JPH05195269A - 噴流式酸洗設備によるストリップの酸洗方法 - Google Patents

噴流式酸洗設備によるストリップの酸洗方法

Info

Publication number
JPH05195269A
JPH05195269A JP496892A JP496892A JPH05195269A JP H05195269 A JPH05195269 A JP H05195269A JP 496892 A JP496892 A JP 496892A JP 496892 A JP496892 A JP 496892A JP H05195269 A JPH05195269 A JP H05195269A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pickling
strip
tank
pickling solution
equipment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP496892A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukimitsu Hirai
征光 平井
Namio Hida
南海雄 肥田
Shigeo Nakayama
茂士 中山
Muneo Kubouchi
宗男 窪内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP496892A priority Critical patent/JPH05195269A/ja
Publication of JPH05195269A publication Critical patent/JPH05195269A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G3/00Apparatus for cleaning or pickling metallic material
    • C23G3/02Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously
    • C23G3/023Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously by spraying

Abstract

(57)【要約】 【目的】 噴流式酸洗設備で、ストリップの酸洗作業能
率を良くする。 【構成】 ストリップSが巻回されてなるコイルの搬送
設備に異常が発生し、酸洗槽1に通板中のストリップS
の通板が停止されたときは、循環タンク2から酸洗槽1
に連通する酸洗液供給管路3に介装されている酸洗液供
給弁3vと、酸洗槽1ら循環タンク2に酸洗液を還流さ
せる還流管路5に介装されているリターン弁5vとを閉
弁し、2本の酸洗液供給管路3から分岐して循環タンク
2に連通するバイパス管路4に介装されているバイパス
弁4vを開弁し、ストリップSが過酸洗になったりしな
い所定時間内に設備異常が復旧されると、酸洗液供給弁
3vとリターン弁5vとを開弁すると共にバイパス弁4
vを閉弁することにより、酸洗槽1からの酸洗液の排液
工程と、循環タンク2から酸洗槽1への酸洗液の揚液工
程とを省略することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特に設備異常によるス
トリップの通板停止時間が短いときは酸洗液噴射ノズル
からの酸洗液の噴射を停止する一方、酸洗槽中に滞留し
ている酸洗液を循環タンクに還流させずに、ストリップ
の酸洗作業能率を向上さ得るようにした噴流式酸洗設備
によるストリップの酸洗方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】周知のように、ストリップは脱スケール
のために酸洗されるが、ストリップの酸洗には、例えば
ストリップに酸洗液を噴射する噴流式酸洗設備が用いら
れる。以下、噴流式酸洗設備の極く一般的な従来例を、
その模式的構成説明図の図3を参照しながら説明する
と、符号1はストリップSが通板される酸洗槽であり、
この酸洗槽1と、この酸洗槽1の下方に設けた循環タン
ク2との間には、後述する構成になる酸洗液供給管路3
と還流管路5とが介装されている。
【0003】上記酸洗液供給管路3は酸洗槽1と循環タ
ンク2との間に2本平行に介装されていて、それぞれ循
環タンク2側から順に、酸洗液を循環タンク2から酸洗
槽1の底部に設けた酸洗液噴射ノズル1nに供給する循
環ポンプ3p、酸洗液を加熱してその温度を上げる熱交
換器3h、酸洗液供給弁3vとが介装される他、これら
酸洗液供給管路3の熱交換器3hと酸洗液供給弁3vと
の間で分岐して循環タンク2に連通する、バイパス弁4
vが介装されてなるバイパス管路4が設けられる一方、
還流管路5にはリターン弁5vが介装されてなる構成に
なっている。
【0004】従って、ストリップSを酸洗するに際して
は、先ず噴流式酸洗設備の運転準備として、循環ポンプ
3pを起動させ、バイパス弁4vを開弁すると共に、酸
洗液供給弁3vを閉弁して酸洗液を所定の温度に昇温さ
せる。次いで、バイパス弁4vを閉弁すると共に酸洗液
供給弁3vを開弁して酸洗槽1に酸洗液を揚液する。そ
して、酸洗槽1への酸洗液の揚液終了後には、この噴流
式酸洗設備の運転が可能になり、ストリップSを酸洗槽
1中に通板することによって酸洗の定常運転となる。ま
た、噴流式酸洗設備の定常運転時には、ストリップSの
通板速度に応じてストリップSに噴射する酸洗液の量
を、循環ポンプ3vの回転数を調整することにより変動
させるようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、噴流式酸洗
設備の定常運転中に、ストリップが巻回されてなるコイ
ルの搬送設備に異常が発生して、ストリップSの通板が
停止されると、脱スケール率(縦軸,単位%)と酸洗時
間(横軸,単位秒)の関係線図の図4a(ディップ酸洗
方式の場合を示す)と、図4b(噴流式酸洗設備による
場合を示す)とに示すとおり、噴流式酸洗設備による場
合にはディップ酸洗方式による場合に比較して、脱スケ
ール性が大であるため、酸洗液の継続噴射によりストリ
ップSが過酸洗されるばかりでなく、板破断を生じてし
まうことがある。なお、上記線図図4a,4bは、何れ
も温度75℃の3Wt%の塩酸液を、528℃で巻取っ
た銅板に適用して求めたものである。
【0006】上記のような不具合を回避するために、酸
洗液供給弁3vを閉弁し、バイパス弁4vを開弁して循
環ポンプ3pで揚液した酸洗液をバイパス管路4を介し
て循環タンク2に還流させる一方、リターン弁5vを開
弁したまま維持して、酸洗槽1に滞留している酸洗液を
循環タンク2に戻して空にしている。そして、設備異常
状態が復旧されると、酸洗液供給弁3vが開弁されると
共にリターン弁5vが閉弁されて酸洗液が循環タンク2
から酸洗槽1に揚液されて定常運転に復されることとな
る。
【0007】ところで、設備異常が生じたときは、酸洗
槽内に滞留している酸洗液の排液工程と、噴流式酸洗設
備の運転再開に際しての酸洗液の揚液工程とを経る必要
がある。換言すれば、通常前者では12〜15分を要
し、また後者は5〜7分を要する結果、設備異常として
は入出側コイルハンドリング設備の構成機器の異常が多
く通常10分程度の時間で中央設備である酸洗槽の運転
が復旧される場合が多いにも係わらず、この設備異常が
発生する都度17分〜22分の無駄時間が生じ、生産能
率の向上に対する大きな阻害要因となっている。
【0008】従って、本発明の目的とするところは、予
め設定した時間の間は、酸洗槽内に滞留している酸洗液
の排出工程を省略することにより、噴流式酸洗設備の運
転再開時間を短縮することを可能ならしめる噴流式酸洗
設備によるストリップの酸洗方法を提供するにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、噴流式酸洗設
備をデップ酸洗状態に維持すれば、脱スケール率が小さ
いので長時間ストリップを酸洗液に浸漬していても、ス
トリップの過酸洗や板破断を回避し得ることを知見して
なしたものである。
【0010】従って、本発明に係る噴流式酸洗設備によ
るストリップの酸洗方法の特徴とするところは、酸洗液
を加熱する熱交換機が介装されてなる酸洗液供給管路を
介して、循環タンクから酸洗槽に設けた酸洗液噴射ノズ
ルに酸洗液を供給し、該酸洗液噴射ノズルから酸洗槽中
で通板されているストリップに酸洗液を噴射し続けると
共に、酸洗槽に滞留している酸洗液を還流管路を介して
循環タンクに還流しつつ連続的にストリップを酸洗する
噴流式酸洗設備によるストリップの酸洗方法において、
設備に異常が生じてストリップの通板が停止されたと
き、設定した所定の時間の間は酸洗液噴射ノズルからの
酸洗液の噴射を停止させると共に還流管路を遮断し、循
環タンク中の酸洗液を酸洗液供給管路の熱交換機を通し
て該循環タンクに還流し続ける一方、所定の時間を超え
るときは還流管路の遮断を解除して酸洗槽中に滞留して
いる酸洗液を還流管路を介して循環タンクに戻す構成に
したところにある。
【0011】
【作用】本発明に係る噴流式酸洗設備によるストリップ
の酸洗方法によれば、所定時間の間に設備異常が復帰さ
れる場合には、噴流式酸洗設備の運転に際して循環タン
ク中の酸洗液を酸洗液供給管路の熱交換機を通してこの
循環タンクに還流し続けられている酸洗液の循環を停止
させて、酸洗液噴射ノズルから酸洗液を噴射させると共
に還流管路の遮断を解除することにより定常運転状態に
復帰させることができる。
【0012】また、設備異常の復旧が所定時間を超える
と、還流管路の遮断が解除されて酸洗槽中に滞留してい
る酸洗液が還流管路を介して循環タンクに戻されるの
で、運転停止時間が長くてもストリップが過酸洗された
り、板破断したりするようなことが防止される。
【0013】
【実施例】以下、本発明に係る噴流式酸洗設備によるス
トリップの酸洗方法の実施例を、噴流式酸洗設備の模式
的構成説明図の図1と、噴流式酸洗設備によりストリッ
プの酸洗を実施する制御システムの模式的シーケンス回
路図の図2とを参照しながら、従来と同一のもの並びに
同一機能を有するものを同一符号を以て説明する。
【0014】但し、この実施例に係る噴流式酸洗設備自
体は、図1から良く理解されるように、従来例の項にお
いて説明したそれの構成と全く同一であって、循環タン
クから酸洗槽への酸洗液の供給と、酸洗槽から循環タン
クへの酸洗液の還流方法が相違するだけだから、これら
の相違点についてだけの説明に止める。
【0015】噴流式酸洗設備が定常運転中に設備異常が
生じ、ストリップSの通板が停止に至ると、還流管路5
に介装されているリターン弁5vと酸洗液供給弁3vと
が閉弁されると共に、バイパス弁4vが開弁される。こ
れらの弁5v,3v,4vの開閉操作により、酸洗槽1
中には酸洗液がそのまま残される一方、循環ポンプ3p
により揚液された酸洗液は熱交換機3hをとおることに
より加熱されてバイパス管路4を経て循環タンク2に還
流され続けているので、噴流式酸洗設備の運転準備状態
で維持され続ける。
【0016】この場合、ストリップSは通板が停止され
た状態で酸洗槽1内の酸洗液に浸漬され続けることにな
るが、これは通常のディップ酸洗方式と同状態で脱スケ
ール率が小さいので、所定時間の間この状態で維持され
ても、ストリップSが過酸洗になったり、板破断を起こ
すことがない。
【0017】そうして、ストリップSが過酸洗になった
り、板破断を起こしたりしない間に設備異常が復旧され
ると、リターン弁5vと酸洗液供給弁3vとを開弁する
と共に、バイパス弁4vを閉弁するだけで、直ちに酸洗
液噴射ノズル1nから酸洗液が噴射されるので、酸洗槽
1から循環タンク2への酸洗液の排液工程と、酸洗槽1
に酸洗液を満たすための酸洗液の揚液工程を割愛し得
て、噴流式酸洗設備は定常運転状態に復帰され、従来問
題になっていた17〜22分間に及ぶ無駄時間がなくな
ることになる。
【0018】一方、設備異常の復旧に長時間を要する場
合は、例えストリップSがディップ酸洗方式状態で維持
され続けるとしても、ストリップSが過酸洗になったり
板破断を起こしたりするので、従来と同様に、還流管路
5に介装されているリターン弁5vを開弁した状態で、
酸洗液供給弁3vが閉弁されると共に、バイパス弁4v
が開弁され、酸洗槽1内に滞留している酸洗液が還流管
路5を介して循環タンク2内に戻される。
【0019】ところで、酸洗液供給弁3v,バイパス弁
4v,リターン弁5vとしては、通常電磁弁が用いられ
ており、従ってこれら各電磁弁は、図2に示すような、
電磁弁制御盤を介してのDistributed Direct Controlle
r (以下、DDCという)で開閉操作される。
【0020】即ち、DDC6にはプロセスコンピュータ
7からストリップが巻回されてなるコイル情報が、また
コイルハンドリング等を制御するラインコントローラ9
からライン停止信号が入力され、さらにこれら入力信号
に基づいてDDC6から酸洗液供給弁3v,バイパス弁
4v,リターン弁5vのそれぞれを開閉制御する電磁弁
制御盤8に開閉指令が発っせられるように構成されてい
る。
【0021】従って、ライン停止信号が入力されると、
経験に基づいて設定した制限時間までは、還流管路5に
介装されているリターン弁5vと酸洗液供給弁3vとが
閉弁されると共に、バイパス弁4vが開弁され、この制
限時間の間に設備異常が復旧されてライン停止信号の入
力が停止されると、リターン弁5vと酸洗液供給弁3v
とが開弁されると共に、バイパス弁4vが閉弁される。
なお、設定した制限時間はストリップの厚さ、熱延向上
でのコイル巻取温度およびストリップ材質等の要素で決
定される時間である。
【0022】一方、制限時間を超えても設備異常が復帰
されない時は、還流管路5に介装されているリターン弁
5vを開弁させたまま、酸洗液供給弁3vが閉弁される
と共に、バイパス弁4vが開弁される。勿論、この場
合、電磁弁制御盤8による弁の開閉制御を解除して、操
作ボタンを人手によって押して上記のように各弁を開閉
操作することも可能である。
【0023】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明に係る噴流
式酸洗設備によるストリップの酸洗方法によれば、特に
所定時間の間に設備異常が復帰する場合には、噴流式酸
洗設備の運転に際して循環タンク中の酸洗液を酸洗液供
給管路の熱交換機を通して該循環タンクに還流し続けら
れている酸洗液の循環を停止させて、酸洗液噴射ノズル
から酸洗液を噴射させると共に還流管路の遮断を解除す
ることにより定常運転状態に復帰させることができるの
で、従来の場合に必要であった循環タンクから酸洗槽へ
の揚液工程と酸洗槽から循環タンクへの排液工程とが不
必要になる結果、ストリップの酸洗作業能率の向上に対
して多大な効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係る噴流式酸洗設備の模式的
構成説明図である。
【図2】本発明の実施例に係る噴流式酸洗設備によりス
トリップの酸洗を実施する制御システムの模式的シーケ
ンス回路図である。
【図3】従来例に係る噴流式酸洗設備の模式的構成説明
図である。
【図4】図4aはディップ酸洗方式による脱スケール率
と酸洗時間の関係線図であり、図4bは噴流式酸洗設備
による脱スケール率と酸洗時間の関係線図である。
【符号の説明】
1…酸洗槽、1n…酸洗液噴射ノズル、2…循環タン
ク、3…酸洗液供給管路、3h…熱交換器、3p…循環
ポンプ、3v…酸洗液供給弁、4…ハイパス管路、4v
…バイパス弁、5…還流管路、5v…リターン弁、6…
DDC、7…プロセスコンピュータ、8…電磁弁制御
盤、9…ラインコントローラ、S…ストリップ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酸洗液を加熱する熱交換機が介装されて
    なる酸洗液供給管路を介して、循環タンクから酸洗槽に
    設けた酸洗液噴射ノズルに酸洗液を供給し、該酸洗液噴
    射ノズルから酸洗槽中で通板されているストリップに酸
    洗液を噴射し続けると共に、酸洗槽に滞留している酸洗
    液を還流管路を介して循環タンクに還流しつつ連続的に
    ストリップを酸洗する噴流式酸洗設備によるストリップ
    の酸洗方法において、設備に異常が生じてストリップの
    通板が停止されたとき、設定した所定の時間の間は酸洗
    液噴射ノズルからの酸洗液の噴射を停止させると共に還
    流管路を遮断し、循環タンク中の酸洗液を酸洗液供給管
    路の熱交換機を通して該循環タンクに還流し続ける一
    方、所定の時間を超えるときは還流管の遮断を解除して
    酸洗槽中に滞留している酸洗液を還流管路を介して循環
    タンクに戻すことを特徴とする噴流式酸洗設備によるス
    トリップの酸洗方法。
JP496892A 1992-01-14 1992-01-14 噴流式酸洗設備によるストリップの酸洗方法 Withdrawn JPH05195269A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP496892A JPH05195269A (ja) 1992-01-14 1992-01-14 噴流式酸洗設備によるストリップの酸洗方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP496892A JPH05195269A (ja) 1992-01-14 1992-01-14 噴流式酸洗設備によるストリップの酸洗方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05195269A true JPH05195269A (ja) 1993-08-03

Family

ID=11598394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP496892A Withdrawn JPH05195269A (ja) 1992-01-14 1992-01-14 噴流式酸洗設備によるストリップの酸洗方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05195269A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017187736A1 (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 Primetals Technologies Japan株式会社 酸洗装置
WO2017187737A1 (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 Primetals Technologies Japan株式会社 酸洗装置およびその酸洗一時停止時運転方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017187736A1 (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 Primetals Technologies Japan株式会社 酸洗装置
WO2017187737A1 (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 Primetals Technologies Japan株式会社 酸洗装置およびその酸洗一時停止時運転方法
JP2017197808A (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 Primetals Technologies Japan株式会社 酸洗装置およびその酸洗一時停止時運転方法
US10711353B2 (en) 2016-04-27 2020-07-14 Primetals Technologies Japan, Ltd. Pickling device and pickling pause operation method
US11162177B2 (en) 2016-04-27 2021-11-02 Primetals Technologies Japan, Ltd. Pickling device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5313647B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JP7098800B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JPH05195269A (ja) 噴流式酸洗設備によるストリップの酸洗方法
JPH04167916A (ja) スプレー用給水圧力制御装置
US4838526A (en) Apparatus of cooling steel strip
CN113846334A (zh) 一种控制酸洗镀锌联合产线镀层缺陷的方法
CN108079791A (zh) 多套并列运行的反渗透系统及其启停控制方法
US3071432A (en) Process for operating a washing machine
JPS5970418A (ja) 熱間圧延デスケ−ラ−の運転制御方法
JP2705365B2 (ja) 連続酸洗ラインにおける変色防止方法および装置
KR200195091Y1 (ko) 반도체 화학기상증착장비용 가스공급라인의 잔류가스제거장치
US2529127A (en) Fire extinguishing system
US20180142359A1 (en) Copper process device with explosion-proof function and copper process explosion-proof method
CN215713403U (zh) 一种大型酸洗机组的增产机构
CN208952689U (zh) 一种用于轧钢加热炉汽化冷却汽包的应急补水装置
JPS63235013A (ja) 静圧冷却制御方式
JPH01222101A (ja) 給水ポンプ制御方法および装置
JPH06306659A (ja) 連続処理ラインにおける循環タンクの温度制御方法
JPS63278101A (ja) プロセス制御装置
JPS6284203A (ja) ボイラ給水ポンプ制御装置
JPS6318715B2 (ja)
US2033844A (en) Cooling apparatus
KR20030011466A (ko) 코일 냉각장치
JPS5832512A (ja) 熱間圧延過程における被圧延材のスケ−ル除去方法
JPS60145488A (ja) 給液システム制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990408