JPH0520438B2 - - Google Patents

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JPH0520438B2
JPH0520438B2 JP63328547A JP32854788A JPH0520438B2 JP H0520438 B2 JPH0520438 B2 JP H0520438B2 JP 63328547 A JP63328547 A JP 63328547A JP 32854788 A JP32854788 A JP 32854788A JP H0520438 B2 JPH0520438 B2 JP H0520438B2
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Japan
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carbon atoms
compound
group
infrared absorption
absorption spectrum
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Hiroki Konno
Yasushi Yamamoto
Shigehisa Sonegawa
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は、フツ素ゴムの架橋基として有用なア
ルキリデンアミノプロピル基とシリコーンゴムの
架橋基として有用なビニル基とを同一分子内に有
する新規有機けい素化合物及びこの有機けい素化
合物の製造方法に関する。 従来の技術及び発明が解決しようとする課題 従来、シリコーンゴム等は分子内にビニル基を
有する生ゴムを用いるパーオキサイド加硫が最も
一般的であるが、フツ素ゴムの加硫に際しては、
パーオキサイド加硫では進まないとされているた
め、主としてアミン加硫が採用されており、この
ためフツ素ゴムと他のパーオキサイド加硫型のゴ
ムとの共加硫が困難であつた。 本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、フ
ツ素ゴム等に配合することにより、アミン加硫型
のゴムをパーオキサイド加硫型のゴムに容易に変
えることのできる新規有機けい素化合物及びその
製造方法を提供することを目的とする。 課題を解決するための手段及び作用 本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討
を重ねた結果、下記一般式(3) (但し、式中nは1,2又は3である。) で示されるジシロキサンと下記一般式(4) で示されるジシロキサンとを平衡化反応させるこ
とにより、アミノプロピル基とビニル基とを同一
分子内に有する下記一般式(1) (但し、式中nは1,2又は3である。) で示される有機けい素化合物が得られると共に、
この化合物に更に下記一般式(5) (但し、R1は水素原子又は非置換の炭素数1
〜15の一価炭化水素基、R2は置換もしくは未置
換の炭素数5〜15の一価炭化水素基を示す。又
は、R1とR2とはこれらが直結する炭素原子と共
に炭素数5〜10の非ベンゼン炭化水素環を形成す
る。nは1,2又は3である。) で示されるアルデヒド又はケトンを脱水縮合反応
させることにより、下記一般式(2) (但し、R1,R2,nは上記と同じ意味を示
す。)で示される新規有機けい素化合物が得られ
ることを知見した。そして、この(2)式で示される
ジシロキサン化合物は、一分子中にフツ素ゴムの
架橋基として有用なアルキリデンアミノプロピル
基とシリコーンゴムの架橋基として有用なビニル
基の両方の基を有するため、そのアルキリデンア
ミノプロピル基がアミン加硫型フツ素ゴムと反応
し、残りのビニル基がパーオキサイド加硫にあず
かることができるために、アミン加硫型のフツ素
ゴムをパーオキサイド加硫型に変えることができ
ることを見い出し、本発明をなすに至つたもので
ある。 以下、本発明につき更に詳しく説明する。 本発明に係る新規有機けい素化合物は、下記一
般式(1) (但し、式中nは1,2又は3である。) で示される有機けい素化合物から誘導される下記
一般式(2) (但し、R1は水素原子又は非置換の炭素数1
〜15の一価炭化水素基、R2は非置換の炭素数5
〜15の一価炭化水素基を示す。又は、R1とR2
はこれらが直結する炭素原子と共に炭素数5〜10
の非ベンゼン炭化水素環を形成する。nは1,2
又は3である。) で示される有機けい素化合物である。 ここで、上記一般式(1)の化合物は一般式(2)の化
合物の製造原料として使用されるものであるが、
この一般式(1)のアミノプロピル基とビニル基を有
する有機けい素化合物は、次式で示す反応に従つ
て(3)式のビニル基含有ジシロキサンと(4)式の1,
3−ジ(3−アミノ)プロピル−テトラメチルジ
シロキサンとの平衡化反応によつて合成すること
ができる。 (但し、式中nは1,2又は3である。) この場合、平衡化反応にはアルカリ触媒を用い
ることが好ましいが、アルカリ触媒としては、通
常のシロキサンの平衡化反応に用いられるアルカ
リ金属の水酸化物又はそのシラノレート誘導体を
使用でき、それらの1種又は2種以上を用いるこ
とができる。この場合、アルカリ金属ではカリウ
ムが好ましい。また、触媒の使用量は通常の触媒
量とすることができる。 上記の平衡化反応の反応温度は、触媒の種類に
よつても影響されるが、一般的に行なわれている
平衡化反応の温度範囲を採用でき、好ましくは
100〜150℃である。 また、反応の雰囲気は限定されないが、不活性
ガス雰囲気とすることが好ましい。 反応の終了後は、常法により触媒を除去し、蒸
留等の手段により精製し、(1)式の有機けい素化合
物を得ることができる。 上記一般式(1)の化合物から本発明の一般式(2)の
アルキリデンアミノプロピル基とビニル基とを有
する有機けい素化合物を得る場合は、下記に示す
反応により一般式(1)の化合物と下記式(5)のアルデ
ヒド又はケトンを脱水縮合させることにより、合
成することができる。 ここで、上記式中、R1,R2はアルデヒドで反
応を行う場合、一方が水素原子、他方が非置換の
炭素数5〜15の一価炭化水素基であることが好ま
しく、このような一価炭化水素基としてはフエニ
ル基、2−フエニルエテニル基、1−ナフチル
基、2−ナフチル基、n−ペンチル基、n−ヘキ
シル基、n−ヘプチル基等が挙げられる。 一方、ケトンで反応を行う場合は、R1は非置
換の炭素数1〜15の一価炭化水素基、R2が非置
換の炭素数5〜15の一価炭化水素基であることが
好ましく、このようなR1とR2としては、メチル
基とフエニル基、エチル基とフエニル基、フエニ
ル基とフエニル基、n−ブチル基とn−ブチル基
等が挙げられる。また、R1とR2とでこれらが直
結する炭素原子と共に非置換の炭素数5〜10の非
ベンゼン炭化水素環を形成してもよく、この場
合、R1とR2は例えば―(CH2a――で表わすことがで
き、これらが直結する炭素原子と共に
〔参考例 1〕
下記に示す1,3−ジ(3−アミノ)プロピル
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
248g(1.0モル) 及び下記に示す1,3−ジビニル−1,1,3,
3−テトラメチルジシロキサン279g(1.5モル) をフラスコに仕込み、水酸化カリウム4.3gを加
え、窒素雰囲気下、120〜130℃で2時間攪拌し
た。 反応終了後、Na2SO4の飽和水溶液で3回洗浄
し、Na2SO4で乾燥した。次いで、減圧蒸留し、
原料の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサンを先ず回収した後、79〜82
℃/10mmHgの留分として1−(3−アミノ)プロ
ピル−3−ビニル−1,1,3,3−テトラメチ
ルジシロキサン〔〕198g(収率91%)を得た。 この化合物〔〕の元素分析、赤外吸収スペク
トル及びNMRスペクトルの分析結果を下記に示
す。また、第1図に化合物〔〕の赤外吸収スペ
クトルのチヤートを示す。 〔元素分析〕(C9H23NOSi2) C H Si 計算値(%) 49.7 10.7 25.8 実測値(%) 49.8 10.6 25.9 〔赤外吸収スペクトル〕 3300,3370cm-1 −NH2 1595cm-1 SiCH=CH2 1050cm-1 −Si−O−Si− 〔NMRスペクトル〕 (溶剤及び内部標準:1,4−ジオキサン) 5.47〜6.62 (m,3H,CH2=CHSi) 2.55〜2.98 (t,2H,−CH2−N) 1.05〜1.95 (m,2H,−C−CH2−C) 1.63 (S,2H,−NH2) 0.48〜0.97 (m,2H,−CH2−Si−) 0.23,0.30 (2S,12H,SiCH3) 〔参考例 2〕 1,3−ジ(3−アミノ)プロピル−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン74.4g(0.3
モル)と下記に示すヘキサビニルジシロキサン
196g(0.93モル) (CH2=CH)3−Si−O−Si−(CH=CH23 及び水酸化カリウム1.5gとを用いて、参考例1
と同様に反応を行い、沸点83〜84℃/3mmHgの
留分として1−(3−アミノ)プロピル−1,1
−ジメチル−3,3,3−トリビニルジシロキサ
ン〔〕83g(収率57%)を得た。 この化合物〔〕の元素分析、赤外吸収スペク
トル及びNMRスペクトルの分析結果を下記に示
す。また、第2図に化合物〔〕の赤外吸収スペ
クトルのチヤートを示す。 〔元素分析〕(C11H23NOSi2) C H Si 計算値(%) 54.7 9.6 23.2 実測値(%) 54.5 9.5 23.0 〔赤外吸収スペクトル〕 3300,3380cm-1 NH2 1590cm-1 CH2=CHSi 1065cm-1 Si−O−Si 〔NMRスペクトル〕 (溶剤及び内部標準:1,4−ジオキサン) 5.53〜6.68 (m,9H,CH2=CHSi) 2.57〜2.97 (t,2H,−CH2−N) 1.33〜1.90 (m,2H,−C−CH2−C) 1.33 (S,2H,−NH2) 0.53〜0.95 (m,2H,−CH2Si−) 0.27 (S,6H,SiCH3) 〔実施例 1〕 参考例1で得られた1−(3−アミノ)プロピ
ル−3−ビニル−1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサン58.9g(0.27モル)を4つ口フラス
コに仕込み、フラスコ内を窒素ガスで置換した。 次に、ケイ皮アルデヒド(C6H5CH=
CHCHO)37g(0.28モル)を室温で滴下した。
滴下と共に発熱し、約半分のケイ皮アルデヒドを
滴下すると水が有機層から分離して白濁が見られ
た。 滴下終了後、40〜50℃で1時間撹拌した。次い
で、減圧下で水と過剰のアルデヒドを留去し、化
合物〔〕87g(収率97%)を得た。 この化合物〔〕の元素分析、赤外吸収スペク
トル及びNMRスペクトルの分析結果を下記に示
す。また、第3図に化合物〔〕の赤外吸収スペ
クトルのチヤートを示す。 〔元素分析〕(C18H23NOSi2) C H Si 計算値(%) 66.0 8.9 17.0 実測値(%) 65.8 9.0 17.1 〔赤外吸収スペクトル〕 1600cm-1 CH2=CHSi 1625cm-1 −CH=CH−C6H5 1640cm-1 −N=CH− 1055cm-1 −Si−O−Si− 〔NMRスペクトル〕 (溶剤及び内部標準:1,4−ジオキサン) 7.97〜8.63 (m,1H,−N=CH−) 7.63〜7.83 (m,5H,−C6H5) 6.97〜7.17 (m,2H,−CH=CH−) 5.57〜6.47 (m,3H,−SiCH=CH2) 3.30〜3.97 (t,2H,−CH2−N) 1.57〜2.17 (m,2H,−C−CH2−C−) 0.57〜2.00 (m,2H,−CH2Si) 0.31〜0.27 (2S,12H,SiCH3) 〔実施例 2〕 1−(3−アミノ)プロピル−3−ビニル−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン25g
(0.12モル)とn−オクチルアルデヒド(n−
C7H15CHO)15g(0.12モル)とを用い、実施例
1と同様に反応させ、減圧留去を行つて1−(3
−n−オクチリデンアミノ)プロピル−3−ビル
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
〔〕37g(収率95%)を得た。 この化合物〔〕の元素分析、赤外吸収スペク
トル及びNMRスペクトルの分析結果を下記に示
す。また、第4図に化合物〔〕の赤外吸収スペ
クトルのチヤートを示す。 〔元素分析〕(C17H37NOSi2) C H Si 計算値(%) 62.5 11.3 17.0 実測値(%) 62.6 11.4 16.8 〔赤外吸収スペクトル〕 1595cm-1 Si−CH=CH2 1675cm-1 −N=CH 1060cm-1 −Si−O−Si− 〔NMRスペクトル〕 (溶剤及び内部標準:1,4−ジオキサン) 7.79 (bs,1H,−N=CH−) 5.55〜6.67 (m,3H,CH2=CH−Si) 3.30〜3.73 (t,2H,−C−CH2−N) 1.95〜3.05 (m,14H,−CH2−C−Si,−
(CH25−) 0.45〜0.90 (m,2H,−CH2Si) 0.23〜0.28 (2S,12H,SiCH3) 〔実施例 3〕 1−(3−アミノ)プロピル−3−ビニル−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン14g
(0.065モル)とベンズアルデヒド(C6H5CHO)
6.9g(0.065モル)とを用い、実施例1と同様に
反応させ、減圧留去を行つて1−(3−ベンジリ
デンアミノ)プロピル−3−ビニル−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン〔〕19g
(収率96%)を得た。 この化合物〔〕の元素分析、赤外吸収スペク
トル及びNMRスペクトルの分析結果を下記に示
す。また、第5図に化合物〔〕の赤外吸収スペ
クトルのチヤートを示す。 〔元素分析〕(C16H27NOSi2) C H Si 計算値(%) 63.1 8.9 18.3 実測値(%) 63.0 9.0 18.3 〔赤外吸収スペクトル〕 1580cm-1 −C6H5 1590cm-1 −SiCH=CH2 1645cm-1 −N=CH− 1050cm-1 −Si−O−Si− 〔NMRスペクトル〕 (溶剤及び内部標準:1,4−ジオキサン) 8.30 (S,1H,−N=CH−) 7.17〜7.60,7.70〜8.07 (m,5H,−C6H5) 5.63〜6.70 (m,3H,SiCH=CH2) 3.57〜3.97 (t,2H,=N−CH2−C−) 1.63〜2.30 (m,2H,−C−CH2−C) 0.63〜1.07 (m,2H,−Si−CH2) 0.33,0.37 (2S,12H,−SiCH3) 〔実施例 4〕 参考例2で得られた1−(3−アミノ)プロピ
ル−1,1−ジメチル−3,3,3−トリビニル
ジシロキサン70g(0.29モル)とケイ皮アルデヒ
ド(C6H5CH=CHCHO)39.6g(0.30モル)と
を用い、実施例1と同様に反応させ、減圧留去を
行ない、1−(3−シンナミリデンアミノ)プロ
ピル−1,1−ジメチル−3,3,3−トリビニ
ルジシロキサン〔〕98g(収率95%)を得た。 この化合物〔〕の定量分析、赤外吸収スペク
トル及びNMRスペクトルの分析結果を下記に示
す。また、第6図に化合物〔〕の赤外吸収スペ
クトルのチヤートを示す。 〔元素分析〕(C19H29NOSi2) C H Si 計算値(%) 66.6 8.5 16.2 実測値(%) 66.3 8.6 16.5 〔赤外吸収スペクトル〕 1590cm-1 Si−CH=CH2 1620cm-1 −CH=CH− 1635cm-1 −N=CH− 1060cm-1 −Si−O−Si− 〔NMRスペクトル〕 (溶剤及び内部標準:1,4−ジオキサン) 8.00〜8.30 (m,1H,−N=CH−) 7.23〜7.90 (m,5H,−C6H5) 7.00〜7.13 (m,2H,−CH=CH−) 5.67〜6.73 (m,9H,SiCH=CH2) 3.43〜3.77 (t,2H,−CH2−N) 1.53〜2.17 (m,2H,−C−CH2−C) 0.60〜0.99 (m,2H,−CH2Si−) 0.27 (S,6H,−SiCH3) 〔実施例 5〕 1−(3−アミノ)プロピル−3−ビニル−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン25g
(0.115モル)、シクロヘキサノン(C6H10O)11.5
g(0.117モル)及びベンゼン100mlをエステルア
ダプターを備えた4つ口フラスコに仕込み、ベン
ゼン還流温度で加熱し、生成する水を共沸により
除去しながら反応させた。ガスクロマトグラフイ
ーで反応を追跡し、原料がほぼ消費された時点で
溶剤のベンゼンを減圧下で留去し、更に170℃/
4mmHgで低沸点の留分を除き、1−(3−シクロ
ヘキシリデンアミノ)プロピル−3−ビニル−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
〔〕32g(収率94%)を得た。 この化合物〔〕の元素分析、赤外吸収スペク
トル及びNMRスペクトルの分析結果を下記に示
す。また、第7図に化合物〔〕の赤外吸収スペ
クトルのチヤートを示す。 〔元素分析〕(C15H31NOSi2) C H Si 計算値(%) 60.7 10.5 18.8 実測値(%) 60.9 10.3 18.9 〔赤外吸収スペクトル〕 1595cm-1 Si−CH=CH2 1665cm-1 −N=C 1060cm-1 Si−O−Si 〔NMRスペクトル〕 (溶剤及び内部標準:1,4−ジオキサン) 5.53〜6.65 (m,3H,SiCH=CH2) 3.17〜3.55 (t,2H,−CH2−N) 1.30〜2.57 (m,12H,−CH2−C−Si,−(CH2
)−5) 0.50〜0.95 (m,2H,−CH2Si) 0.23,0.27 (2S,12H,−SiCH3) 〔実施例 6〕 1−(3−アミノ)プロピル−3−ビニル−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン25g
(0.115モル)とアセトフエノン(C6H5COCH3
14.4g(0.12モル)とベンゼン100mlとを用い、
実施例5と同様に反応を行い、1−(3−(1−フ
エニルエチリデン)アミノ)プロピル−3−ビニ
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
〔〕30g(収率81%)を得た。 この化合物〔〕の元素分析、赤外吸収スペク
トル及びNMRスペクトルの分析結果を下記に示
す。また、第8図に化合物〔〕の赤外吸収スペ
クトルのチヤートを示す。 〔元素分析〕(C17H29NOSi2) C H Si 計算値(%) 64.1 9.1 14.5 実測値(%) 64.0 9.0 14.3 〔赤外吸収スペクトル〕 1585cm-1 −C6H5 1595cm-1 Si−CH=CH2 1635cm-1 N=C 〔NMRスペクトル〕 (溶剤及び内部標準:1,4−ジオキサン) 7.10 (m,5H,−C6H5) 5.63〜6.77 (m,3H,Si−CH=CH2) 3.43〜3.77 (t,2H,−CH2−N−) 1.75〜2.47 (m,2H,−C−CH2−C−N) 2.33 (S,3H,N=C(CH3)−) 0.73〜1.13 (m,2H,−CH2−Si) 0.33,0.40 (2S,12H,SiCH3) 〔参考例 3〕 実施例1で得られた1−(3−シンナミリデン
アミノ)プロピル−3−ビニル−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサンを加硫剤として用
い、フツ素ゴムの加硫を次の手順で行つた。 市販のフツ素ゴム〔ダイエルG−201(ダイキン
工業社製)〕100重量部に、MT−カーボン〔N−
990(Can Carb社製)〕15重量部、酸化マグネシ
ウム〔キヨウワマグ#30、協和化学社製〕15重量
部及び実施例1の化合物4重量部の予備混合物を
ゴム混練り用二本ロールで混合した。 次いで、この混合物を200℃の乾燥器で30分間
加熱した後、30分間放冷した。 次に、上記混合物に更にMTカーボン5重量部
及び有機過酸化物〔パーヘキサ2.5B(日本油脂社
製)〕1.5重量部加え、再び混練り用二本ロールで
混合した。 この混合物の加硫状態をキユラストメーター
ODR−100型(東洋精機社製)を用い、175℃下
でのトルクの増減の経時変化を測定することによ
り調べた。 比較のため、市販の加硫剤NN′−シンナミリ
デン−1,6−ヘキサジアミン〔Diak No.3
(Du Pont社製)〕を使用して加硫を行つた。 即ち、上記と同様に、ダイエルG−201 100重
量部に、MT−カーボン20重量部、酸化マグネシ
ウム15重量部及び上記市販加硫剤3重量部を配合
し、ゴム混練り用二本ロールで混合した混合物を
用い、175℃下でのトルクの増減の経時変化を測
定して、加硫状態を調べた。 この結果を第9図に示す。図中Aは加硫剤とし
て実施例1の化合物を用いた結果、Bは市販加硫
剤を用いた結果である。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第8図はそれぞれ参考例1,2、実
施例1〜6で得られた有機けい素化合物の赤外吸
収スペクトルのチヤートであり、第9図は加硫剤
として実施例1の化合物及び市販のものを用いた
ゴム組成物の加硫状態の時間経過を示すグラフで
ある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式 (但し、R1は水素原子又は炭素数1〜15の非
    置換一価炭化水素基、R2は炭素数5〜15の非置
    換一価炭化水素基を示す。又は、R1とR2とはこ
    れらが直結する炭素原子と共に炭素数5〜10の非
    置換の非ベンゼン炭化水素環を形成する。nは
    1,2又は3である。) で示される有機けい素化合物。 2 下記一般式 (但し、式中nは1,2又は3である。) で示される有機けい素化合物と下記一般式 (但し、R1は水素原子又は炭素数1〜15の非
    置換一価炭化水素基、R2は炭素数5〜15の非置
    換一価炭化水素基を示す。又は、R1とR2とはこ
    れらが直結する炭素原子と共に炭素数5〜10の非
    置換の非ベンゼン炭化水素環を形成する。) で示されるアルデヒド又はケトンとを脱水縮合す
    ることを特徴とする請求項1記載の有機けい素化
    合物の製造方法。
JP63328547A 1988-12-26 1988-12-26 有機けい素化合物及びその製造方法 Granted JPH02172992A (ja)

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