JPH05202474A - Ｃｖｄ装置の排気ガスの異物捕獲方法 - Google Patents
Ｃｖｄ装置の排気ガスの異物捕獲方法Info
- Publication number
- JPH05202474A JPH05202474A JP3412392A JP3412392A JPH05202474A JP H05202474 A JPH05202474 A JP H05202474A JP 3412392 A JP3412392 A JP 3412392A JP 3412392 A JP3412392 A JP 3412392A JP H05202474 A JPH05202474 A JP H05202474A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＣＶＤ装置の排気ガスに含まれている異物
が、床下配管に堆積することを防止する手段を提供す
る。 【構成】 ＣＶＤ装置の反応炉の排気管15と、建物の床
下に設けらた共通排気配管３の接続点に異物捕獲トラッ
プ１０を設ける。異物捕獲トラップは、筐体内に互いに
絶縁され、適当な間隔のギャップで配列された複数枚の
＋電極板と−電極板で構成され、両電極板の間に高圧の
直流電圧を加圧し、ギャップを通過する排気ガス中の異
物を該各電極板に捕獲する。両電極板は着脱可能として
随時清掃する。 【効果】 異物捕獲トラップの電極板に排気ガス中の異
物が捕獲されて床下配管に堆積されないので、その清掃
作業の必要性がなくなるとともに、異物の堆積による反
応ガスの異常なフローと、その薄膜の形成に及ぼす悪影
響が排除される。
が、床下配管に堆積することを防止する手段を提供す
る。 【構成】 ＣＶＤ装置の反応炉の排気管15と、建物の床
下に設けらた共通排気配管３の接続点に異物捕獲トラッ
プ１０を設ける。異物捕獲トラップは、筐体内に互いに
絶縁され、適当な間隔のギャップで配列された複数枚の
＋電極板と−電極板で構成され、両電極板の間に高圧の
直流電圧を加圧し、ギャップを通過する排気ガス中の異
物を該各電極板に捕獲する。両電極板は着脱可能として
随時清掃する。 【効果】 異物捕獲トラップの電極板に排気ガス中の異
物が捕獲されて床下配管に堆積されないので、その清掃
作業の必要性がなくなるとともに、異物の堆積による反
応ガスの異常なフローと、その薄膜の形成に及ぼす悪影
響が排除される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体製造に使用さ
れるＣＶＤ装置において、その排気ガスに含まれる異物
を捕獲する方法に関するものである。
れるＣＶＤ装置において、その排気ガスに含まれる異物
を捕獲する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体のＩＣは気相成長法（ＣＶＤ）に
よりウエハに酸化膜を形成して製造される。ＣＶＤ装置
には種々の特長があるので広く使用されており、その方
式には各種がある。図４は枚葉式とよばれるＣＶＤ装置
１の概略の構成を示し、反応炉11の内部に受け台12を設
け、これに被処理のウエハ２が載置される。受け台12は
ヒータにより加熱されてウエハ２が適当な温度に維持さ
れる。これに対して、上部に設けられた供給管13によ
り、モノシランガス（ＳｉＨ4)、酸素ガス（Ｏ2)、窒素
ガス（Ｎ2)またはＴＥＯＳ，Ｏ3 及びＮ2 を混合した反
応ガスが反応炉内に供給され、分配板14の噴射孔または
噴射スリット141 によりウエハ２の表面に均一に分配さ
れ、反応ガスの反応により表面上に酸化膜（ＳｉＯ2)が
堆積して薄膜が形成される。反応済みのガスは、排気ガ
スとなって下方にフローして排気管15により排出され、
これに接続された床下配管３を通して屋外の所定の箇所
に廃棄される。反応作用が進行して薄膜が所定の厚さに
形成されると反応ガスの供給を停止し、その代わりにＮ
2 のみを供給して残留ガスを置換し、反応炉内が清掃
（パージ）される。以上においては例として枚葉式をと
ったが、他の形式のＣＶＤ装置においても、同一または
異なる反応ガスを使用してほぼ同様の薄膜が形成され
る。
よりウエハに酸化膜を形成して製造される。ＣＶＤ装置
には種々の特長があるので広く使用されており、その方
式には各種がある。図４は枚葉式とよばれるＣＶＤ装置
１の概略の構成を示し、反応炉11の内部に受け台12を設
け、これに被処理のウエハ２が載置される。受け台12は
ヒータにより加熱されてウエハ２が適当な温度に維持さ
れる。これに対して、上部に設けられた供給管13によ
り、モノシランガス（ＳｉＨ4)、酸素ガス（Ｏ2)、窒素
ガス（Ｎ2)またはＴＥＯＳ，Ｏ3 及びＮ2 を混合した反
応ガスが反応炉内に供給され、分配板14の噴射孔または
噴射スリット141 によりウエハ２の表面に均一に分配さ
れ、反応ガスの反応により表面上に酸化膜（ＳｉＯ2)が
堆積して薄膜が形成される。反応済みのガスは、排気ガ
スとなって下方にフローして排気管15により排出され、
これに接続された床下配管３を通して屋外の所定の箇所
に廃棄される。反応作用が進行して薄膜が所定の厚さに
形成されると反応ガスの供給を停止し、その代わりにＮ
2 のみを供給して残留ガスを置換し、反応炉内が清掃
（パージ）される。以上においては例として枚葉式をと
ったが、他の形式のＣＶＤ装置においても、同一または
異なる反応ガスを使用してほぼ同様の薄膜が形成され
る。
【０００３】上記において反応作用により生成されるＳ
ｉＯ2 は、単にウエハの表面に堆積するのみでなく、フ
ロー中にも生成され、これらは異物となってその一部は
反応炉内の各部に付着し、大部分は排気ガスとともに排
気管15と床下配管３により屋外に排出される。また付着
した異物は上記の反応炉のパージによりやはり屋外に排
出される。
ｉＯ2 は、単にウエハの表面に堆積するのみでなく、フ
ロー中にも生成され、これらは異物となってその一部は
反応炉内の各部に付着し、大部分は排気ガスとともに排
気管15と床下配管３により屋外に排出される。また付着
した異物は上記の反応炉のパージによりやはり屋外に排
出される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】さて、上記により反応
炉より排出される異物は、排気管15や床下配管３の内壁
に付着して堆積する。堆積した異物が多量になると、排
気ガスの排出が妨害されて反応ガスのフローが異常とな
って安定な反応作用に支障し、形成される薄膜の品質に
悪影響を及ぼす恐れがある。このような支障ないしは悪
影響を排除するためには、排気管15と床下配管３を適時
に清掃することが必要である。しかし、床下配管３は他
の反応炉と共通に使用されるので随時に清掃することが
できず、また構造上清掃が困難な場合がある。その対策
として、床下配管の手前で異物を捕獲することが有効で
ある。以上に対して、一般に静電気により塵埃などの微
粒子を集塵または捕獲する方法が知られており、これを
応用した捕獲トラップを使用すれば問題を解決すること
ができる。
炉より排出される異物は、排気管15や床下配管３の内壁
に付着して堆積する。堆積した異物が多量になると、排
気ガスの排出が妨害されて反応ガスのフローが異常とな
って安定な反応作用に支障し、形成される薄膜の品質に
悪影響を及ぼす恐れがある。このような支障ないしは悪
影響を排除するためには、排気管15と床下配管３を適時
に清掃することが必要である。しかし、床下配管３は他
の反応炉と共通に使用されるので随時に清掃することが
できず、また構造上清掃が困難な場合がある。その対策
として、床下配管の手前で異物を捕獲することが有効で
ある。以上に対して、一般に静電気により塵埃などの微
粒子を集塵または捕獲する方法が知られており、これを
応用した捕獲トラップを使用すれば問題を解決すること
ができる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明はＣＶＤ装置の
排気ガスの異物捕獲方法であって、ＣＶＤ装置の反応炉
の排気管と、建物の床下に設けらた共通排気配管の接続
点に異物捕獲トラップを設ける。異物捕獲トラップは、
筐体と、筐体内に複数枚の＋極および−極の電極板が互
いに絶縁され、適当な間隔のギャップで配列され、着脱
可能な捕獲電極部とを有し、＋電極板と−電極板の間に
高圧の直流電圧を加圧し、ギャップを通過する排気ガス
中の異物を該各電極板に捕獲する。
排気ガスの異物捕獲方法であって、ＣＶＤ装置の反応炉
の排気管と、建物の床下に設けらた共通排気配管の接続
点に異物捕獲トラップを設ける。異物捕獲トラップは、
筐体と、筐体内に複数枚の＋極および−極の電極板が互
いに絶縁され、適当な間隔のギャップで配列され、着脱
可能な捕獲電極部とを有し、＋電極板と−電極板の間に
高圧の直流電圧を加圧し、ギャップを通過する排気ガス
中の異物を該各電極板に捕獲する。
【０００６】
【作用】上記の捕獲電極部は、筐体内にそれぞれ複数枚
の＋極および−極の電極板が、互いに絶縁されて適当な
間隔のギャップで配列されており、＋電極板と−電極板
の間に高圧の直流電圧を加圧すると、静電気の作用によ
り各電極板が異物の捕獲作用を生ずるもので、反応炉の
排気管より排出される排気ガスを、電極板間のギャップ
を通過させると、排気ガス中の異物が各電極板に捕獲さ
れる。これにより異物は床下配管に流入せず、堆積しな
いので、床下配管の清掃が不要となる。また、捕獲トラ
ップ自体の清掃は、捕獲電極部が着脱可能であるので、
反応炉の動作停止中ならば、随時に筐体よりこれを取り
出して電極板を清掃することができる。
の＋極および−極の電極板が、互いに絶縁されて適当な
間隔のギャップで配列されており、＋電極板と−電極板
の間に高圧の直流電圧を加圧すると、静電気の作用によ
り各電極板が異物の捕獲作用を生ずるもので、反応炉の
排気管より排出される排気ガスを、電極板間のギャップ
を通過させると、排気ガス中の異物が各電極板に捕獲さ
れる。これにより異物は床下配管に流入せず、堆積しな
いので、床下配管の清掃が不要となる。また、捕獲トラ
ップ自体の清掃は、捕獲電極部が着脱可能であるので、
反応炉の動作停止中ならば、随時に筐体よりこれを取り
出して電極板を清掃することができる。
【０００７】
【実施例】図１および図２はこの発明の一実施例におけ
る異物捕獲トラップを示し、図１は全体の構成図、図２
は捕獲電極部の斜視外観図である。図１において、異物
捕獲トラップ１０は筐体４、吸入管５、排出管６、捕獲
電極部７、および高電圧発生器８により構成される。筐
体４は円筒形の絶縁物よりなり、両側面に絶縁物の側板
４a,４b を有する。側板４a は着脱可能として筐体に取
り付け、側板４b は側面に固定する。排出管６は側板４
b の中心部を貫通して筐体内部に入り、その先端が側板
４a と適当な間隔をなすものとする。捕獲電極部７は図
２に示すように、中心孔を有し、大きい外径と内径を有
する複数の金属円板を＋電極板71a,71b ……、小さい外
径と内径を有する複数の金属円板を−電極板72a,72b …
…とし、各電極板を互いに適当な間隔のギャップをなし
て絶縁物の連結棒74a,74b,74c により連結する。また、
各＋電極板同士を電線74a により接続し、各−電極板同
士を電線74b により接続する。各連結棒を側板４a に固
定し、捕獲電極部７を図１に示すように、筐体４と排出
管６の間の空間に着脱可能に挿入する。吸入管５よりの
排気ガスは、矢印のように各電極板のギャップを通過し
て排出管６より排出される。各電線74a,74b は側板４a
を通して外部に引き出され高電圧発生器８の＋極と−極
の端子にそれぞれ接続される。−電極は接地し、＋電極
に加圧する直流高電圧は実験などにより適切な値を定め
るが、少なくとも数万ボルトが必要であり、ただしパワ
ーは微小でよい。従って高電圧発生器８は微小なパワー
の高電圧を発生する、静電発生器が望ましい。
る異物捕獲トラップを示し、図１は全体の構成図、図２
は捕獲電極部の斜視外観図である。図１において、異物
捕獲トラップ１０は筐体４、吸入管５、排出管６、捕獲
電極部７、および高電圧発生器８により構成される。筐
体４は円筒形の絶縁物よりなり、両側面に絶縁物の側板
４a,４b を有する。側板４a は着脱可能として筐体に取
り付け、側板４b は側面に固定する。排出管６は側板４
b の中心部を貫通して筐体内部に入り、その先端が側板
４a と適当な間隔をなすものとする。捕獲電極部７は図
２に示すように、中心孔を有し、大きい外径と内径を有
する複数の金属円板を＋電極板71a,71b ……、小さい外
径と内径を有する複数の金属円板を−電極板72a,72b …
…とし、各電極板を互いに適当な間隔のギャップをなし
て絶縁物の連結棒74a,74b,74c により連結する。また、
各＋電極板同士を電線74a により接続し、各−電極板同
士を電線74b により接続する。各連結棒を側板４a に固
定し、捕獲電極部７を図１に示すように、筐体４と排出
管６の間の空間に着脱可能に挿入する。吸入管５よりの
排気ガスは、矢印のように各電極板のギャップを通過し
て排出管６より排出される。各電線74a,74b は側板４a
を通して外部に引き出され高電圧発生器８の＋極と−極
の端子にそれぞれ接続される。−電極は接地し、＋電極
に加圧する直流高電圧は実験などにより適切な値を定め
るが、少なくとも数万ボルトが必要であり、ただしパワ
ーは微小でよい。従って高電圧発生器８は微小なパワー
の高電圧を発生する、静電発生器が望ましい。
【０００８】図３は、上記の異物捕獲トラップ１０をＣ
ＶＤ装置１に適用した場合の構成を示す。反応炉11の排
気管15に対して異物捕獲トラップ１０の吸入管５を接続
し、排出管７を床下配管３に接続する。排気管15より排
出される排気ガスは吸入管５より捕獲電極部７の各電極
板間のギャップを通過し、排出管６を通って床下配管３
に排気される。高電圧発生器８を動作させて＋電極板71
a,71b ……と−電極板72a,72b ……の間に高電圧を加圧
すると、静電気の作用により排気ガス中の異物が各電極
板に捕獲される。捕獲した異物がある程度堆積したら、
側板４a とともに捕獲電極部７を筐体４から取り出して
清掃する。上記は一実施例であって、筐体４や捕獲電極
部７を上記と異なる構造とすることも可能であるが、そ
の場合、静電気の作用により異物を捕獲するトラップで
ある限りこの発明に包含される。
ＶＤ装置１に適用した場合の構成を示す。反応炉11の排
気管15に対して異物捕獲トラップ１０の吸入管５を接続
し、排出管７を床下配管３に接続する。排気管15より排
出される排気ガスは吸入管５より捕獲電極部７の各電極
板間のギャップを通過し、排出管６を通って床下配管３
に排気される。高電圧発生器８を動作させて＋電極板71
a,71b ……と−電極板72a,72b ……の間に高電圧を加圧
すると、静電気の作用により排気ガス中の異物が各電極
板に捕獲される。捕獲した異物がある程度堆積したら、
側板４a とともに捕獲電極部７を筐体４から取り出して
清掃する。上記は一実施例であって、筐体４や捕獲電極
部７を上記と異なる構造とすることも可能であるが、そ
の場合、静電気の作用により異物を捕獲するトラップで
ある限りこの発明に包含される。
【０００９】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明による異
物捕獲方法においては、ＣＶＤ装置の排気管と床下配管
との接続点に設けた異物捕獲トラップにより、反応炉よ
りの排気ガス中に含まれている異物が、静電気の作用に
より捕獲電極部の電極板に捕獲され、床下配管に堆積さ
れないので、その清掃作業の必要性がなくなるととも
に、異物の堆積により反応炉における反応ガスの異常な
フローの発生と、その薄膜の形成に及ぼす悪影響が排除
される効果には大きいものがある。
物捕獲方法においては、ＣＶＤ装置の排気管と床下配管
との接続点に設けた異物捕獲トラップにより、反応炉よ
りの排気ガス中に含まれている異物が、静電気の作用に
より捕獲電極部の電極板に捕獲され、床下配管に堆積さ
れないので、その清掃作業の必要性がなくなるととも
に、異物の堆積により反応炉における反応ガスの異常な
フローの発生と、その薄膜の形成に及ぼす悪影響が排除
される効果には大きいものがある。
【図１】 この発明の一実施例における異物捕獲トラッ
プを示す全体の構成図である。
プを示す全体の構成図である。
【図２】 この発明の一実施例における異物捕獲トラッ
プを示す捕獲電極部の斜視外観図である。
プを示す捕獲電極部の斜視外観図である。
【図３】 この発明の一実施例の構成を示す。
【図４】 ＣＶＤ装置の一例の枚葉式ＣＶＤ装置１の概
略の構成を示す。
略の構成を示す。
１…ＣＶＤ装置、11…反応炉、12…受け台、13…供給
管、14…分配板、141 …噴射孔または噴射スリット、15
…排気管、２…ウエハ、３…共通の床下配管、４…筐
体、４a,４b …側板、５…吸入管、６…排出管、７…捕
獲電極部、71a,71b …＋電極板、72a,72b …−電極板、
73a,73b,73c …連結棒、74a,74b …電線、８…高電圧発
生器、１０…異物捕獲トラップ。
管、14…分配板、141 …噴射孔または噴射スリット、15
…排気管、２…ウエハ、３…共通の床下配管、４…筐
体、４a,４b …側板、５…吸入管、６…排出管、７…捕
獲電極部、71a,71b …＋電極板、72a,72b …−電極板、
73a,73b,73c …連結棒、74a,74b …電線、８…高電圧発
生器、１０…異物捕獲トラップ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/205 7454−4Ｍ 21/31 Ｂ 8518−4Ｍ
Claims (1)
- 【請求項１】 ＣＶＤ装置における反応ガスの反応によ
り発生した異物を含む排気ガスの排出において、該ＣＶ
Ｄ装置の反応炉の排気管と、建物の床下に設けらた共通
排気配管との接続点に、筐体と、該筐体内に複数枚の＋
極および−極の電極板が互いに絶縁され、適当な間隔の
ギャップで配列され、着脱可能な捕獲電極部とを有する
異物捕獲トラップを設け、該＋電極板と−電極板の間に
高圧の直流電圧を加圧し、前記ギャップを通過する排気
ガス中の異物を該各電極板に捕獲することを特徴とす
る、ＣＶＤ装置の排気ガスの異物捕獲方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3412392A JPH05202474A (ja) | 1992-01-24 | 1992-01-24 | Ｃｖｄ装置の排気ガスの異物捕獲方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3412392A JPH05202474A (ja) | 1992-01-24 | 1992-01-24 | Ｃｖｄ装置の排気ガスの異物捕獲方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05202474A true JPH05202474A (ja) | 1993-08-10 |
Family
ID=12405472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3412392A Pending JPH05202474A (ja) | 1992-01-24 | 1992-01-24 | Ｃｖｄ装置の排気ガスの異物捕獲方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05202474A (ja) |
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-
1992
- 1992-01-24 JP JP3412392A patent/JPH05202474A/ja active Pending
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