JPH05194046A - 複層セラミックスヒーター - Google Patents

複層セラミックスヒーター

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Publication number
JPH05194046A
JPH05194046A JP4025645A JP2564592A JPH05194046A JP H05194046 A JPH05194046 A JP H05194046A JP 4025645 A JP4025645 A JP 4025645A JP 2564592 A JP2564592 A JP 2564592A JP H05194046 A JPH05194046 A JP H05194046A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramics
ceramic heater
layer
double
thermal expansion
Prior art date
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Pending
Application number
JP4025645A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsuo Kawada
敦雄 川田
Yoshihiro Kubota
芳宏 久保田
Kesaji Harada
今朝治 原田
Koji Hagiwara
浩二 萩原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 本発明は製作が容易で長寿命である、III-
V族化合物半導体ウエハ加熱用に好適とされる複層セラ
ミックスヒーターの提供を目的とするものである。 【構成】 本発明の複層セラミックスヒーターは、電
気絶縁性セラミックスからなる支持基材の表面に導電性
セラミックスからなる発熱層を接合してなる複層セラミ
ックスヒーターにおいて、該電気絶縁性セラミックスと
該導電性セラミックスの熱膨張係数の差を1×10-6/℃
以下としてなることを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は複層セラミックスヒータ
ー、特にはIII-V族化合物半導体ウエハ加熱用に好適と
される複層セラミックスヒーターに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体プロセスに使用されるヒー
ターとしては、アルミナ、窒化アルミニウム、ジルコニ
アなどの焼結セラミックスからなる支持基材に、モリブ
デン、タングステンなどの高融点金属の線や箔を発熱体
として巻付けるか、またはこれら接着したものが用いら
れてきているが、これについては電気絶縁性セラミック
スからなる支持基材上に導電性セラミックスの発熱層を
設けてなるセラミックスヒーターも開発されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、焼結セラミッ
クスに金属製の発熱体を設けた従来公知のヒーターには
変形や脆化が起り易いために短寿命であり、これにはま
た組み立てが煩雑であるという問題点があった。また、
これを改良した電気絶縁性セラミックスと導電性セラミ
ックスとからなるものは発熱体がセラミックスであるこ
とから長寿命であり、発熱体が支持基材と一体化されて
いるので組み立てが容易であるという利点はあるけれど
も、このものは発熱体が支持基材と一体化されているた
めに両者の熱膨張の差によって温度が変化すると接合部
に熱応力が発生し、発熱体が支持基材から剥離するとい
う欠点があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、欠点を解決した複層セラミックスヒーターに関する
もので、これは電気絶縁性セラミックスからなる支持基
材の表面に導電性セラミックスからなる発熱層を接合し
てなる複層セラミックスヒーターにおいて、該電気絶縁
性セラミックスと該導電性セラミックスとの熱膨張係数
の差を1×10-6/℃以下としてなることを特徴とするも
のである。
【0005】すなわち、本発明者らは従来公知の複層セ
ラミックヒーターの欠点を解決した複層セラミックスヒ
ーターを開発すべく種々検討した結果、この複合セラミ
ックスヒーターを構成する電気絶縁性セラミックスと導
電性セラミックスとを両者の熱膨張係数の差が1×10-6
/℃以下のものとなるようにすれば、両者の熱膨張の差
により発生する接合部の熱応力が両者の接合強度より小
さくなるので、この接合部での剥離が起こらなくなるこ
とを見出し、ここに使用する電気絶縁性セラミックス、
導電性セラミックスの種類、組合せについての研究を進
めて本発明を完成させた。以下にこれをさらに詳述す
る。
【0006】
【作用】本発明は複合セラミックスヒーターに関するも
ので、これは電気絶縁性セラミックスからなる支持基材
と導電性セラミックスからなる発熱体を接合してなる複
合セラミックスヒーターにおける電気絶縁性セラミック
スと導電性セラミックスとを熱膨張係数の差が1×10-6
/℃以下のものとすることを特徴とするものであり、こ
れによれば接合部の剥離が起らなくなるので、これを長
寿命のものとすることができるという有利性が与えられ
る。
【0007】本発明の複層セラミックスヒーターは電気
絶縁性セラミックスからなる支持基材と、導電性セラミ
ックスからなる発熱体とを接合することによって作られ
るが、この電気絶縁性セラミックスとしては窒化ほう
素、窒化アルミニウム、窒化けい素などが例示され、こ
の導電性セラミックスとしてはグラファイト、炭化けい
素などが例示される。
【0008】本発明の複層セラミックスヒーターにおけ
る電気絶縁性セラミックスと導電性セラミックスとの組
合せは上記したセラミックスから選択されたものとすれ
ばよいが、この電気絶縁性セラミックスと導電性セラミ
ックスとの組合せはこの両者の熱膨張係数の差が1×10
-6/℃以上であるとこれを使用したときの両者の熱膨張
の差により温度が変化してその接合部に熱応力が発生し
て発熱体としての導電性セラミックスが支持基材として
の電気絶縁性セラミックスから剥離するので、これは熱
膨張の差が1×10-6/℃以下のものとすることが必要と
される。
【0009】したがって、本発明の複層セラミックスヒ
ーターを構成する電気絶縁性セラミックスと導電性セラ
ミックスとしては熱膨張係数が2〜4×10-6/℃である
窒化ほう素と熱膨張係数が1〜3×10-6/℃であり、窒
化ほう素の熱膨張係数に近い熱膨張係数をもち、その差
が1×10-6/℃以下であるグラファイトとからなるもの
とすればよいが、これらはこの全体を窒化ほう素でコー
ティングすればIV族元素による汚染が起こらないので、
このものはIII-V族化合物半導体の加熱プロセス用に有
用とされる。
【0010】なお、ここに使用される窒化ほう素、グラ
ファイトはいずれも化学気相蒸着法で製造されたものと
することがよく、これによれば公知の焼結法などで製造
されたものにくらべて高純度で不純物を含まないものが
得られるので、半導体ウエハ加熱用などの半導体プロセ
スに使用した場合に半導体が不純物によって汚染される
のを防止することができるという有利性が与えられる。
【0011】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例1 アンモニアと三塩化ほう素とを10トール下に 2,000℃で
反応させて直径80mm、厚さ1mmの熱分解窒化ほう素製円
板を作製した。ついでこの円板の表面でメタンを5トー
ル下に 1,800℃で熱分解させて厚さ10μm の熱分解グラ
ファイト層を設け、これにヒーターパターンを加工して
発熱層として複層セラミックスヒーターを作った。
【0012】つぎにこの円板状ヒーターを使用して室温
から 1,300℃まで 100回の昇温、降温をくり返したが、
このものは支持部材としての窒化ほう素円板と発熱層と
してのグラファイトとの熱膨張係数の差が1×10-6/℃
であることから、これらの接合部に剥離は発生しなかっ
た。
【0013】実施例2 アンモニアと三塩化ほう素とを10トール下に 1,700℃で
反応させて直径80mm、厚さ1mmの熱分解窒化ほう素円板
を作製した。ついでこの円板の表面でメタンを5トール
下に 2,000℃で熱分解させて厚さ10μm の熱分解グラフ
ァイト層を設け、これにヒーターパターンを加工して発
熱層として複層セラミックスヒーターを作った。
【0014】つぎにこの円板状ヒーターを使用して室温
から 1,300℃まで 100回の昇温、降温をくり返したが、
このものは支持部材としての窒化ほう素と発熱層として
のグラファイトとの熱膨張係数の差が 0.5×10-6/℃で
あることから、これらの接合部に剥離の発生することは
なかった。
【0015】比較例1 アンモニアと三塩化ほう素とを10トール下に 2,000℃で
熱分解させて直径80mm、厚さ1mmの熱分解窒化ほう素円
板を作製した。ついでこの円板の表面でメタンを5トー
ル下に 2,000℃で熱分解させて厚さ10μm の熱分解グラ
ファイト層を設け、これにヒーターパターンを加工して
発熱層として複層セラミックスヒーターを作った。
【0016】つぎにこの円板状ヒーターを使用して室温
から 1,300℃まで12回の昇温、降温をくり返したとこ
ろ、このものは支持部材としての窒化ほう素と発熱層と
してのグラファイトとの熱膨張係数の差が2×10-6/℃
であることから、その接合部で剥離が発生した。
【0017】
【発明の効果】本発明は複層セラミックスヒーターに関
するものであり、これは前記したように電気絶縁性セラ
ミックスからなる支持基材の表面に導電性セラミックス
からなる発熱層を接合してなる複層セラミックスヒータ
ーにおいて、該電気絶縁性セラミックスと該導電性セラ
ミックスとの熱膨張係数の差を1×10-6/℃以下のもの
としてなることを特徴とするものであるが、このものは
発熱体がセラミックスであることから金属のものに比べ
て長寿命のものとすることができるし、発熱体が支持基
材と一体化されているので組立ても容易であり、さらに
は温度変化をくり返しても電気絶縁性セラミックスと導
電性セラミックスとの熱膨張係数の差が小さいので接合
部に熱応力が発生せず、したがって発熱体が支持基材か
ら剥離することがなく、長時間使用することができると
いう有利性が与えられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 萩原 浩二 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電気絶縁性セラミックスからなる支持基材
    の表面に導電性セラミックスからなる発熱層を接合して
    なる複層セラミックスヒーターにおいて、該電気絶縁性
    セラミックスと該導電性セラミックスの熱膨張係数の差
    を1×10-6/℃以下としてなることを特徴とする複層セ
    ラミックスヒーター。
  2. 【請求項2】該支持基材が窒化ほう素であり、該発熱層
    がグラファイトである請求項1に記載した複層セラミッ
    クスヒーター。
  3. 【請求項3】セラミックスが化学気相蒸着法で製造され
    る請求項1に記載した複層セラミックスヒーター。
JP4025645A 1992-01-16 1992-01-16 複層セラミックスヒーター Pending JPH05194046A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001342071A (ja) * 2000-05-26 2001-12-11 Shin Etsu Chem Co Ltd セラミックスヒータ
JP2013516775A (ja) * 2010-01-05 2013-05-13 エプコス アクチエンゲゼルシャフト 成形体、加熱装置、及び成形体の製造方法

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JP2001342071A (ja) * 2000-05-26 2001-12-11 Shin Etsu Chem Co Ltd セラミックスヒータ
JP2013516775A (ja) * 2010-01-05 2013-05-13 エプコス アクチエンゲゼルシャフト 成形体、加熱装置、及び成形体の製造方法

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