JPH05195206A - 真空容器の外壁の撓みを減少させるための装置 - Google Patents
真空容器の外壁の撓みを減少させるための装置Info
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- JPH05195206A JPH05195206A JP4254697A JP25469792A JPH05195206A JP H05195206 A JPH05195206 A JP H05195206A JP 4254697 A JP4254697 A JP 4254697A JP 25469792 A JP25469792 A JP 25469792A JP H05195206 A JPH05195206 A JP H05195206A
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- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空容器におけるほぼ扁平な外壁の撓みを減
少させ、ひいては、例えばガイドローラ及び変向ローラ
のずれを避け、従来の装置よりも簡単で安価なものを提
供する。 【構成】 互いに向き合う２つの外壁３，１３の間に少
なくとも１つのスペーサ部材が設けられている。 【効果】 真空容器を排気する際に、前記スペーサ部材
を介して力が後ろ側の外壁（他方の外壁３）と排気プレ
ート（一方の外壁１３）とに相互に働き、これによって
これらの外壁の撓みを減少させるようになっている。
少させ、ひいては、例えばガイドローラ及び変向ローラ
のずれを避け、従来の装置よりも簡単で安価なものを提
供する。 【構成】 互いに向き合う２つの外壁３，１３の間に少
なくとも１つのスペーサ部材が設けられている。 【効果】 真空容器を排気する際に、前記スペーサ部材
を介して力が後ろ側の外壁（他方の外壁３）と排気プレ
ート（一方の外壁１３）とに相互に働き、これによって
これらの外壁の撓みを減少させるようになっている。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、所定の運転条件下で真
空タンクのほぼ扁平な外壁の撓みを減少させ、ひいて
は、真空−帯材コーティング装置内に設けられた、前記
真空タンクに対して可動な巻き上げ装置の変向ローラ又
はこれと類似の、前記外壁に固定された構成部材のずれ
を避けるための装置に関する。
空タンクのほぼ扁平な外壁の撓みを減少させ、ひいて
は、真空−帯材コーティング装置内に設けられた、前記
真空タンクに対して可動な巻き上げ装置の変向ローラ又
はこれと類似の、前記外壁に固定された構成部材のずれ
を避けるための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空容器においては一般に変形の危険
性、特に種々異なる圧力状態によって外壁の両側におい
て、容器壁部の撓みが生じる危険性がある。これは、様
々な大きさ及び形状の容器においてあてはまることであ
る。大部分の真空容器において、前記のような変形は二
次的なものであって、許容できる程度である。
性、特に種々異なる圧力状態によって外壁の両側におい
て、容器壁部の撓みが生じる危険性がある。これは、様
々な大きさ及び形状の容器においてあてはまることであ
る。大部分の真空容器において、前記のような変形は二
次的なものであって、許容できる程度である。
【０００３】しかしながら、容器の撓みが不都合で許容
できないような、例えば真空コーティング装置において
も真空容器は使用されている。真空コーティング装置は
一般に、可動な外壁、いわゆる排気プレートを備えた定
置の真空タンクより成っている。この排気プレートに、
コーティングしようとする帯材をガイドするための巻き
上げシステムが固定されている。この巻き上げシステム
は、互いに平行に配置された多数のガイドローラ及び変
向ローラより成っている。これらのガイドローラ及び変
向ローラは、排気プレートと対抗プレートとの間に軸受
けされている。コーティングしようとする帯材若しくは
シートの厚さが非常に薄く、また装置内でのシートの供
給速度が非常に高いことに基づいて、ローラの平行性に
関して非常に高い要求が課せられる。著しく小さな角度
のずれが存在するだけで既に、使用されたシート若しく
は帯材は使用不能なものとなる。
できないような、例えば真空コーティング装置において
も真空容器は使用されている。真空コーティング装置は
一般に、可動な外壁、いわゆる排気プレートを備えた定
置の真空タンクより成っている。この排気プレートに、
コーティングしようとする帯材をガイドするための巻き
上げシステムが固定されている。この巻き上げシステム
は、互いに平行に配置された多数のガイドローラ及び変
向ローラより成っている。これらのガイドローラ及び変
向ローラは、排気プレートと対抗プレートとの間に軸受
けされている。コーティングしようとする帯材若しくは
シートの厚さが非常に薄く、また装置内でのシートの供
給速度が非常に高いことに基づいて、ローラの平行性に
関して非常に高い要求が課せられる。著しく小さな角度
のずれが存在するだけで既に、使用されたシート若しく
は帯材は使用不能なものとなる。
【０００４】コーティング作業中、つまりタンク内に真
空が形成されている間、排気プレートの外側に存在する
雰囲気圧によって排気プレートは撓む。対抗プレートは
外力に晒されることは殆どないので、ローラの構成及び
軸受け形式に応じてローラの非平行性が生じることにな
る。
空が形成されている間、排気プレートの外側に存在する
雰囲気圧によって排気プレートは撓む。対抗プレートは
外力に晒されることは殆どないので、ローラの構成及び
軸受け形式に応じてローラの非平行性が生じることにな
る。
【０００５】変向ローラ及びガイドローラの、不都合で
あるこのような平行性のずれは、ローラの構造をコスト
の高いものにすることによって避けられる。例えば転動
体の軸を連続的に真っすぐに延びる軸として構成すれ
ば、壁の動きをローラ軸から十分に遮断する可能性が得
られる。しかしながらこのような構成では、使用される
材料が大量に必要であって、長い軸における撓み振動の
ための固有周波数は低いという欠点がある。
あるこのような平行性のずれは、ローラの構造をコスト
の高いものにすることによって避けられる。例えば転動
体の軸を連続的に真っすぐに延びる軸として構成すれ
ば、壁の動きをローラ軸から十分に遮断する可能性が得
られる。しかしながらこのような構成では、使用される
材料が大量に必要であって、長い軸における撓み振動の
ための固有周波数は低いという欠点がある。
【０００６】排気プレート（外壁）の撓みを減少若しく
は避けるための別の可能性は、曲げに対して強い成形材
を補強部材としてプレート外側に取り付けることによっ
て得られる。しかしながらこれは製造技術的な観点で見
て大きな欠点を有しており、扁平なプレートとしての、
このような構造の排気プレートの製造は面倒でコストが
高い。
は避けるための別の可能性は、曲げに対して強い成形材
を補強部材としてプレート外側に取り付けることによっ
て得られる。しかしながらこれは製造技術的な観点で見
て大きな欠点を有しており、扁平なプレートとしての、
このような構造の排気プレートの製造は面倒でコストが
高い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、真空容器におけるほぼ扁平な外壁の撓みを減少さ
せ、ひいては、例えばガイドローラ及び変向ローラのず
れを避け、従来の装置よりも簡単で安価なものを提供す
ることである。
は、真空容器におけるほぼ扁平な外壁の撓みを減少さ
せ、ひいては、例えばガイドローラ及び変向ローラのず
れを避け、従来の装置よりも簡単で安価なものを提供す
ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この課題を解決した本発
明によれば、互いに向き合う２つの外壁の間で、しかも
排気プレート（一方の外壁）のできるだけ中央に少なく
とも１つのスペーサ部材が設けられている。このスペー
サ部材は、後ろ側の外壁（他方の外壁）から最小の間隔
を保って整列される。
明によれば、互いに向き合う２つの外壁の間で、しかも
排気プレート（一方の外壁）のできるだけ中央に少なく
とも１つのスペーサ部材が設けられている。このスペー
サ部材は、後ろ側の外壁（他方の外壁）から最小の間隔
を保って整列される。
【０００９】
【発明の効果】真空タンクを排気する際に、この支持部
材（スペーサ部材）を介して力が後ろ側の外壁（他方の
外壁）と排気プレート（一方の外壁）とに相互に働き、
これによって撓みを減少させるようになっている。
材（スペーサ部材）を介して力が後ろ側の外壁（他方の
外壁）と排気プレート（一方の外壁）とに相互に働き、
これによって撓みを減少させるようになっている。
【００１０】計算モデルによれば、例えば４mmの最大撓
みが０．４mmに減少され、これによって、排気プレート
の撓みが９０％減少された。
みが０．４mmに減少され、これによって、排気プレート
の撓みが９０％減少された。
【００１１】このような形式で、すべての種類の真空タ
ンクの外壁における撓みの問題は基本的に減少された。
その他の詳細な点及び特徴は請求項２以下に詳しく記載
されている。
ンクの外壁における撓みの問題は基本的に減少された。
その他の詳細な点及び特徴は請求項２以下に詳しく記載
されている。
【００１２】
【実施例】次に図面に示した実施例について本発明の構
成を具体的に説明する。
成を具体的に説明する。
【００１３】図１は、従来の真空コーティング装置のた
めの巻き上げシステムの断面図を示す。図１では一点鎖
線で定置の真空タンク１が示されていて、実線で巻き上
げ装置２の可動の部分が示されている。この巻き上げ装
置２は主として、真空タンク１を閉鎖する排気プレート
３と、この排気プレート３に対して平行に配置された対
抗プレート４とから成っている。これらのプレート３，
４は、２つのスペーサピン５，６によって互いに接続さ
れており、これらのピン５，６は半径方向で互いに最大
可能な間隔を有している。プレート３，４の間には、ピ
ン５，６に対して互いに平行に変向ローラ７，８が組み
込まれている。これらの変向ローラ７，８は、３つの部
分、つまり前記プレート３，４に直接接続された２つの
短い軸受け端部９，９′，１０，１０′と、これら２つ
の軸受け端部９，９′，１０，１０′の間に配置された
本来の転動体１１，１１′とから成っている。真空タン
ク１と巻き上げ装置２とは軸線Ａ−Ａを中心にして左右
対称に配置されている。
めの巻き上げシステムの断面図を示す。図１では一点鎖
線で定置の真空タンク１が示されていて、実線で巻き上
げ装置２の可動の部分が示されている。この巻き上げ装
置２は主として、真空タンク１を閉鎖する排気プレート
３と、この排気プレート３に対して平行に配置された対
抗プレート４とから成っている。これらのプレート３，
４は、２つのスペーサピン５，６によって互いに接続さ
れており、これらのピン５，６は半径方向で互いに最大
可能な間隔を有している。プレート３，４の間には、ピ
ン５，６に対して互いに平行に変向ローラ７，８が組み
込まれている。これらの変向ローラ７，８は、３つの部
分、つまり前記プレート３，４に直接接続された２つの
短い軸受け端部９，９′，１０，１０′と、これら２つ
の軸受け端部９，９′，１０，１０′の間に配置された
本来の転動体１１，１１′とから成っている。真空タン
ク１と巻き上げ装置２とは軸線Ａ−Ａを中心にして左右
対称に配置されている。
【００１４】所定の運転条件下において（図２参照）、
真空タンク１は排気され、この真空タンク１及び排気プ
レート３の外側では雰囲気圧Ｐが支配している。これに
よって、排気プレート３は真空タンク１の内室に向かっ
て球欠状に湾曲する。対抗プレート４は外力をまったく
受けていないので、これによって、プレート３に固定さ
れた構成部分がずれて、つまり変向ローラ７，８が湾曲
し、これによって、変向ローラ７，８の必要な平行性は
もはや得られなくなる。
真空タンク１は排気され、この真空タンク１及び排気プ
レート３の外側では雰囲気圧Ｐが支配している。これに
よって、排気プレート３は真空タンク１の内室に向かっ
て球欠状に湾曲する。対抗プレート４は外力をまったく
受けていないので、これによって、プレート３に固定さ
れた構成部分がずれて、つまり変向ローラ７，８が湾曲
し、これによって、変向ローラ７，８の必要な平行性は
もはや得られなくなる。
【００１５】図３に示した本発明の１実施例のものは、
図１に示した実施例と基本的に類似しているが、スペー
サピン１２が設けられている点で異なっている。このス
ペーサピン１２は、前側の外壁としての排気プレート３
の中央で、しかもこの排気プレート３と対抗プレート４
との間でピン５，６に対して平行に配置されている。ス
ペーサピン１２の軸方向延長部で、対抗プレート４と真
空タンク１のスペーサピン１２との間に押圧ピン１４が
設けられており、該押圧ピン１４は後ろ側の外壁１３に
固定されている。押圧ピン１４は、対抗プレート４の後
ろ側に対して最小の間隔を保って配置されているので、
真空タンク１を排気する際に、雰囲気圧Ｐによって排気
プレート３（前側の外壁）と後ろ側の外壁１３とに働く
力は、互いに向き合う方向に働き、これによって撓みを
減少させるように作用する。
図１に示した実施例と基本的に類似しているが、スペー
サピン１２が設けられている点で異なっている。このス
ペーサピン１２は、前側の外壁としての排気プレート３
の中央で、しかもこの排気プレート３と対抗プレート４
との間でピン５，６に対して平行に配置されている。ス
ペーサピン１２の軸方向延長部で、対抗プレート４と真
空タンク１のスペーサピン１２との間に押圧ピン１４が
設けられており、該押圧ピン１４は後ろ側の外壁１３に
固定されている。押圧ピン１４は、対抗プレート４の後
ろ側に対して最小の間隔を保って配置されているので、
真空タンク１を排気する際に、雰囲気圧Ｐによって排気
プレート３（前側の外壁）と後ろ側の外壁１３とに働く
力は、互いに向き合う方向に働き、これによって撓みを
減少させるように作用する。
【００１６】図４には図３の実施例に対する変化実施例
が示されている。対抗プレートで支えられているスペー
サピン及び押圧ピンの代わりに、対抗プレート１５に孔
１６が形成されており、該孔１６を通ってスペーサピン
１７が貫通案内されている。このスペーサピン１７はそ
の一端部で、長手方向移動可能な押圧ピストン１８を備
えているので、スペーサピン１７及び押圧ピストン１８
は２つの外壁３，１３の間で直接支えられている。
が示されている。対抗プレートで支えられているスペー
サピン及び押圧ピンの代わりに、対抗プレート１５に孔
１６が形成されており、該孔１６を通ってスペーサピン
１７が貫通案内されている。このスペーサピン１７はそ
の一端部で、長手方向移動可能な押圧ピストン１８を備
えているので、スペーサピン１７及び押圧ピストン１８
は２つの外壁３，１３の間で直接支えられている。
【図１】従来の、真空−帯材コーティング装置のための
巻き上げシステムの断面図である。
巻き上げシステムの断面図である。
【図２】図１に示した巻き上げシステムが運転条件下に
おいて撓んでいる状態を示した断面図である。
おいて撓んでいる状態を示した断面図である。
【図３】本発明の１実施例による支持部材（スペーサピ
ン）を備えた巻き上げシステムの断面図である。
ン）を備えた巻き上げシステムの断面図である。
【図４】長手方向で調節可能なスペーサ部材（押圧ピス
トン）を備えた巻き上げシステムの断面図である。
トン）を備えた巻き上げシステムの断面図である。
１ 真空タンク、 ２ 巻き上げ装置、 ３ 排気プレ
ート（前側の外壁）、４ 対抗プレート、 ５，６ ス
ペーサピン、 ７，８ 変向ローラ、 ９，９′；１
０，１０′ 軸受け端部、 １１，１１′ 転動体、
１２ スペーサピン、 １３ 後ろ側の外壁、 １４
押圧ピン、 １５ 対抗プレート、 １６ 孔、 １７
スペーサピン、 １８ 押圧ピストン、 Ｐ 雰囲気
圧
ート（前側の外壁）、４ 対抗プレート、 ５，６ ス
ペーサピン、 ７，８ 変向ローラ、 ９，９′；１
０，１０′ 軸受け端部、 １１，１１′ 転動体、
１２ スペーサピン、 １３ 後ろ側の外壁、 １４
押圧ピン、 １５ 対抗プレート、 １６ 孔、 １７
スペーサピン、 １８ 押圧ピストン、 Ｐ 雰囲気
圧
Claims (12)
- 【請求項１】 所定の運転条件下における真空タンク
（１）のほぼ扁平な外壁（３，１３）の撓みを減少さ
せ、ひいては、真空−帯材コーティング装置内に設けら
れた、前記真空タンク（１）に対して可動な巻き上げ装
置（２）の変向ローラ（７，８）又はこれと類似の、前
記外壁（３，１３）に固定された構成部材のずれを避け
るための装置において、互いに向き合う２つの外壁
（３，１３）の間に少なくとも１つのスペーサ部材が設
けられていることを特徴とする、真空容器の外壁の撓み
を減少させるための装置。 - 【請求項２】 前記スペーサ部材がスペーサピン（１
２，１７）として構成されている、請求項１記載の装
置。 - 【請求項３】 巻き上げ装置（２）が対抗プレート
（４）を有しており、該対抗プレート（４）が２つの外
壁（３，１３）に対して平行に、かつ、これら２つの外
壁（３，１３）の間に配置されていて、該対抗プレート
（４）で変向ローラ（７，８）が支えられている、請求
項１又は２記載の装置。 - 【請求項４】 一方の外壁（３）と、この一方の外壁
（３）に向き合う巻き上げ装置（２）の中間壁としての
対抗プレート（４）との間にスペーサピン（１２）が設
けられている、請求項３記載の装置。 - 【請求項５】 スペーサピン（１２）が一方の外壁
（３）及び対抗プレート（４）に固定されている、請求
項４記載の装置。 - 【請求項６】 スペーサピン（１２）の軸方向延長部で
対抗プレート（４）と後ろ側の外壁（１３）との間に押
圧ピン（１４）が設けられている、請求項５記載の装
置。 - 【請求項７】 押圧ピン（１４）が後ろ側の外壁（１
３）に固定されている、請求項６記載の装置。 - 【請求項８】 スペーサピン（１２）が２つの外壁
（３，１３）及び中間癖としての対抗プレート（４）の
面中央に設けられている、請求項１から７までのいずれ
か１項記載の装置。 - 【請求項９】 対抗プレート（１５）が少なくとも１つ
の孔（１６）を備えている、請求項１から８までのいず
れか１項記載の装置。 - 【請求項１０】 少なくとも１つのスペーサピン（１
７）が長手方向移動可能な押圧ピストン（１８）を備え
ている、請求項９記載の装置。 - 【請求項１１】 スペーサピン（１７）がプレート（１
５）の孔（１６）を貫通案内されている、請求項９又は
１０記載の装置。 - 【請求項１２】 スペーサピン（１７）及び押圧ピスト
ン（１８）が外壁（３，１３）に対して支えられてい
る、請求項９から１１までのいずれか１項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4132204A DE4132204C2 (de) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | Vorrichtung zur Reduzierung der Durchbiegung von Außenwänden an Vakuumbehältern |
| DE4132204.5 | 1991-09-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05195206A true JPH05195206A (ja) | 1993-08-03 |
| JP3431190B2 JP3431190B2 (ja) | 2003-07-28 |
Family
ID=6441624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25469792A Expired - Lifetime JP3431190B2 (ja) | 1991-09-27 | 1992-09-24 | 真空容器の外壁の撓みを減少させるための装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5228917A (ja) |
| EP (1) | EP0534047B1 (ja) |
| JP (1) | JP3431190B2 (ja) |
| DE (2) | DE4132204C2 (ja) |
| ES (1) | ES2060427T3 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06240443A (ja) * | 1992-12-26 | 1994-08-30 | Sony Corp | 真空薄膜製造装置及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2008031492A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Kobe Steel Ltd | 連続成膜装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6093252A (en) | 1995-08-03 | 2000-07-25 | Asm America, Inc. | Process chamber with inner support |
| US6383330B1 (en) | 1999-09-10 | 2002-05-07 | Asm America, Inc. | Quartz wafer processing chamber |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2989026A (en) * | 1957-11-19 | 1961-06-20 | Nat Steel Corp | Vacuum coating apparatus |
| US3560166A (en) * | 1968-02-05 | 1971-02-02 | Dow Chemical Co | System for treatment of substrates by a plurality of fluid reactants |
| US4014779A (en) * | 1974-11-01 | 1977-03-29 | Coulter Information Systems, Inc. | Sputtering apparatus |
| US4389794A (en) * | 1980-12-23 | 1983-06-28 | Bitterly Jack G | Vacuum chamber and method of creating a vacuum |
| FR2644378B1 (fr) * | 1988-12-08 | 1991-06-07 | Techmeta | Procede de construction de machines sous vide de grandes dimensions a enceintes et equipements mecaniques desolidarises |
| US5085887A (en) * | 1990-09-07 | 1992-02-04 | Applied Materials, Inc. | Wafer reactor vessel window with pressure-thermal compensation |
-
1991
- 1991-09-27 DE DE4132204A patent/DE4132204C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-11-26 US US07/798,631 patent/US5228917A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-02-28 DE DE59200535T patent/DE59200535D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-28 EP EP92103427A patent/EP0534047B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-28 ES ES92103427T patent/ES2060427T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-24 JP JP25469792A patent/JP3431190B2/ja not_active Expired - Lifetime
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