JPH05208156A - ガラス基板用ディッピング装置 - Google Patents

ガラス基板用ディッピング装置

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Publication number
JPH05208156A
JPH05208156A JP6262891A JP6262891A JPH05208156A JP H05208156 A JPH05208156 A JP H05208156A JP 6262891 A JP6262891 A JP 6262891A JP 6262891 A JP6262891 A JP 6262891A JP H05208156 A JPH05208156 A JP H05208156A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dipping
glass substrate
chamber
shutter
standby
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6262891A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuaki Minato
光朗 湊
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 水分と接触して急速に粘度を増すポリシラザ
ンのような液をガラス基板表面に塗布するのに好適なデ
ィッピング装置を提供すること。 【構成】 ディッピング装置は外部と遮断された密閉ケ
ース内1に収納され、密閉ケース内1は更にディッピン
グ室S1と待機室S2とに画成され、これらディッピン
グ室S1と待機室S2との間をシャッタ2によって連通
・遮断している。そして、ディッピング室S1内にはデ
ィッピング槽3を固定し、このディッピング槽3の上面
開口にはシャッタ4を開閉自在に設け、ディッピング室
S1の上部には搬送装置7を設けている。また待機室S
2は正面にガラス基板Gの投入兼取出し用開口8を形成
し、この開口8にシャッタ9を設け、更に待機室S2の
下方の室S3に待機室S2を減圧にするための真空ポン
プ11を収納している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶セル等として用いる
ガラス基板をディッピング槽に浸漬する方法及び装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】ガラス基板表面に被膜形成用等の液体を
塗布する方法として、スピンナー上にガラス基板を固定
し、ガラス基板の中心部に液を滴下した後にスピンナー
を高速回転せしめ、遠心力によりガラス基板表面に液体
を均一に拡散せしめるようにしたスピンコーター法が知
られている。また、ガラス基板の表面に膜を形成する方
法としては、CVD等の蒸着法も知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述したスピンコータ
ー法による場合は、ガラス基板の両面に塗布できないと
いう根本的な欠点の他に、使用した液体のうち9割近く
は周囲に飛散してガラス基板の表面には付着せず、飛散
した液は回収すれば再利用も可能であるが、回収できた
としてもゴミや不純物を含むためそのままでは使用でき
ないという課題がある。
【0004】一方、CVD等の蒸着法による場合は、短
時間で被膜の厚みを厚くすることが困難で、下層の凹凸
を平坦化するような膜を形成することができず、且つ装
置自体も高価なものとなる。
【0005】そこで、塗布液を満たした槽内にガラス基
板を浸漬するディッピング法が考えられるが、ディッピ
ング法による場合には塗布液の種類によって液の管理が
極めて困難である。例えば焼成することで窒化シリコン
や酸化シリコンの膜を形成するポリシラザン(例えばジ
クロロシランとアンモニアの反応で得られる耐熱性及び
耐酸性に優れるポリマー)は、空気中の水分と接触する
と急激に粘度が高くなりガラス基板表面に均一に塗布で
きなくなる。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明に係るディッピング装置は、外部と遮断された密閉
ケース内に装置全体を収納し、この密閉ケース内を更に
ディッピング室と待機室とに画成し、これらディッピン
グ室と待機室との間をシャッタにて連通・遮断するとと
もに、密閉ケース内にはディッピング室と待機室との間
を往復動するチャッキング機構を備えた搬送装置を設け
た。
【0007】
【作用】待機室内にセットされた複数のガラス基板は、
搬送装置のチャッキング機構によりその上端角部を把持
され、搬送装置に吊り下げられた状態でディッピング槽
上まで搬送され、次いでガラス基板は上端角部を除いて
ディッピング槽内に浸漬される。
【0008】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図1は本発明に係るガラス基板のデ
ィッピング装置の正面図、図2は同ディッピング装置の
平面図である。
【0009】ディッピング装置は外部と遮断された密閉
ケース内1に装置全体が収納され、この密閉ケース内1
は更にディッピング室S1と待機室S2とに画成され、
これらディッピング室S1と待機室S2との間をシャッ
タ2によって連通・遮断している。
【0010】そして、ディッピング室S1内にはポリシ
ラザン等の液を満たしたディッピング槽3を固定し、こ
のディッピング槽3の上面開口にはシャッタ4を開閉自
在に設け、更にディッピング槽3の下方には槽内の液を
循環させて清浄するためのポンプ5及びフィルタ6を配
置している。また、ディッピング室S1内の上部にはそ
の一部が前記待機室S2に進退自在とされた搬送装置7
を設けている。
【0011】また待機室S2は正面にガラス基板Gの投
入兼取出し用開口8を形成し、この開口8にシャッタ9
を設け、更に待機室S2の下方にテーブル10にて室S
3を画成し、この室S3に待機室S2を減圧するための
真空ポンプ11を配置している。
【0012】そして、テーブル10上には開口8から奥
に向ってレール12を設け、このレール12に走行自在
に係合した台車13上にガラス基板Gのセット治具14
を載置している。尚、密閉ケース1の外側にはコントロ
ールボックス15を配置している。
【0013】次に上述した部材のうち搬送装置7及びセ
ット治具14について詳細に説明する。
【0014】搬送装置7はディッピング室S1内に立設
したガイドロッド20に沿って昇降自在とされた矩形状
メインフレーム21に同じく矩形状をなすサブフレーム
22を水平方向に移動可能に係合し、このサブフレーム
22の先端部にチャッキング機構23を取り付けてい
る。
【0015】チャッキング機構23は平面図である図
3、正面図である図4及び側面図である図5に示すよう
に、サブフレーム22の先端部に下向きコ字状の支持板
24を取り付け、この支持板24に前後方向のガイドロ
ッド25,26を架設し、ガイドロッド25にスライド
部材27を、ガイドロッド26にスライド部材28をそ
れぞれ摺動自在に係合している。
【0016】これらスライド部材27,28は複数のプ
レート27a・・・,28a・・・間にクランプ爪29・・・,
30・・・を挟持してなり、スライド部材27のクランプ
爪29の周囲には弾性リング31を巻回し、スライド部
材28のクランプ爪30はガラス基板Gと当接する面を
平坦面としている。このような構成とすることにより、
複数のガラス基板G・・・をピッチ間隔を狭くし且つガラ
ス基板Gの1つの上端角部を把持するようにしてもガラ
ス基板同士が接触したり落下することがなくなる。
【0017】またスライド部材27,28の上面略中央
にはブラケット32,33を固設し、これらブラケット
32,33間にスプリング34,34を張設し、更にブ
ラケット32,33上面の対向位置にローラ35,36
を取り付け、これらローラ35,36をロータリアクチ
ュエータ37にて回転するカム38に当接せしめ、楕円
状カム38の回転によりスライド部材27,28が互い
に反対方向に摺動するようにし、この摺動によりクラン
プ爪29,30が開閉しガラス基板Gのクランプ及びア
ンクランプを行なうようにしている。
【0018】一方、複数枚のガラス基板Gを1つの角部
が上端となるよう平行にセットするセット治具14は図
5及び図6に示すように、台車13上に載置される基台
41に一対のアングル状アーム42,42を軸42aを
中心に揺動自在に支持し、これら一対のアーム間42,
42にガラス基板Gの下縁部が嵌り込む溝43aを形成
したロッド43を架設し、更に基台41とアーム42間
にナットとスクリューシャフトからなるアームの角度調
整機構44を設け、矩形状ガラス基板Gの形状が変更さ
れてもアーム42の角度を調整するだけで常にガラス基
板Gの1つの角部が一定の位置に来るようにし、チャッ
キング機構23の変更なくディッピング作業を行なえる
ようにしている。
【0019】次に本発明に係るディッピング装置を用い
たディッピング方法の一例を述べると、先ず複数枚のガ
ラス基板Gをセット治具14に1つの角部が上端となる
ようにセットし、このセット治具14を待機室S2の開
口8まで移動している台車13上に載置する。この時シ
ャッタ2,4は閉じておき、ディッピング室S1やディ
ッピング槽3内に水分又は酸素を含んだ外気が侵入しな
いように減圧にしておく。
【0020】そして、セット治具14を台車13上に載
置したならば、台車13をレール12に沿って奥の受け
渡し位置まで走行せしめるとともにシャッタ9を閉じ待
機室S2を外部と遮断し、真空ポンプ11により待機室
S2内を0.05Torr程度まで減圧し、この後露点
−10℃以下の不活性ガスや乾燥空気を待機室S2内に
導入して大気圧まで戻す。ここで、シャッタ2,4,9
の開閉、台車13の走行及び搬送装置のフレーム21,
22の移動はモータやシリンダユニット等を駆動源とし
た公知の機構によって行う。
【0021】次いでシャッタ2を開け、搬送装置7のサ
ブフレーム22を待機室S2内に進入せしめ、更に搬送
装置7のメインフレーム21を降下せしめてチャッキン
グ機構23をガラス基板Gの上端部位置に臨ませる。
【0022】この時、図5に示すようにクランプ爪2
9,30は各ガラス基板Gの上端角部に対し、上下方向
において重なり左右方向においてずれる位置にてチャッ
キング機構23を停止する。
【0023】この後、サブフレーム22とともにチャッ
キング機構23を移動することで、各ガラス基板Gの上
端角部間にクランプ爪29,30を臨ませ、次いで前記
したようにロータリアクチュエータ37にて楕円状カム
38を回転せしめクランプ爪29,30を閉じ方向に移
動せしめてガラス基板Gの上端角部をクランプ爪29,
30にて挟持する。
【0024】ここで、ガラス基板Gの上端角部間に上方
からクランプ爪29,30を臨ませず側方から臨ませる
ようにしたのは、上方から臨ませる際に万一クランプ爪
がガラス基板Gの上端角部が当たるとガラス基板の逃げ
場がないため、ガラス基板が破損するが、側方から挿入
するようにすればガラス基板が傾くことによりこれを回
避できるからである。またクランプ爪30はそのクラン
プ爪29側を短辺とする台形状としておけば、クランプ
爪29,30がガラス基板Gの間に円滑に入り易いので
好都合である。尚、チャッキング機構23を止めてお
き、この状態でガラス基板Gを移動してクランプ爪2
9,30間にガラス基板Gの上端角部を臨ませるように
してもよい。
【0025】次いで、メインフレーム21の上昇でガラ
ス基板Gを把持したチャッキング機構23を上昇せし
め、更にサブフレーム22とともにチャッキング機構2
3をディッピング室S1内に引き込み、ガラス基板Gを
ディッピング槽3上まで搬送した後、シャッタ2を閉じ
シャッタ4を開け、搬送装置7のメインフレーム21を
下降せしめ、ガラス基板Gを上端角部を除いてディッピ
ング槽3内に浸漬せしめる。尚、ディッピングを行って
いる間は前記シャッタ2を開けておいてもよい。
【0026】そして、所定時間が経過したならば、メイ
ンフレーム21を上昇せしめ、前記とは逆の操作によっ
て処理後のガラス基板Gを待機室S2のセット治具14
上に戻し、シャッタ2を閉じてディッピング室S1を外
部と遮断した後に、シャッタ9を開けてガラス基板Gを
取り出す。
【0027】
【発明の効果】以上に説明したように本発明に係るディ
ッピング装置によれば、スピンコーターを用いる場合に
比較して、塗布液を全く無駄なく使い切ることができ、
CVD等の蒸着装置に比較して安価でしかも不安定な塗
布液を安定な状態で使用することができる。
【0028】また、本発明に係るディッピング装置は密
閉ケース内に全体が収納されているので、ディッピング
雰囲気を一定の条件下に維持することが容易で、液管理
がし易い。一例を挙げれば、ガス置換した従来のディッ
ピング装置にポリシラザンの溶液を入れて使用した場
合、せいぜい1週間しかもたなかったが本発明に係る装
置を用いれば1ヵ月以上安定した状態を保つことがで
き、厚い膜厚を短時間のうちに形成することができるば
かりか、平坦化等に極めて有利である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るガラス基板のディッピング装置の
正面図
【図2】同ディッピング装置の平面図
【図3】チャッキング機構の平面図
【図4】チャッキング機構の側面図
【図5】チャッキング機構によってセット治具にセット
されているガラス基板を把持する直前の状態を示す正面
【図6】セット治具のロッドを示す図
【符号の説明】
1…密閉ケース、2,4,9…シャッタ、3…ディッピ
ング槽、7…搬送装置、14…ガラス基板のセット装
置、23…チャッキング機構、29.30…クランプ
爪、G…ガラス基板、S1…ディッピング室、S2…待
機室。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラス基板をディッピング槽まで搬送し
    て浸漬せしめるようにしたガラス基板用ディッピング装
    置において、このディッピング装置は外部と遮断された
    密閉ケース内に全体が収納され、この密閉ケース内は更
    にディッピング室と待機室とに画成され、これらディッ
    ピング室と待機室との間はシャッタにて連通・遮断さ
    れ、また密閉ケース内にはディッピング室と待機室との
    間を往復動するチャッキング機構を備えた搬送装置を設
    けたことを特徴とするガラス基板用ディッピング装置。
  2. 【請求項2】 前記ディッピング槽の上面にはディッピ
    ング室とディッピング槽内とを連通・遮断するシャッタ
    が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のガ
    ラス基板用ディッピング装置。
  3. 【請求項3】 前記待機室には密閉ケース内に不活性ガ
    スや乾燥空気等の所定のガスを供給するガス供給源を付
    設したことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板用
    ディッピング装置。
JP6262891A 1991-03-04 1991-03-04 ガラス基板用ディッピング装置 Withdrawn JPH05208156A (ja)

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JP6262891A JPH05208156A (ja) 1991-03-04 1991-03-04 ガラス基板用ディッピング装置

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JP6262891A JPH05208156A (ja) 1991-03-04 1991-03-04 ガラス基板用ディッピング装置

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JPH05208156A true JPH05208156A (ja) 1993-08-20

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ID=13205779

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JP6262891A Withdrawn JPH05208156A (ja) 1991-03-04 1991-03-04 ガラス基板用ディッピング装置

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JP (1) JPH05208156A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101221699B1 (ko) * 2010-05-10 2013-01-11 쑤저우 탑 크리에이션 머신즈 코., 엘티디. 박판 침지처리방법 및 장치
JP2014117634A (ja) * 2012-12-13 2014-06-30 Jcu Corp コート槽及びディップコータ
WO2016182107A1 (ko) * 2015-05-13 2016-11-17 한국표준과학연구원 기판 디핑 장치

Cited By (4)

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KR101221699B1 (ko) * 2010-05-10 2013-01-11 쑤저우 탑 크리에이션 머신즈 코., 엘티디. 박판 침지처리방법 및 장치
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WO2016182107A1 (ko) * 2015-05-13 2016-11-17 한국표준과학연구원 기판 디핑 장치
US9795982B2 (en) 2015-05-13 2017-10-24 Korea Research Institute Of Standards And Science Apparatus for dipping substrate

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Effective date: 19980514