JPH05196365A - 熱処理炉装置 - Google Patents

熱処理炉装置

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JPH05196365A
JPH05196365A JP4210247A JP21024792A JPH05196365A JP H05196365 A JPH05196365 A JP H05196365A JP 4210247 A JP4210247 A JP 4210247A JP 21024792 A JP21024792 A JP 21024792A JP H05196365 A JPH05196365 A JP H05196365A
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JP
Japan
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chamber
carburizing
workpiece
cooling
soaking
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Withdrawn
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JP4210247A
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English (en)
Inventor
Gary D Keil
ディー キール ゲアリー
Loren D Thompson
ディー トンプソン ローレン
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Caterpillar Inc
Original Assignee
Caterpillar Inc
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/08Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
    • C23C8/20Carburising
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/0037Rotary furnaces with vertical axis; Furnaces with rotating floor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/0062Heat-treating apparatus with a cooling or quenching zone
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 単一熱処理炉装置において、個々の金属加工
物に対し2つの異なる浸炭処理を同時に実施することで
ある。 【構成】 本装置は、浸炭ガス雰囲気が入っているロー
タリ浸炭室、浸炭室に隣接する冷却室、浸炭室に隣接す
る均熱室、浸炭室と冷却室および浸炭室と均熱室の間で
ガス雰囲気が移動するのを阻止するガス遮断装置、およ
び少なくとも1個の選択した加工品を浸炭室から冷却室
へまたはその逆へ、そして冷却室から均熱室またはその
逆へ移送するための移送機構を備えている。浸炭室は加
工品の配列を支持する回転可能な円形火床、加工品を浸
炭室へ搬入するための入口と搬出するための出口を有す
る。冷却装置は、内部の保護ガス雰囲気を供給する手段
を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般には、鋼を熱処理
すること、より詳細には、熱処理炉装置および浸炭処理
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の連続浸炭炉装置は、特定の浸炭処
理を実施するように設計されている。複数の浸炭処理を
実施することが可能な装置は、バッチ方式で運転され
る、すなわち一度に1つの処理を実施する。
【0003】従来の連続浸炭炉装置は、浸炭処理のいろ
いろな工程、すなわち加熱操作、浸炭操作、冷却操作、
均熱操作、および急冷操作を分離して行うために異なる
室を有する。たとえば、米国特許第4,763,880 号(1988
年8月16日発行) は、予熱室、ロータリ浸炭室、ロータ
リ拡散室、およびロータリ均熱室が順次配置された炉装
置を開示している。冷却室、バッチ急冷室、およびプレ
ス急冷室は、均熱室に連結されている。この炉装置は、
異なる熱処理サイクルが必要な部品を処理することが可
能であるが、実質上非炭化物処理の実施に限られる(す
なわち、処理の目的は、ミクロ組織に高い体積率の自由
炭化物を作ることではない)。装置は、急冷操作を用い
て、または用いずに、さまざまな部品を異なる硬化層深
さまで処理する。装置は、たとえば、カナダ特許第610,
554 号(1960年11月23日発行) または米国特許第4,921,
025 号(1990年5月1日発行)に記載されているような
炭化物処理を実施することができない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】連続炉装置において、
複数の浸炭処理(たとえば、炭化物処理のほか、実質上
非炭化物処理)を同時に実施することができる炉装置を
提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、第1の態様と
して、(a)囲われたハウジング、ハウジング内に配置
され、金属加工物の配列を支持する回転可能な円形火
床、加工物を浸炭室に搬入するための入口、および加工
物を搬出するための出口を有し、浸炭ガス雰囲気が入っ
ているロータリ浸炭室、(b)浸炭室の隣に配置され、
浸炭室の出口に通じている開口と、室内の保護ガス雰囲
気を供給する手段とを有する冷却室、(c)冷却室の開
口と浸炭室の出口と共同して、浸炭室と冷却室間のガス
雰囲気の移動を阻止するためのガス遮断装置、および
(d)浸炭室から冷却室へ、そしてその逆へ少なくとも
1個の選択した加工物を移送するための移送手段を備え
た、金属加工品を熱処理するための熱処理炉装置を提供
する。
【0006】本発明は、第2の態様として、ロータリ浸
炭室、均熱室、および冷却室を備えた炉装置において個
々の加工物に対し2つの異なる浸炭処理を同時に実施す
る方法を提供する。本方法は、以下の3つの浸炭処理の
うち、任意の2つを同時に実施することを含む。 (1) 第1加工物を、所望の硬化層深さを生成させる
ため十分な時間の間、浸炭室内に保持すること、第1加
工物を浸炭室から均熱室へ直接移送して、第1加工物の
温度を均熱室の温度に等しくするため十分な時間の間、
均熱室内に保持すること、および第1加工物を均熱室か
ら取り出すこと。
【0007】(2) 第2加工物を、所望の硬化層深さ
を生成させるため十分な時間の間、浸炭室内に保持する
こと、第2加工物を浸炭室から冷却室へ直接移送して、
冷却すること、第2加工物を冷却室から均熱室へ移送し
て、第2加工物の温度を均熱室の温度に等しくするため
十分な時間の間、均熱室内に保持すること、および第2
加工物を均熱室から取り出すこと。
【0008】(3) 第3加工物を浸炭室内の支持体の
上に置くこと、第3加工物を、所望の硬化層深さの一部
を生成させるため十分な時間の間、浸炭室内に保持する
こと、第3加工物を浸炭室から冷却室へ直接移送して、
冷却すること、第3加工物を、炭化物を生成するため十
分な時間の間、浸炭室へ戻すこと、および炭化物が生成
された後、第3加工物を冷却すること。
【0009】本発明の好ましい実施例においては、1つ
の熱処理炉装置において、2つの処理、すなわち処理
(3)と処理(1)または(2)を同時に実施する。本
発明の別の実施例においては、3つの処理のすべてを同
時に実施する。
【0010】
【実施例】図1は、好ましい連続熱処理炉装置20の全
体配置を示す。この熱処理炉装置20は、浸炭処理のと
き加工物(図示せず)が通過する幾つかの室を備えてい
る。予熱室22は通常の構造を有し、比較的中性のガス
雰囲気の中で加工物を浸炭温度まで高める作用をする。
浸炭室24は加工物の中に炭素を浸透させる作用をす
る。浸炭室24は加工物の表面に硬化層を生成するほ
か、加工物の中に炭化物を生成することができる。浸炭
室24は予熱室22に連結されている。浸炭室24はド
ーナツ形のロータリ室が好ましい。浸炭室24は、時間
とは無関係な任意の選択した順序で、または搬入の順序
で、加工物を搬入し、搬出することができる可変サイク
ルを有することが好ましい。この目的に合った典型的な
ロータリ浸炭室が、米国特許第4,763,880 号の図1(参
照番号30)に記載されている。
【0011】均熱室26は加工物を焼入れに必要な温度
まで加熱する作用をする。均熱室26は浸炭室24と構
造が似ている。典型的な均熱室が、米国特許第4,763,88
0 号の図1(参照番号34)に記載されている。
【0012】均熱室26には、バッチ急冷室30が連結
されている。バッチ急冷室30は急冷媒体たとえば油が
入っている槽に加工物を入れるエレベータ(図示せず)
を備えた通常の装置である。急冷後、加工物はエレベー
タで持ち上げられて搬出される。
【0013】均熱室26には、さらに、均熱室26から
加工物を受け取るプレス急冷室32が連結されている。
プレス急冷室32も加工物の温度を選択したレベルに保
つ加熱装置(図示せず)を備えた通常の装置である。図
示のように、プレス急冷室32は加工物を保持する2つ
の位置を有するが、1つの位置のみを使用することがで
きる。
【0014】本発明の第1の特徴に従って、浸炭室24
の隣に配置された冷却室40Aまたは40Bは、浸炭室
24の出口に通じた開口を有する。もう1つの冷却室4
0Cは均熱室26に連結されている。冷却室40A,4
0B,40Cは、加工物の温度を、より低い臨界温度A
1 以下へ下げる作用をする。必ずしも冷却室を1つ以上
設置する必要はないが、1個のみ設置する場合は、浸炭
室24に連結する。あとで明らかになるように、複数の
冷却室は特に有益である。各冷却室40A,40Bまた
は40Cは同一構造でもよい。各冷却室は、1つまたは
それ以上の加工物のトレー(加工物をのせて搬送するた
めの用具)を冷却することができる。各冷却室内の冷却
位置の厳密な数は、処理量要求によって決まる。各冷却
室40A,40B,40Cは、水冷または油冷ジャケッ
トを有し、さらに冷却板またはフィン付き管巣(図示せ
ず)を備えているものが好ましい。冷却速度を最大にす
るため、各冷却室に1個以上のファン42を設置するこ
とができる。
【0015】浸炭室24と冷却室40Aまたは40Bの
間には、2つの室の間で加工物を双方向に移送できる周
知形式の移送機構が設置されていることに留意された
い。冷却室40Aと均熱室26の間にも、同様な移送機
構を設置すべきである。この移送機構を用いて、冷却室
40Aと均熱室26または浸炭室24との間で加工物を
循環させることができる。同様に、冷却室40Cと均熱
室26の間にも、同様な移送機構が設置されている。
【0016】隣接する2つの室の間には、ガス遮断装置
50が設置されている。各装置50は隣り合う2つの室
の間でガス雰囲気が移動するのを阻止する作用をし、通
常の扉構造でもよい。適当な扉構造のガス遮断装置の1
つは、米国特許第3,662,996号明細書(図2)に記載さ
れている二重扉である。
【0017】加工物のトレーをロードしたり、アンロー
ドしたりするため、ロード/アンロードコンベヤ61が
設置されている。また、装填コンベヤ62は予熱室22
へ接続されている。複数の戻しコンベヤ63は急冷室3
0,32および冷却室40Cからロード/アンロードコ
ンベヤ61へ接続されている。
【0018】図2に示した第2実施例および類似の構成
要素は、図1の第1実施例に使用した同じ番号に(′)
を付けて示してある。2つの実施例の主な相違点は、浸
炭室24′と均熱室26′の間に冷却室がないことであ
る。この2つの実施例を使用して、次に説明する処理を
同時に実施することができる。
【0019】ここで使用する用語「浸炭」は、炭素/窒
素(浸炭窒化)ガス雰囲気のほかに、炭素リッチガス雰
囲気の中で処理することを含む。典型的な炭素リッチガ
ス雰囲気は、この分野の専門家にとって周知のように、
一酸化炭素、水素、および窒素に、天然ガスまたはプロ
パンなどの濃縮ガスを追加したものである。典型的な浸
炭窒化ガス雰囲気は、炭素リッチガス雰囲気にアンモニ
ヤを追加したものである。
【0020】上に述べた熱処理炉装置20において実施
できる第1の処理は、浸炭/均熱/直接急冷処理であ
る。熱処理炉装置20において実施する場合には、この
処理は、有害な、過剰炭素の表面ミクロ組織の生成を防
止するため、硬化層深さ(従って、浸炭時間)を制限す
べきであると考えられる。この第1の処理は、鋼の加工
物の生地炭素に対し中性のガス雰囲気が入っている予熱
室22の中で加工物を浸炭温度まで加熱すること、加熱
された加工物を浸炭室24の中に置くこと、炭素濃度の
非常に高いガス雰囲気(炭素飽和限度以上)および浸炭
室24の温度(一般に、1700°Fすなわち927°
C)を所望の設定値に保つこと、所望の硬化層深さを生
成させるため十分な時間の間(一般に、1〜10時
間)、加工物を浸炭室24内に保持すること、加工物を
浸炭室24から炭素濃度が非常に高いガス雰囲気(炭素
飽和限度以上)が入っている均熱室26へ直接移送する
こと、第1加工物の温度を均熱室26の温度(一般に、
1540°F、すなわち838°C)に等しくするため
十分な時間の間、加工物を均熱室26内に保持するこ
と、加工物を均熱室26から取り出すこと、および加工
物をバッチ急冷またはプレス急冷すること、の諸ステッ
プから成っている。
【0021】この第1の処理は、一般に、マルテンサイ
トと残留オーステナイトから成る、炭化物のないミクロ
組織を生成する。
【0022】熱処理炉装置20において実施できる第2
の処理は、浸炭/冷却/再加熱処理である。この第2の
処理は、鋼の加工物の生地炭素に対し中性のガス雰囲気
が入っている予熱室22の中で加工物を浸炭温度まで加
熱すること、加熱された加工物を浸炭室24の中に置く
こと、炭素濃度が非常に高いガス雰囲気(炭素飽和限度
以上)および浸炭室24の温度(一般に、1700°F
すなわち927°C)を所望の設定値に保つこと、所望
の硬化層深さを生成させるため十分な時間の間(時間
は、もっぱら所望の硬化層深さによって決まり、かなり
長くなることがある)、加工物を浸炭室24中に保持す
ること、加工物を浸炭室24から冷却室40Aまたは4
0Bへ直接移送し、加工物をより低い臨界温度(A1
以下の温度まで冷却すること、加工物を冷却室40Aま
たは40Bから炭素濃度が非常に高いガス雰囲気(炭素
飽和限度以上)が入っている均熱室26へ移送するこ
と、加工物を焼入れ温度(一般に、1540°F、すな
わち838°C)まで再加熱するため十分な時間の間、
加工物を均熱室26内に保持すること、加工物を均熱室
26から取り出すこと、および加工物をバッチ急冷また
はプレス急冷すること、の諸ステップから成る。
【0023】この第2の処理は、一般に、マルテンサイ
トと残留オーステナイトから成るミクロ組織を生成す
る。また、この第2の処理は、低い体積率の超微細炭化
物を含ませることもできる。
【0024】熱処理炉装置20において実施できる第3
の処理は、複数浸炭操作と冷却操作を含む処理である。
この第3の処理は、鋼の加工物の生地炭素に対し中性の
ガス雰囲気が入っている予熱室22の中で加工物を浸炭
温度まで加熱すること、加熱された加工物を浸炭室24
の中に置くこと、炭素濃度が非常に高いガス雰囲気(炭
素飽和限度以上)および浸炭室24の温度(一般に、1
700°F、すなわち927°C)を所望の設定値に保
つこと、所望の硬化層深さの一部だけを生成させるため
十分な時間の間、加工物を浸炭室24内に保持するこ
と、加工物を浸炭室24から冷却室40Aまたは40B
へ直接移送し、加工物を冷却すること、加工物を浸炭室
24と冷却室40Aまたは40Bとの間で循環させ、追
加の硬化層深さおよび炭化物を生成させること、炭化物
が形成されたあと、加工物を冷却すること、および加工
物をバッチ急冷またはプレス急冷すること、の諸ステッ
プから成る。
【0025】この第3の処理は、一般に、マルテンサイ
トと残留オーステナイトから成るミクロ組織を生成する
と共に、高い体積率の炭化物を含ませるであろう。この
分野の専門家には明らかであろうが、この第3の処理を
若干変更して、上記の米国特許第4,921,025 号またはカ
ナダ特許第610,554 号に記載されている炭化物組織を生
成させることができる。
【0026】
【発明の効果】以上の説明で、処理室の独自の配置を有
する熱処理炉装置が開示されたことは明らかであろう。
冷却室40A,40B,40A′および40B′は、図
1および図2に示すように片側に、あるいは図1に示す
ように浸炭室24,24′と均熱室26,26′の間
に、浸炭室24,24′に隣接して配置されている。こ
の独自の配置と、浸炭室と冷却室の間で加工物を双方向
に移送することができる移送機構とにより、異なる熱処
理操作(上に述べた)を単独で、または同時に、あるい
は異なる加工物に同じ熱処理操作を実施できる熱処理炉
装置が得られる。
【0027】本発明のその他の特徴、機能および利点に
ついては、以上の詳細な説明および特許請求の範囲を熟
読すれば、理解することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法を実施できる熱処理炉装置の好ま
しい実施例の平面図である。
【図2】本発明の方法を実施できる熱処理炉装置の第2
の実施例を示す、図1に似た平面図である。
【符号の説明】
20 連続熱処理炉装置 22 予熱室 24 浸炭室 26 均熱室 30 バッチ急冷室 32 プレス急冷室 40A,40B,40C 冷却室 42 冷却ファン 50 ガス遮断装置 61 ロード/アンロードコンベヤ 62 装填コンベヤ 63 戻しコンベヤ

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属加工物を熱処理するための熱処理炉
    装置であって、 囲われたハウジング、前記ハウジング内で加工物の配列
    を支持する回転可能な円形火床、加工物を浸炭室に搬入
    するための入口、および加工物を搬出するための出口を
    有し、浸炭ガス雰囲気が入っているロータリ浸炭室、 浸炭室の隣りに配置され、浸炭室の出口に通じている開
    口と、冷却室内の保護ガス雰囲気を供給する手段を有す
    る冷却室、 冷却室の開口と浸炭室の出口と共同して、浸炭室と冷却
    室間のガス雰囲気の移動を阻止するガス遮断装置、およ
    び 浸炭室から冷却室へ、またはその逆へ少なくとも1個の
    選択した加工物を移送するための移送手段、を備えてい
    ることを特徴とする熱処理炉装置。
  2. 【請求項2】 さらに、浸炭室から加工物を受け取るた
    め浸炭室の隣に配置され、炭素リッチガス雰囲気が入っ
    ている均熱室を備えていることを特徴とする請求項1に
    記載の熱処理炉装置。
  3. 【請求項3】 前記均熱室は、ロータリ浸炭室に似た構
    造をもつロータリ均熱室であることを特徴とする請求項
    2に記載の熱処理炉装置。
  4. 【請求項4】 前記冷却室は、浸炭室と均熱室の間に配
    置されていて、冷却室の開口と均熱室の入口と共同し
    て、冷却室と均熱室間のガス雰囲気の移動を阻止する第
    2ガス遮断装置を有していることを特徴とする請求項2
    に記載の熱処理炉装置。
  5. 【請求項5】 さらに、浸炭室の隣に配置され、浸炭室
    のもう1つの出口に通じている開口と、室内の保護ガス
    雰囲気を供給する手段を有する第2冷却室を備えている
    ことを特徴とする請求項4に記載の熱処理炉装置。
  6. 【請求項6】 前記均熱室は浸炭室に隣接しているこ
    と、および均熱室の隣に配置され、均熱室に通じている
    開口と、室内の保護ガス雰囲気を供給する手段を有する
    第3冷却室を備えていることを特徴とする請求項2に記
    載の熱処理炉装置。
  7. 【請求項7】 前記冷却室は、加工物を急冷する手段を
    有することを特徴とする請求項1に記載の熱処理炉装
    置。
  8. 【請求項8】 ロータリ浸炭室、均熱室、および冷却室
    を備えている(拡散室は備えていない)熱処理炉装置に
    おいて、個々の加工物に対し2つの異なる浸炭処理を同
    時に実施する方法であって、 第1および第2加工物を浸炭室内の個別の支持体の上に
    置くこと、 浸炭室の温度およびガス雰囲気を所望の設定値に保つこ
    と。第1加工物を、所望の硬化層深さを生成させるため
    十分な時間の間、浸炭室内に保持すること、 第1加工物を浸炭室から均熱室へ直接移送し、第1加工
    物の温度を均熱室の温度に等しくするため十分な時間の
    間、均熱室内に保持すること、 第1加工物を均熱室から取り出すこと。同時に、第2加
    工物を、所望の硬化層深さを生成させるため十分な時間
    の間、浸炭室内に保持すること、 第2加工物を浸炭室から冷却室へ直接移送し、冷却する
    こと、 第2加工物を冷却室から均熱室へ移送し、第2加工物の
    温度を均熱室の温度に等しくするため十分な時間の間、
    均熱室内に保持すること、および 均熱室から第2加工物を取り出すこと、により、1つの
    熱処理炉装置において、個々の加工物に対し、2つの独
    立した浸炭処理を同時に実施することを特徴とする方
    法。
  9. 【請求項9】 さらに、少なくとも1個の加工物を、均
    熱室から急冷室へ直接移送するステップを含むことを特
    徴とする請求項8に記載の方法。
  10. 【請求項10】 さらに、 第3加工物を浸炭室内の支
    持体の上に置くこと、 第3加工物を、所望の硬化層深さの一部を生成させるた
    め十分な時間の間、浸炭室内に保持すること、 第3加工物を浸炭室から冷却室へ直接移送して、冷却す
    ること、 第3加工物を、炭化物を生成させるため十分な時間の
    間、浸炭室へ戻すこと、および 炭化物が生成されたあと、第3加工物を冷却すること、
    により、1つの熱処理炉装置において、個々の加工物に
    対し3つの独立した浸炭処理を同時に実施することを特
    徴とする方法。
  11. 【請求項11】 第3加工物は、浸炭室と均熱室の間で
    複数回循環させることを特徴とする請求項10に記載の
    方法。
  12. 【請求項12】 ロータリ浸炭室、均熱室、および冷却
    室を備えた熱処理炉装置において、個々の加工物に対し
    2つの異なる浸炭処理を同時に実施する方法であって、 第1および第2加工物を浸炭室内の個別の支持体の上に
    置くこと、 浸炭室の温度およびガス雰囲気を所望の設定値に保つこ
    と。第1加工物を、所望の硬化層深さを生成させるため
    十分な時間の間、浸炭室内に保持すること、 第1加工物を浸炭室から冷却室へ直接移送し、冷却する
    こと、 第1加工物を、炭化物を生成させるため十分な時間の
    間、浸炭室へ戻すこと、 炭化物が生成されたあと、第1加工物を冷却すること、 同時に、第2加工物を、所望の硬化層深さを生成させる
    ため十分な時間の間、浸炭室内に保持すること、 第2加工物を浸炭室から冷却室へ直接移送し、冷却する
    こと、 第2加工物を冷却室から均熱室へ移送し、第2加工物の
    温度を均熱室の温度に等しくするため十分な時間の間、
    均熱室内に保持すること、および 均熱室から第2加工物を取り出すこと、により、1つの
    熱処理炉装置において、個々の加工物に対し、2つの独
    立した浸炭処理を同時に実施することを特徴とする方
    法。
  13. 【請求項13】 ロータリ浸炭室、均熱室、および冷却
    室を備えた熱処理炉装置において、個々の加工物に対し
    2つの異なる浸炭処理を同時に実施する方法であって、 第1および第2加工物を浸炭室内の個別の支持体の上に
    置くこと、 浸炭室の温度およびガス雰囲気を所望の設定値に保つこ
    と。第1加工物を、所望の硬化層深さの一部を生成させ
    るため十分な時間の間、浸炭室内に保持すること、 第1加工物を浸炭室から冷却室へ直接移送し、冷却する
    こと、 第1加工物を、炭化物を生成させるため十分な時間の
    間、浸炭室へ戻すこと、 炭化物が形成されたあと、第1加工物を冷却すること、 第2加工物を、所望の硬化層深さを形成させるため十分
    な時間の間、浸炭室内に保持すること、 第2加工物を浸炭室から均熱室へ直接移送し、第2加工
    物の温度を均熱室の温度に等しくするため十分な時間の
    間、均熱室内に保持すること、および 第2加工物を均熱室から取り出すこと、により、1つの
    熱処理炉装置において、個々の加工物に対し、2つの独
    立した浸炭処理を同時に実施することを特徴とする方
    法。
  14. 【請求項14】 前記第1加工物は、浸炭室と均熱室の
    間で複数回循環させることを特徴とする請求項13に記
    載の方法。
JP4210247A 1991-08-09 1992-08-06 熱処理炉装置 Withdrawn JPH05196365A (ja)

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