わせる光学系で、音響光学素子11(以下にA
Oと略記する)、ビームスプリッター115、対物レン
ズ120、受光素子125、130及び図示していない
が他のレンズ、ミラー等の光学素子から構成される。1
2は音響光学素子駆動ドライバー(以下AOドライバー
と略記する)で、周波数fmの交流信号を発生する交流
信号発生器135と、電圧が連続的に変化するランプ波
信号を発生する直流信号発生器140からの信号を入力
とし、直流信号発生器140で発生される直流電圧Va
を周波数faの交流信号に変換すると共に、周波数fm
の交流信号との間で振幅変調を行い、2つの周波数成分
fa±fmをもつ駆動信号145を作成してAO11を
駆動する。
【0008】AO11は2周波数成分の電気信号で駆動
されると、互いに周波数が異なり、異なる方向に進行す
る2ビーム光150、155を発生する。この2ビーム
光は1次回折光がさらに2つのビームに分割されたもの
である。入射レーザ光100の周波数をf0としたと
き、ビーム150、155の周波数はf0+fa+fm
及びf0+fa−fmとなり、互いの差の周波数は2f
mである。このような周波数の変調は、AO11内部を
進行するレーザ光と超音波進行波との間のドップラーシ
フト効果による。2ビーム光150、155の間の分離
角度はθmで、周波数fmに比例して変化する。また、
AO11は直流信号発生器140の直流電圧を変化させ
ることにより、2ビーム光150、155の分離角度θ
mを一定に保った状態で回折角度を変化させ、2ビーム
光を走査することができる。
【0009】2ビーム光150、155をビームスプリ
ッター115で2つの方向に分割する。ビームスプリッ
ターで反射された一方の2ビーム光は参照光160、1
65として第一の受光器125で直接受光する。ビーム
スプリッター115を透過して進行する2ビーム光を対
物レンズ120で微小なスポット径に集光して互いに平
行に進行する2ビーム光に変換し、表面形状が測定され
る被測定物13の面上に照射する。被測定物13の面上
を走査する2ビーム光を構成する個々のビームのピーク
強度間距離は、前述の分離角度θmを周波数fmで変え
ることによって任意に可変でき、ピーク強度間距離は周
波数fmに比例して変化する。被測定物13の面上を走
査する2ビーム光は反射されて元の光路を逆進し、ビー
ムスプリッター115で進路を変え、反射光170、1
75として第二の受光器130で受光される。
【0010】第一の受光器125、第二の受光器130
で受光される2ビーム光は周波数が異なるため、受光器
上で干渉すると周波数2fmのビート信号が発生する。
このビート信号はA+B・cos(2π・2fmt+
φ)なる形で表される。Aは直流の光強度、Bは交流の
光強度の振幅、φは位相である。ここで、直流成分Aは
カットし、交流成分B・cos(2π・2fmt+φ)
を検出し、位相φの変化を検出する。このようなビート
信号の位相を検出する技術は光ヘテロダイン干渉法とし
て知られており、本願発明者による特許公報平3−44
243号公報の光ヘテロダイン干渉法による表面形状測
定装置に詳細に述べている。受光器125で得られるビ
ート信号180は参照光信号で、その位相φrは一定の
値である。受光器130で得られるビート信号185は
反射光信号で、その位相φsは被測定物の形状に応じて
変化する。14は位相差検出器で、参照光信号180と
反射光信号185の間の位相差φs−φrを検出する。
位相φrは一定であるから位相差φr−φsの検出で反
射光信号の位相φsの変化が検出できる。位相差の検出
は2ビーム光の各走査位置毎に行う。レーザ光の波長を
λ、2ビーム光の間の光路差をΔh、位相φsの変化を
Δφとしたとき、Δh=λΔφ/4πの関係がある。従
って、光路差Δh=λ/4の場合に位相差はΔφ=πと
なる。レーザ光源10にHe−Neレーザを用いたと
き、位相φsの変化が1度であるとき、光路差Δhは
0.88nmに相当する。
【0011】15は第一の位相データ記憶部、16は第
二の位相データ記憶部である。2ビーム光を被測定物1
3の面上で走査するとき、同一場所を2回走査する。最
初は交流信号発生器135の周波数fmを小さくし、2
ビーム光のピーク強度間距離が小さい第一の距離に設定
して走査する。この走査で検出される反射光信号の位相
φsの変化データが第一の位相データで、第一の位相デ
ータ記憶部15に記憶する。この走査では、2ビーム光
の間の光路差が絶対値でλ/4を超えず、従って位相差
φsの変化が絶対値でπを超えない範囲で位相変化を検
出する。この第一の位相データの正、負の符号変化か
ら、被測定物13の面上での2ビーム光が照射されてい
る2点間の形状変化が凸であるか、凹であるかを検出す
る。次に交流信号発生器135の周波数fmを大きく
し、2ビーム光のピーク強度間距離を第一の距離より大
きい第二の距離に設定して走査する。このとき検出され
る位相φsの変化データを第二の位相データ記憶部16
に記憶する。この走査で検出される位相は、2ビーム光
の間の光路差が絶対値でλ/4を超え、位相φsの変化
が絶対値でπを超える場合が含まれている。
【0012】17は位相データ補正部で、第一の位相デ
ータを基準として、第二の位相データが絶対値でπを超
えている場合に位相の補正を行う。第一の位相データは
形状変化の凸、凹の正しい情報を含んでいるが、第二の
位相データは位相の絶対値がπを超えた場合に位相の飛
びが生じるため、位相が接続するように補正する。補正
された位相データを第三の位相データ記憶部18に記憶
する。19は表面形状判定部で、第三の位相データをデ
ータ処理して被測定物13の形状を測定する。本測定で
は2ビーム光の間の位相を検出する差動型検出である。
従って被測定物の高さ方向の変化の微分が検出される。
そのため、検出された位相を積分することにより表面形
状が算出できる。
【0013】図2で位相の検出を説明する。位相の検出
範囲は、正、負の符号を考慮すると0〜±πまでの範囲
である。位相が正の方向OAPであるφaは2ビーム光
の間の表面形状の変化が凸の状態であるとする。位相が
負の方向OBPであるφbは同じく凹の状態であるとす
る。位相が−πを超えた凹の状態では位相が−(2π−
φa)と検出されるべきであるが、位相の検出範囲は±
πまでであるため、実際の凹の状態は位相が正でφaを
持つ凸の状態として検出されてしまう。このように位相
の絶対値がπを超えたときは、形状が逆転すると共に位
相の値にも誤差が生じてしまう。このような状況は2ビ
ーム光の間の光路差がλ/4を超えたときに現れる。
【0014】光路差は表面の形状と共に2ビーム光の間
の距離にも関係するため、位相を小さくするためには2
ビーム光の間の距離を小さくすれば良い。そこで、前述
の位相がφbの場合に、位相が−πを超えないように2
ビーム光の間の距離を小さくし、位相が負の方向OBQ
であるφcの状態に設定する。こうすれば、表面が凹で
あることが確実に検出できる。位相データから表面形状
を測定するとき位相の変化が大きい方が測定精度が高く
なる。それは、位相の検出に伴うジッターなどの誤差要
因を相対的に小さくすることができるためである。その
ため、最初に2ビーム光の間の距離を小さくして位相φ
cを検出し、表面形状の変化の方向を知る。次に2ビー
ム光の間の距離を大きくして位相φaを検出する。しか
し、実際には表面が凹であることの情報が得られている
ため、位相が−(2π−φa)となるように位相の補正
を行って正確な形状を測定する。
【0015】図3に表面形状例を示し位相検出との関係
を説明する。図3(a)は3つの面30、31、32を
有する、形状が測定される被測定物13である。このと
き面30の角度θa、面32の角度θbを測定するもの
とする。33、34は被測定物13の面上を走査する2
ビーム光で、個々のビームのピーク強度間距離をDとす
る。図3(b)は距離Dを小さく(2ビーム光の個々の
ビームの半径程度)した第一の距離で走査したときに検
出される第一の位相データである。この位相の変化は|
π|よりも小さく、面30、31、32での位相がそれ
ぞれφa、0、−φbで、表面の凸、凹の区別が容易で
ある。図3(c)は距離Dを第一の距離より大きくした
第二の距離で走査したときに検出される第二の位相デー
タで、位相の絶対値がπを超え、面30、31、32の
位相がそれぞれ−φc、0、φdである。図3(d)は
位相の補正を行った第三の位相データで、面30、3
1、32での位相がそれぞれ2π−φc,0、−2π+
φdに補正される。例えば第二の距離がDのとき、ta
n(θa)=(2π−φc)/Dにより角度θaを求め
ることができる。
【0016】図4に本発明の光ヘテロダイン干渉を行う
光学系110の構成例を示す。レーザ光源10から放射
されたレーザ光100をシリンドリカルレンズ41、凸
レンズ42の組合せで紙面に平行な面内に広がりを持
ち、紙面に垂直な面内に集光するシート状ビームに変換
し、AO11に入射させる。AO11からは前述した2
ビーム光が発生する。AO11を出射したシート状ビー
ムを凸レンズ43とシリンドリカルレンズ44の組合せ
で再び円形状のビームに変換する。シリンドリカルレン
ズ41と44の屈折作用面は互いに直交する方向に設定
する。さらに、凸レンズ43とシリンドリカルレンズ4
4の共通の焦点位置にビームスプリッター115を設置
し、2方向に進行する2ビーム光に分割する。
【0017】ビームスプリッター115で反射した2ビ
ーム光は凸レンズ45を介して受光器125で受光さ
れ、参照光信号180を作成する。ビームスプリッター
115を透過した2ビーム光は凸レンズ46でコリメー
トされ、対物レンズ120で微小なスポットに集光され
て被測定物13の面上に照射されて走査する。反射した
2ビーム光はビームスプリッター115で反射し、レン
ズ47を介して別の受光器130で受光されて反射光信
号185を作成する。この光ヘテロダイン干渉を行わせ
る光学系110は参照光、反射光ともに接近した光路を
たどる。振動等の外乱が起こった場合、2ビーム光が同
時に影響を受け、結果的には光路差の変化が現れないた
め、安定した位相検出が可能になる。
【0018】
【発明の効果】上記のごとく本発明による位相の検出で
は、位相の変化の少ない状態での測定と、位相変化の大
きい状態での測定を組み合わせることにより、実質的に
位相の検出範囲を従来よりも拡大し、表面の凹、凸の変
化を正確に検出すると共に、形状を高精度で測定でき
る。また、2ビーム光を同時に被測定物面上に照射する
ため、振動による外乱の影響を受けない。さらには、位
相の変化の検出だけでよいため、被測定物の表面反射に
左右されず、複雑なデータ処理が不用となり、リアルタ
イム的な測定が可能で、生産ラインでの測定装置として
適している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の動作を説明するシステムブロック図で
ある。
【図2】位相の検出を説明する図である。
【図3】被測定物の形状と位相の関係を説明する図であ
る。
【図4】光ヘテロダイン干渉を行う光学系の一実施例で
ある。
【符号の説明】
10 レーザ光源 11 音響光学素子 13 被測定物 14 位相差検出器 15 第一の位相データ記憶部 16 第二の位相データ記憶部 17 位相データ補正部 18 第三の位相データ記憶部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 音響光学素子から作成された周波数の異
    なる2ビーム光を物体面上に照射させ、2ビーム光の相
    互の光路長の差によって生じる位相変化を検出する光ヘ
    テロダイン干渉法による表面形状測定装置において、2
    ビーム光を構成する個々のビームのピーク強度間距離を
    第一の距離に設定して被測定物面上を走査し、各走査位
    置で位相変化を検出して走査の一周期で第一の位相デー
    タを記憶し、次に前記ピーク強度間距離を前記第一の距
    離よりも長い第二の距離に設定して被測定物面上を走査
    し、各走査位置で位相変化を検出して走査の一周期で第
    二の位相データを記憶し、前記第一の位相データの符号
    の変化から被測定物の形状の変化する方向を検出し、第
    一の位相データの結果に基ずいて第二の位相データの補
    正を行って第三の位相データを作成し、該第三の位相デ
    ータから被測定物の表面形状を測定することを特徴とす
    る表面形状測定装置。
JP5610292A 1992-02-07 1992-02-07 表面形状測定装置 Pending JPH05223536A (ja)

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