JPH05193086A - オフセット印刷に適する印刷版を繰返し可逆的に再生する方法 - Google Patents

オフセット印刷に適する印刷版を繰返し可逆的に再生する方法

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JPH05193086A JP4189118A JP18911892A JPH05193086A JP H05193086 A JPH05193086 A JP H05193086A JP 4189118 A JP4189118 A JP 4189118A JP 18911892 A JP18911892 A JP 18911892A JP H05193086 A JPH05193086 A JP H05193086A
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    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 より少ない工程で印刷版の表面を損傷または
攻撃せずに画像の除去および親水性化する方法。 【構成】 印刷版上に、イオン化された処理ガスを、噴
射装置を用いて導き、この場合、画像の反応的消去およ
び同時に親水性化を処理工程中で行い、その際に、発生
した揮発性の反応生成物を、吸引装置を用いて導出す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、印刷版上の画像の除去
および印刷版の表面の親水性化を包含し、有利に、先に
直接的に画像形成されたオフセット印刷に適する印刷版
を再生する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】オフセット印刷に適した印刷版または版
胴への情報の転写の方法は、電気的に記憶された情報、
例えばテキストあるいはまた画像を直接転写することに
ある。例えば、親水性の表面を有する陽極酸化されたア
ルミニウム板上に、画像に相応して着色に影響を及ぼす
有機物質を、印刷版表面部分の上でデジタル画像形成に
相応する画像点転写単位を用いて塗布する。油性の性質
を有する塗布された物質部分は、着色された印刷画像部
分を標識している。先に親水性の平板表面は、転写箇所
で疎水性化される。例えばインキジェット転写法、静電
転写法または、本明細書と同一の出願人のドイツ連邦共
和国特許第３９３７８４４号明細書中に提案されている
ように、熱転写法を用いて塗布することができる。この
場合、印刷版として、印刷平板、有利に陽極酸化されか
つ親水性化されたアルミニウム板並びに外側のジャケッ
ト面が親水性の性質を有する版胴を、使用することがで
きる。この場合、セラミック（有利にＡｌ2Ｏ3、またＣ
ｒ2Ｏ3、ＺｒＳｉＯ4またはＡｌ−Ｍｇ−珪酸塩）から
なるシリンダ外被を有する版胴並びに中実のセラミック
製またはガラス製のシリンダを、使用することができ
る。
【０００３】前記の直接的に画像形成された印刷版は、
繰返し使用できなければならず、このことは、版胴の使
用の際に不可避的に判明する。そのために、上記の方法
で画像形成された印刷版は、再生されなければならず、
即ち、印刷箇所を形成する物質は、除去もしくは消去さ
れ、その後に、印刷版表面が、親水性化処理されなけれ
ばならない。
【０００４】表面処理技術から公知の精製法は、精製が
多工程で行われ、物質が機械的または磨耗により強力に
負荷されるという欠点をしばしば有する。殊に、アルミ
ニウム表面が印刷平板として使用されなければならい場
合、アルミニウム表面を必要とし、引続き更に、親水性
化処理を必要とし、その結果、再生は、多数の処理工程
を必要とし、従って費用がかかる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、前記
の公知技術水準から出発して、本発明には、かかる印刷
版を再生し、この場合、印刷版の表面を損傷または攻撃
せずに画像の除去および親水性化を実施でき、この方法
がより少ない工程を有する方法を記載するという課題が
課された。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題は、印刷版上
に、イオン化させた処理ガスを、噴射装置を用いて導
き、この場合、画像の反応的消去および同時に親水性化
を処理工程中で行い、その際に、発生した揮発性の反応
生成物を、吸引装置を用いて排出することにより解決さ
れる。
【０００７】印刷版にイオン化された処理ガスを噴射す
ることにより、反応的な消去過程が開始され、即ち、化
学的反応が物質表面上で行われ、この場合、除去すべき
有機物質部分が、本質的に揮発性生成物、例えばＨ
2Ｏ、およびガス状のＣＯ2に変換され、その結果、表面
画像が消去される。消去を伴う処理工程の場合に、同時
に再生、即ち、印刷版の親水性化が行われ、これは、印
刷版表面に極性の基の形成に帰因しおよび印刷版表面に
消去過程の際に形成されたＨ2Ｏの吸着に帰因するもの
である。
【０００８】こうして、著量の酸または溶剤を節約する
ことができる。物質表面での化学反応には、本質的に、
処理ガスの高周波励起の際に形成された反応種（酸素イ
オンおよび酸素基）および発生したＵＶ光が役立ち、こ
のＵＶ光は、画像に応じて塗布された物質の部分的に高
分子量の有機成分に、酸化および／または光分解的攻撃
によって引掻き傷をつける（ｃｒａｃｋｅｎ）。この際
に生成される揮発性反応生成物は、吸引装置によって除
去される。この場合、印刷版表面の全ての物理的攻撃
が、回避される。表面の反応精製法として、低圧プラズ
マ処理とともに、就中、コロナ放電処理、ＵＶ光照射ま
たは酸素水素ガス炎を用いた処理が挙げられる。実際に
は（自動車工業および包装工業）、低圧プラズマ処理お
よび炎処理が、塗装、印刷または被覆の場合に、殊に合
成樹脂表面の粘着強度の改善のための普及した方法であ
る。半導体技術の場合、プラズマ処理は、就中成果を収
めて、フォトラッカ剥離および表面精製に使用される。
【０００９】本発明の２つの実施例は、図面に基づいて
以下に詳説される。
【００１０】
【実施例】図１には、版胴 １および本質的に、版胴
１の全幅に亘って拡がったノズルバーナ ３を有する噴
射装置 ２およびこれに接続されたガス管 ４、５を示
している。この版胴 １は、噴射装置 ２の下を通過す
る。水素および酸素は、ガス管 ４、５を用いて共通の
導管端部 ６を介してノズルバーナ ３に導かれ、そこ
で燃焼する。この場合、画像形成体の有機成分が焼却さ
れ、本質的にＣＯ2および水が、反応生成物として発生
する。この水は、印刷版の表面の親水性化に役立つ。印
刷版の熱負荷は、僅少である。
【００１１】この場合、酸素の豊富な酸素−水素−炎
は、特に好適であることが判明した。消去すべき版胴
を、有利に毎秒２０ｍｍでノズルバーナ ３の下に通過
させる。ノズルバーナ ３と、版胴 １の表面との間隔
は、通常、１０〜５０ｍｍである。できるだけ均一な消
去を達成するために、ノズルバーナ ３のノズル ７
は、縞状に交互に位置を変えている（図２を参照）。
【００１２】印刷版 １の表面で物質部分の反応性の消
去の際に発生した揮発性の物質は、一目瞭然であるので
図示されていない、噴射装置 ２に後続した吸引装置を
介して導出される。
【００１３】実施例の場合、ノズルバーナ ３は、印刷
版 １の全幅を覆っている。しかし、本発明の範囲で
は、点状のノズル開口部だけを有する印刷版 １の軸方
向に沿って動くノズルバーナを使用することも可能であ
り、、他方、印刷版 １は該ノズルの下を通って回転
し、ひいてはノズルバーナは、印刷版 １の表面を螺旋
状に処理する。
【００１４】図３は、印刷版の再生する反応的方法の第
２の例を示すものである。版胴 ８は、記載された方法
で、噴射装置 ９の下を通過する。このことは、本質的
に、版胴 ８の表面の全幅に亘って、記載された方法で
配置されている反応室 １０および、一方で反応室 １
０に開口し、他方で、１０を１２と結合するガス管１１
を示すものである。プラズマ発生（Ｒｅｍｏａｔ）室中
に、６００Ｗまでの出力で負荷することができる高周波
発生装置（マグネトロン）が存在する。プラズマ発生室
１２中に、０．５〜２ミリバール、有利に０．８〜
１．４ミリバールの圧力で、ガスを導入する。反応ガス
として、有利に酸素または酸素／ＣＦ4混合物を使用す
る。有利に２．４５ＧＨｚのマイクロ波長領域のＧＨｚ
での高周波交流電流の印加によって、気体放電に点火し
た。この際、プラズマが発生した。プラズマ中には、ラ
ジカル基とともに、更にイオン、電子および負荷されて
いない反応ガス分子が含有されている。更に、再結合過
程の結果として、ＵＶ光が発生する。前記プラズマは、
高真空ポンプで約０．５ミリバールに排気された反応室
１０のガス管 １１を介して供給される。この場合、
版胴 ８の表面は、化学的ラジカル基に、新たな化合物
を導入する可能性を提供する。この場合、直接、表面と
結合して、酸素種になり、極性の表面基が発生し、この
ことによって、版胴 ８の表面エネルギーが増大し、該
版胴の表面は親水性になる。他方、化学的ラジカル基
は、画像に応じて塗布された有機物質と反応する。この
際発生した揮発性化合物は、真空ポンプ １３によって
吸引される。
【００１５】プラズマ発生器 １２と反応室 １０との
空間的分離は、マイクロ波パッキングが回転シリンダに
対して問題を有することに帰因するものである。プラズ
マ発生室 １２と反応室 １０とを分離する場合には、
プラズマ発生室 １２での静電的なマイクロ波パッキン
グだけが必要である。回転シリンダに対する反応室１０
のパッキングは、真空パッキング １４だけでなければ
ならない。
【００１６】いわゆる低圧プラズマ処理の特有の利点
は、大気圧では１００℃を上廻ってようやく可能な反応
が、約３０℃〜１００℃の温度範囲で進行できることに
見られる。従って、印刷版 ８の表面での有害な温度
は、最初から回避される。
【００１７】版胴 ８に対する反応室 １０の必要な真
空パッキング １４は、回転通過輸送の密閉技術から公
知の方法で滑りパッキング（Ｇｌｅｉｔｄｉｃｈｔｕｎ
ｇ）の形でかまたは反応室 １０および版胴 ８のケー
シングの間の間隙に使用される第二鉄の流体物の使用に
より生じる。
【００１８】低圧プラズマ処理の促進のために、画像形
成された箇所は、例えば超音波で、種々の溶剤または洗
浄剤中で前処理することができる。また、プラズマ処理
によってゆるやかに表面に付着した無機の成分の除去の
ために超音波で後処理することも可能である。更に、プ
ラズマ処理によって極めて良好に湿潤可能な印刷版表面
の後処理は、有機汚染物質による表面の再汚染の阻止の
ためのＵＶ光照射によって可能である。また、同時にＵ
Ｖ光照射によるプラズマ処理の際のラジカル基の攻撃に
よって開始された画像形成層の分解反応の促進が可能で
ある。
【００１９】低圧プラズマ処理とは異なり反応ガスが使
用されるような印刷版の可能な反応的表面処理を行う場
合、確かに作用形式ですべてが極めて似ているが、しか
し、反応の有効性は低圧プラズマ処理の場合の方が高
い。その理由は、減圧の場合の活性粒子のより長い寿命
によって説明される。更に、殊にマイクロ波によって励
起されたプラズマを用いるプラズマ処理は、特に有効性
に顕著である。それというのも、反応種の濃度は、マイ
クロ波で励起されたプラズマの場合の方が、低周波で励
起されたプラズマの場合よりも高いからである。
【図面の簡単な説明】
【図１】版胴の表面の燃焼ガス処理のための噴射装置を
示す略図。
【図２】図１記載の噴射装置を示す部分図。
【図３】版胴の表面の低圧プラズマ処理のための噴射装
置を示す略図。
【符号の説明】
１ 印刷版、 ２ 噴射装置、 ３ ノズルバーナ、
４、５ ガス管、 ６導管端部、 ７ ノズル、 ８
版胴、 ９ 噴射装置、 １０ 反応室、１１ ガス
管、 １２ プラズマ発生器、 １３ 高真空ポンプ、
１４ 真空パッキング
フロントページの続き (72)発明者 バルバラ ニュッセル ドイツ連邦共和国 シュテッツリング プ ファラー−ベッツラー−シュトラーセ ２ アー (72)発明者 ヘルムート フーアマン ドイツ連邦共和国 カールスフェルト ラ ートハウスシュトラーセ 38 (72)発明者 ホルスト ダウアー ドイツ連邦共和国 ロールバッハ ペルー ザシュトラーセ ２ (72)発明者 ラインハルト プラシュカ ドイツ連邦共和国 ミュンヒェン 50 マ ンツォシュトラーセ 32

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 印刷版上の画像の除去および印刷版の表
    面の親水性化を包含し、オフセット印刷に適する印刷版
    を繰返し可逆的に再生する方法において、印刷版（１、
    ８）上に、イオン化された処理ガスを、噴射装置（２、
    ９）を用いて導き、この場合、画像の反応的消去および
    同時に親水性化を処理工程中で行い、その際に、発生し
    た揮発性の反応生成物を、吸引装置（１３）を用いて導
    出することを特徴とする、オフセット印刷に適する印刷
    版を繰返し可逆的に再生する方法。
  2. 【請求項２】 燃焼ガスを処理ガスとして使用し、この
    場合、印刷版（１）がノズルバーナ（３）の下を通過す
    る間に、印刷版（１）は全幅に亘ってノズルバーナ
    （３）により噴射される、請求項記載の１記載の方法。
  3. 【請求項３】 有利に酸素の豊富な酸素／水素混合物を
    燃焼ガスとして使用し、版胴（１）を、有利に毎秒２０
    ｍｍの速度でノズルバーナ（３）の下を通過させ、この
    場合、印刷版（１）の表面に対するノズルバーナ（３）
    の間隔は、有利に１０〜５０ｍｍである、請求項記載の
    ２記載の方法。
  4. 【請求項４】 印刷版（８）の全幅に亘って拡がりかつ
    真空パッキング（１４）により印刷版（８）に対して密
    閉されている排気された反応室（１０）により、印刷版
    （８）上に導かれるプラズマを処理ガスとして使用す
    る、請求項１記載の方法。
  5. 【請求項５】 プラズマを反応室（１０）とは場所的に
    別個のプラズマ発生器（１２）中で製造し、ガス導管
    （１１）を介して反応室（１０）に供給する、請求項４
    記載の方法。
  6. 【請求項６】 プラズマ製造のために、酸素または酸素
    ／ＣＦ4ガス混合物を使用する、請求項の４記載の方
    法。
  7. 【請求項７】 反応室（１０）を、高真空ポンプ（１
    ３）により排気して、０．５ミリバールの圧力に変え
    る、請求項４記載の方法。
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