JPH0519188A - マルチビーム走査記録装置 - Google Patents
マルチビーム走査記録装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 小型のマルチビーム走査記録装置を安価に提
供する。 【構成】 それぞれが単一のレーザビームLBを発生す
るレーザ光源ユニット1が複数個設けられる。各レーザ
光源ユニット1からのレーザビームLBは第1レンズL
1 を介して記録面3側に導かれる。これら複数のレーザ
光源ユニット1は、レーザ光源ユニット1からのレーザ
ビームLBの主光線のすべてが第1レンズL1 の前側焦
点FPを通過するように配列される。
供する。 【構成】 それぞれが単一のレーザビームLBを発生す
るレーザ光源ユニット1が複数個設けられる。各レーザ
光源ユニット1からのレーザビームLBは第1レンズL
1 を介して記録面3側に導かれる。これら複数のレーザ
光源ユニット1は、レーザ光源ユニット1からのレーザ
ビームLBの主光線のすべてが第1レンズL1 の前側焦
点FPを通過するように配列される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複数のレーザビーム
を記録面に照射するマルチビーム走査記録装置に関す
る。
を記録面に照射するマルチビーム走査記録装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】図14は、従来のマルチビーム走査記録
装置の第1従来例を示す図である。このマルチビーム走
査記録装置では、複数のレーザ光源ユニット1がレンズ
L1 の前側主点を中心とする曲面A上に等間隔で配列さ
れている。なお、説明の便宜から、同図においては1つ
のレーザ光源ユニット1のみを図示し、その他の図示を
省略している。
装置の第1従来例を示す図である。このマルチビーム走
査記録装置では、複数のレーザ光源ユニット1がレンズ
L1 の前側主点を中心とする曲面A上に等間隔で配列さ
れている。なお、説明の便宜から、同図においては1つ
のレーザ光源ユニット1のみを図示し、その他の図示を
省略している。
【0003】レーザ光源ユニット1は半導体レーザ1a
とコリメータレンズ1bとで構成されており、半導体レ
ーザ1aからのレーザビームがコリメータレンズ1bに
よって平行レーザビームLBに整形された後、その平行
レーザビームLBの主光線がレンズL1 の前側主点を通
過するように、レンズL1 ,L2 からなるアフォーカル
光学系AL1 に入射される。この入射レーザビームは、
アフォーカル光学系AL1 によってそのビーム径が拡大
された後、レンズL3 を介して記録面上3に照射され
る。
とコリメータレンズ1bとで構成されており、半導体レ
ーザ1aからのレーザビームがコリメータレンズ1bに
よって平行レーザビームLBに整形された後、その平行
レーザビームLBの主光線がレンズL1 の前側主点を通
過するように、レンズL1 ,L2 からなるアフォーカル
光学系AL1 に入射される。この入射レーザビームは、
アフォーカル光学系AL1 によってそのビーム径が拡大
された後、レンズL3 を介して記録面上3に照射され
る。
【0004】また、図示を省略するレーザ光源ユニット
からのレーザビームについても、上記と同様にして、記
録面3上に照射される。こうして、記録面3上に複数の
ビームスポットが同時に形成される。
からのレーザビームについても、上記と同様にして、記
録面3上に照射される。こうして、記録面3上に複数の
ビームスポットが同時に形成される。
【0005】図15は、従来のマルチビーム走査記録装
置の第2従来例を示す図である。このマルチビーム走査
記録装置は、互いに等間隔に配列された複数のレーザ光
源ユニット(但し、図面には1つのレーザ光源ユニット
1のみを図示する)と、レンズL1 ,L2 からなるアフ
ォーカル光学系AL1 と、レンズL3 ,L4 からなるア
フォーカル光学系AL2 とで構成されている。レーザ光
源ユニット1からのレーザビームLBは、その主光線が
光軸Zと平行になるようにして、アフォーカル光学系A
L1 に入射され、さらにアフォーカル光学系AL1 ,A
L2 を介して記録面3上に照射される。
置の第2従来例を示す図である。このマルチビーム走査
記録装置は、互いに等間隔に配列された複数のレーザ光
源ユニット(但し、図面には1つのレーザ光源ユニット
1のみを図示する)と、レンズL1 ,L2 からなるアフ
ォーカル光学系AL1 と、レンズL3 ,L4 からなるア
フォーカル光学系AL2 とで構成されている。レーザ光
源ユニット1からのレーザビームLBは、その主光線が
光軸Zと平行になるようにして、アフォーカル光学系A
L1 に入射され、さらにアフォーカル光学系AL1 ,A
L2 を介して記録面3上に照射される。
【0006】また、図示を省略するレーザ光源ユニット
からのレーザビームについても、上記と同様にして、記
録面3上に照射されて、記録面3上に複数のビームスポ
ットが同時に形成される。
からのレーザビームについても、上記と同様にして、記
録面3上に照射されて、記録面3上に複数のビームスポ
ットが同時に形成される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来のマルチビーム走
査記録装置は以上のように構成されており、一度に記録
面3に形成されるビームスポットの数、すなわちチャン
ネル数を増加させようとすると、レンズをより大きくす
る必要がある。というのも、例えば図15からわかるよ
うに、第2従来例ではチャンネル数を増やすためには、
レーザ光源ユニット1を光軸Zに対し垂直な方向に増設
しなければならず、その結果、その増設に対応してレン
ズL1 を大型化する必要が生じる。そのため、レンズL
1 の収差が悪化するという問題やレンズL1のコストが
増大するという問題があった。さらに、大型のレンズL
1 を装置に組み込むには、装置自体も大型化する必要が
あった。
査記録装置は以上のように構成されており、一度に記録
面3に形成されるビームスポットの数、すなわちチャン
ネル数を増加させようとすると、レンズをより大きくす
る必要がある。というのも、例えば図15からわかるよ
うに、第2従来例ではチャンネル数を増やすためには、
レーザ光源ユニット1を光軸Zに対し垂直な方向に増設
しなければならず、その結果、その増設に対応してレン
ズL1 を大型化する必要が生じる。そのため、レンズL
1 の収差が悪化するという問題やレンズL1のコストが
増大するという問題があった。さらに、大型のレンズL
1 を装置に組み込むには、装置自体も大型化する必要が
あった。
【0008】また、図14のマルチビーム走査記録装置
(第1従来例)においても、チャンネル数の増加によっ
てレンズL2 が大型化し、上記と同様の問題が生じてい
た。さらに、この従来装置では、複数のレーザ光源ユニ
ット1は等間隔で曲面A上に配列されているので、記録
面3上でのビームスポットの間隔は等しくならず、例え
ばラスター走査によって画像を記録面3に記録する場合
に不都合が生じることがあった。
(第1従来例)においても、チャンネル数の増加によっ
てレンズL2 が大型化し、上記と同様の問題が生じてい
た。さらに、この従来装置では、複数のレーザ光源ユニ
ット1は等間隔で曲面A上に配列されているので、記録
面3上でのビームスポットの間隔は等しくならず、例え
ばラスター走査によって画像を記録面3に記録する場合
に不都合が生じることがあった。
【0009】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたもので、チャンネル数を増やした場合でも小さな
レンズによって光学系を構成することができ、小型のマ
ルチビーム走査記録装置を低コストで提供することを第
1の目的とする。
されたもので、チャンネル数を増やした場合でも小さな
レンズによって光学系を構成することができ、小型のマ
ルチビーム走査記録装置を低コストで提供することを第
1の目的とする。
【0010】また、この発明は、上記第1の目的を達成
した上で、さらに記録面上でのビームスポットの間隔を
等しくすることができるマルチビーム走査記録装置を提
供することを第2の目的とする。
した上で、さらに記録面上でのビームスポットの間隔を
等しくすることができるマルチビーム走査記録装置を提
供することを第2の目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、複数
のレーザビームを記録面に照射するマルチビーム走査記
録装置であって、上記第1の目的を達成するために、そ
れぞれが単一のレーザビームを発生する複数のレーザ光
源ユニットと、各レーザ光源ユニットからのレーザビー
ムを前記記録面に導く第1レンズとを備え、各レーザ光
源ユニットを、そのレーザ光源ユニットから出射される
レーザビームの主光線を前記第1レンズの前側焦点に向
けて配置している。
のレーザビームを記録面に照射するマルチビーム走査記
録装置であって、上記第1の目的を達成するために、そ
れぞれが単一のレーザビームを発生する複数のレーザ光
源ユニットと、各レーザ光源ユニットからのレーザビー
ムを前記記録面に導く第1レンズとを備え、各レーザ光
源ユニットを、そのレーザ光源ユニットから出射される
レーザビームの主光線を前記第1レンズの前側焦点に向
けて配置している。
【0012】請求項2の発明は、上記請求項1の発明に
加え、前記第1レンズと前記記録面との間にアフォーカ
ル光学系をさらに設けている。
加え、前記第1レンズと前記記録面との間にアフォーカ
ル光学系をさらに設けている。
【0013】請求項3の発明は、上記請求項2の発明に
加え、前記アフォーカル光学系をズームレンズを含むア
フォーカルズーム光学系としている。
加え、前記アフォーカル光学系をズームレンズを含むア
フォーカルズーム光学系としている。
【0014】請求項4の発明は、上記第2の目的を達成
するために、上記請求項2の発明に加え、前記複数のレ
ーザ光源ユニットを前記第1レンズの前側焦点を中心と
する曲面上に等間隔で配列するとともに、前記アフォー
カル光学系を構成する複数のレンズのうち前記記録面に
隣接配置されたレンズをfθレンズとしている。
するために、上記請求項2の発明に加え、前記複数のレ
ーザ光源ユニットを前記第1レンズの前側焦点を中心と
する曲面上に等間隔で配列するとともに、前記アフォー
カル光学系を構成する複数のレンズのうち前記記録面に
隣接配置されたレンズをfθレンズとしている。
【0015】請求項5の発明は、第2の目的を達成する
ために、前記請求項1の発明に加え、前記複数のレーザ
光源ユニットを前記第1レンズの前側焦点を中心とする
曲面上に等間隔で配列するとともに、前記第1レンズを
fθレンズとしている。
ために、前記請求項1の発明に加え、前記複数のレーザ
光源ユニットを前記第1レンズの前側焦点を中心とする
曲面上に等間隔で配列するとともに、前記第1レンズを
fθレンズとしている。
【0016】請求項6の発明は、第2の目的を達成する
ために、前記請求項1の発明に加え、各レーザ光源ユニ
ットから出射されるレーザビームの主光線が前記第1レ
ンズの光軸を含む1つの平面上に投影された直線と光軸
とのなす角度θが、次式 θ = tan-1(n・P1 /f1 ) ただし、nは自然数、P1 は定数、f1 は前記第1レン
ズの焦点距離 で表されるように前記レーザ光源ユニットを配列してい
る。
ために、前記請求項1の発明に加え、各レーザ光源ユニ
ットから出射されるレーザビームの主光線が前記第1レ
ンズの光軸を含む1つの平面上に投影された直線と光軸
とのなす角度θが、次式 θ = tan-1(n・P1 /f1 ) ただし、nは自然数、P1 は定数、f1 は前記第1レン
ズの焦点距離 で表されるように前記レーザ光源ユニットを配列してい
る。
【0017】請求項7の発明は、第2の発明に加え、前
記複数のレーザ光源ユニットを前記第1レンズの光軸に
垂直な平面上に等間隔で配列している。
記複数のレーザ光源ユニットを前記第1レンズの光軸に
垂直な平面上に等間隔で配列している。
【0018】
【作用】請求項1の発明では、レーザ光源ユニットから
のレーザビームの主光線のすべてが第1レンズの前側焦
点を通過して前記第1レンズに入射される。そのため、
レーザ光源ユニットの数、つまりチャンネル数にかかわ
らず前記第1レンズを小型化することができる。
のレーザビームの主光線のすべてが第1レンズの前側焦
点を通過して前記第1レンズに入射される。そのため、
レーザ光源ユニットの数、つまりチャンネル数にかかわ
らず前記第1レンズを小型化することができる。
【0019】請求項2の発明では、アフォーカル光学系
によって前記第1レンズの後側焦点面に形成された中間
像が記録面に形成される。
によって前記第1レンズの後側焦点面に形成された中間
像が記録面に形成される。
【0020】請求項3の発明では、ズームレンズによっ
てアフォーカルズーム光学系の倍率が変更され、記録面
上でのビームスポットの間隔やスポット径が変化する。
てアフォーカルズーム光学系の倍率が変更され、記録面
上でのビームスポットの間隔やスポット径が変化する。
【0021】請求項4の発明では、複数のレーザ光源ユ
ニットが第1レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等
間隔で配列されることから、前記レーザ光源ユニットか
らのレーザビームが互いになす角は等しくなる。そし
て、それらのレーザビームは最終的にfθレンズによっ
て記録面に導かれる。その結果、前記記録面でのビーム
スポットの間隔は等しくなる。
ニットが第1レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等
間隔で配列されることから、前記レーザ光源ユニットか
らのレーザビームが互いになす角は等しくなる。そし
て、それらのレーザビームは最終的にfθレンズによっ
て記録面に導かれる。その結果、前記記録面でのビーム
スポットの間隔は等しくなる。
【0022】請求項5の発明では、上記請求項4の発明
と同様に、レーザ光源ユニットからのレーザビームは互
いに等角度間隔となり、fθ特性を有する第1レンズに
入射される。したがって、前記第1レンズから出射され
るレーザビームは光軸に平行で、しかもそれらのビーム
ピッチは等しくなる。
と同様に、レーザ光源ユニットからのレーザビームは互
いに等角度間隔となり、fθ特性を有する第1レンズに
入射される。したがって、前記第1レンズから出射され
るレーザビームは光軸に平行で、しかもそれらのビーム
ピッチは等しくなる。
【0023】請求項6の発明では、第1レンズから出射
されるレーザビームと前記光軸との距離はn・P1 とな
り、それらのビームピッチは定数P1 となる。
されるレーザビームと前記光軸との距離はn・P1 とな
り、それらのビームピッチは定数P1 となる。
【0024】請求項7の発明では、複数のレーザ光源ユ
ニットが光軸に垂直な平面上に等間隔で配列されること
から、第1レンズからレーザビームが等間隔で出射され
る。
ニットが光軸に垂直な平面上に等間隔で配列されること
から、第1レンズからレーザビームが等間隔で出射され
る。
【0025】
【実施例】図1は、この発明にかかるマルチビーム走査
記録装置の第1実施例を示す図である。図2及び図3
は、それぞれレーザ光源ユニットの配列関係を示す斜視
図および平面図である。このマルチビーム走査記録装置
は、複数のレーザ光源ユニット1と、レンズL11,L1
2,L13からなるfθレンズL10と、レンズL20,L30
とで構成されている。
記録装置の第1実施例を示す図である。図2及び図3
は、それぞれレーザ光源ユニットの配列関係を示す斜視
図および平面図である。このマルチビーム走査記録装置
は、複数のレーザ光源ユニット1と、レンズL11,L1
2,L13からなるfθレンズL10と、レンズL20,L30
とで構成されている。
【0026】各レーザ光源ユニット1は、図1に示すよ
うに、半導体レーザ1aとコリメータレンズ1bとで構
成されている。また、これらのレーザ光源ユニット1は
fθレンズL10の前側焦点FPを中心とする曲面A(実
施例では球面)上に等間隔で、しかも2次元的に配列さ
れている。すなわち、図3に示すように、主走査方向X
に関して各レーザ光源ユニット1が互いに部分的に重な
り合うように配列されている。そのように配列するの
は、レーザ光源ユニット1の機械的寸法の制約から隣接
する走査線が離れてしまう、いわゆる走査ワレが生じる
のを防止するためである。また各レーザ光源ユニット1
は、それから出射されるレーザビームの主光線をfθレ
ンズL10の前側焦点FPに向けて配置されている。
うに、半導体レーザ1aとコリメータレンズ1bとで構
成されている。また、これらのレーザ光源ユニット1は
fθレンズL10の前側焦点FPを中心とする曲面A(実
施例では球面)上に等間隔で、しかも2次元的に配列さ
れている。すなわち、図3に示すように、主走査方向X
に関して各レーザ光源ユニット1が互いに部分的に重な
り合うように配列されている。そのように配列するの
は、レーザ光源ユニット1の機械的寸法の制約から隣接
する走査線が離れてしまう、いわゆる走査ワレが生じる
のを防止するためである。また各レーザ光源ユニット1
は、それから出射されるレーザビームの主光線をfθレ
ンズL10の前側焦点FPに向けて配置されている。
【0027】fθレンズL10およびレンズL20,L30
は、図1に示すように、光軸Z上にこの順序で配置され
ている。この実施例では、fθレンズL10の後側焦点面
RPとレンズL20の前側焦点面とが一致しており、fθ
レンズL10とレンズL20とによりアフォーカル光学系A
L1 が構成されている。また、レンズL20の後側焦点面
とレンズL30の前側焦点面とが一致しており、レンズL
20,L30により別のアフォーカル光学系AL2 が構成さ
れている。さらに、このレンズL30の後側焦点面とほぼ
一致するように、記録面3が配置されている。
は、図1に示すように、光軸Z上にこの順序で配置され
ている。この実施例では、fθレンズL10の後側焦点面
RPとレンズL20の前側焦点面とが一致しており、fθ
レンズL10とレンズL20とによりアフォーカル光学系A
L1 が構成されている。また、レンズL20の後側焦点面
とレンズL30の前側焦点面とが一致しており、レンズL
20,L30により別のアフォーカル光学系AL2 が構成さ
れている。さらに、このレンズL30の後側焦点面とほぼ
一致するように、記録面3が配置されている。
【0028】次に、上記のように構成されたマルチビー
ム走査記録装置の動作について図1を参照しつつ説明す
る。まず、半導体レーザ1aからのレーザビームはコリ
メータレンズ1bによって平行レーザビームLBに整形
された後、その主光線がfθレンズL10の前側焦点FP
を通過するようにして、fθレンズL10に入射される。
そのため、fθレンズL10の光学的特性により、fθレ
ンズL10から出射されるレーザビームは、光軸Zと平行
で、しかもそのレーザビームと光軸Zとの距離がfθレ
ンズL10への入射角に比例した値となって出射される。
ム走査記録装置の動作について図1を参照しつつ説明す
る。まず、半導体レーザ1aからのレーザビームはコリ
メータレンズ1bによって平行レーザビームLBに整形
された後、その主光線がfθレンズL10の前側焦点FP
を通過するようにして、fθレンズL10に入射される。
そのため、fθレンズL10の光学的特性により、fθレ
ンズL10から出射されるレーザビームは、光軸Zと平行
で、しかもそのレーザビームと光軸Zとの距離がfθレ
ンズL10への入射角に比例した値となって出射される。
【0029】ところで、上述したように、複数のレーザ
光源ユニット1は曲面A上に等間隔で配列されているの
で、fθレンズL10へ入射される平行レーザビームLB
が相互になす角度Δθは等しい。そのため、fθレンズ
L10からの出射レーザビームの相互間隔も等しくなる。
光源ユニット1は曲面A上に等間隔で配列されているの
で、fθレンズL10へ入射される平行レーザビームLB
が相互になす角度Δθは等しい。そのため、fθレンズ
L10からの出射レーザビームの相互間隔も等しくなる。
【0030】等ビームピッチでfθレンズL10から出射
されたレーザビームは、それぞれfθレンズL10の後側
焦点面RPに集光されて、その面RP上に中間像が形成
される。すなわち、等間隔で複数のビームスポットが面
RP上に形成される。そして、これらのビームスポット
はレンズL20,L30からなるアフォーカル光学系AL2
によって適当な倍率で縮小され、記録面3上に像(ビー
ムスポット)として形成される。したがって、記録面3
上のビームスポットは等間隔に配列されることとなる。
されたレーザビームは、それぞれfθレンズL10の後側
焦点面RPに集光されて、その面RP上に中間像が形成
される。すなわち、等間隔で複数のビームスポットが面
RP上に形成される。そして、これらのビームスポット
はレンズL20,L30からなるアフォーカル光学系AL2
によって適当な倍率で縮小され、記録面3上に像(ビー
ムスポット)として形成される。したがって、記録面3
上のビームスポットは等間隔に配列されることとなる。
【0031】以上のように、この第1実施例では、レー
ザ光源ユニット1からのレーザビームLBの主光線がf
θレンズL10の前側焦点FPを通過してfθレンズL10
に入射するようにしているので、レーザ光源ユニット1
の数、つまりチャンネル数を増やした場合でも比較的小
さなレンズによってマルチビーム走査記録装置を構成す
ることができる。なお、曲面Aの曲率半径よりfθレン
ズL10の焦点距離が短いことが望ましく、fθレンズL
10の焦点距離が短いほど、その効果はより顕著に現れ
る。
ザ光源ユニット1からのレーザビームLBの主光線がf
θレンズL10の前側焦点FPを通過してfθレンズL10
に入射するようにしているので、レーザ光源ユニット1
の数、つまりチャンネル数を増やした場合でも比較的小
さなレンズによってマルチビーム走査記録装置を構成す
ることができる。なお、曲面Aの曲率半径よりfθレン
ズL10の焦点距離が短いことが望ましく、fθレンズL
10の焦点距離が短いほど、その効果はより顕著に現れ
る。
【0032】また、レーザ光源ユニット1を等間隔で曲
面Aに配列し、しかも各レーザ光源ユニット1からのレ
ーザビームLBをfθレンズL10に入射するようにして
いるため、記録面3でのビームスポット間隔を等しくす
ることができる。
面Aに配列し、しかも各レーザ光源ユニット1からのレ
ーザビームLBをfθレンズL10に入射するようにして
いるため、記録面3でのビームスポット間隔を等しくす
ることができる。
【0033】図4は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第2実施例を示す図である。このマルチビ
ーム走査記録装置では、レンズL10が通常のレンズ(例
えば、入射角θと走査面上のスポット位置yがy=ft
anθで表わされる)で構成される一方、レンズL30が
レンズL31,L32,L33からなり、しかもfθ特性を有
している。なお、その他の構成は、先の第1実施例と同
一である。
査記録装置の第2実施例を示す図である。このマルチビ
ーム走査記録装置では、レンズL10が通常のレンズ(例
えば、入射角θと走査面上のスポット位置yがy=ft
anθで表わされる)で構成される一方、レンズL30が
レンズL31,L32,L33からなり、しかもfθ特性を有
している。なお、その他の構成は、先の第1実施例と同
一である。
【0034】この第2実施例では、等間隔に配列された
レーザ光源ユニット1からのレーザビームLBは、レン
ズL10,L20を介して等角度間隔でfθレンズL30に入
射される。そのため、fθレンズL30を介して記録面3
上に形成されたビームスポットは等間隔となる。
レーザ光源ユニット1からのレーザビームLBは、レン
ズL10,L20を介して等角度間隔でfθレンズL30に入
射される。そのため、fθレンズL30を介して記録面3
上に形成されたビームスポットは等間隔となる。
【0035】もちろん、レーザ光源ユニット1からのレ
ーザビームLBの主光線がレンズL10の前側焦点FPを
通過するようにレンズL10は配置されているため、第1
実施例と同様に、チャンネル数の増大によるレンズL10
の大型化を防止することができることは言うまでもな
い。
ーザビームLBの主光線がレンズL10の前側焦点FPを
通過するようにレンズL10は配置されているため、第1
実施例と同様に、チャンネル数の増大によるレンズL10
の大型化を防止することができることは言うまでもな
い。
【0036】図5は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第3実施例を示す図である。この第3実施
例にかかるマルチビーム走査記録装置が第1実施例と相
違する点は、レンズL20,L30からなるアフォーカル光
学系を設けずに、記録面3をfθレンズL10の後側焦点
面RPに配置した点である。したがって、第3実施例で
は、先に説明した第1および第2実施例の効果に加え、
マルチビーム走査記録装置の光学系の構成が単純化され
るという効果がさらに得られる。
査記録装置の第3実施例を示す図である。この第3実施
例にかかるマルチビーム走査記録装置が第1実施例と相
違する点は、レンズL20,L30からなるアフォーカル光
学系を設けずに、記録面3をfθレンズL10の後側焦点
面RPに配置した点である。したがって、第3実施例で
は、先に説明した第1および第2実施例の効果に加え、
マルチビーム走査記録装置の光学系の構成が単純化され
るという効果がさらに得られる。
【0037】図6は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第4実施例を示す図である。この実施例で
は、曲面Aの代わりに互いに曲率半径rB ,rC (rB
<rC )が異なる2つの曲面B,Cが設けられ、各曲面
B,Cにレーザ光源ユニット1が等間隔にそれぞれ配列
されている。なお、曲面Bには、曲面Cに取り付けられ
たレーザ光源ユニット1からのレーザビームLBをfθ
レンズL10に導くための貫通穴Hが複数個設けられてい
る。
査記録装置の第4実施例を示す図である。この実施例で
は、曲面Aの代わりに互いに曲率半径rB ,rC (rB
<rC )が異なる2つの曲面B,Cが設けられ、各曲面
B,Cにレーザ光源ユニット1が等間隔にそれぞれ配列
されている。なお、曲面Bには、曲面Cに取り付けられ
たレーザ光源ユニット1からのレーザビームLBをfθ
レンズL10に導くための貫通穴Hが複数個設けられてい
る。
【0038】この第4実施例によれば、数多くのレーザ
光源ユニット1を等間隔に配列することができる。特
に、第1実施例のように1つの曲面Aに多数のレーザ光
源ユニット1を配列することが困難な場合に、第4実施
例に示す構成が有効となる。なお、この実施例では2つ
の曲面B,Cにレーザ光源ユニット1を設ける場合につ
いて説明したが、3つ以上の曲面を準備し、それらの曲
面にレーザ光源ユニット1を配列するようにしてもよ
い。
光源ユニット1を等間隔に配列することができる。特
に、第1実施例のように1つの曲面Aに多数のレーザ光
源ユニット1を配列することが困難な場合に、第4実施
例に示す構成が有効となる。なお、この実施例では2つ
の曲面B,Cにレーザ光源ユニット1を設ける場合につ
いて説明したが、3つ以上の曲面を準備し、それらの曲
面にレーザ光源ユニット1を配列するようにしてもよ
い。
【0039】図7は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第5実施例を示す図である。この実施例の
構成上の特徴は、レーザ光源ユニット1からのレーザビ
ームLBのビームウエストがfθレンズL10の前側焦点
FPに位置するように構成したことであり、その他の構
成は第1実施例と同一である。以下、波動光学的解析に
基づき、この第5実施例の光学的特徴について説明す
る。
査記録装置の第5実施例を示す図である。この実施例の
構成上の特徴は、レーザ光源ユニット1からのレーザビ
ームLBのビームウエストがfθレンズL10の前側焦点
FPに位置するように構成したことであり、その他の構
成は第1実施例と同一である。以下、波動光学的解析に
基づき、この第5実施例の光学的特徴について説明す
る。
【0040】このように構成した場合、レーザビームL
Bのビームウエストは各レンズの焦点(あるいは焦点
面)に形成される。すなわち、ビームウエストは、レン
ズL10の後側焦点面RP(レンズL20の前側焦点面)、
レンズL20の後側焦点面(レンズL30の前側焦点面)お
よびレンズL30の後側焦点面(記録面3)上にそれぞれ
形成される。なお、レーザビームLBの主光線の経路に
ついては、第1実施例のそれと同一である。
Bのビームウエストは各レンズの焦点(あるいは焦点
面)に形成される。すなわち、ビームウエストは、レン
ズL10の後側焦点面RP(レンズL20の前側焦点面)、
レンズL20の後側焦点面(レンズL30の前側焦点面)お
よびレンズL30の後側焦点面(記録面3)上にそれぞれ
形成される。なお、レーザビームLBの主光線の経路に
ついては、第1実施例のそれと同一である。
【0041】また、焦点面RP及び記録面3でのレーザ
ビームのビーム径をそれぞれω1 ,ω2 とすれば、 ω2 = (f3 /f2 )・ω1 = m・ω1 ただし、f2 ,f3 はレンズL20,L30の焦点距離、m
はアフォーカル光学系AL2 の倍率、で表される関係が
成立する。また、焦点面RP及び記録面3でのレーザビ
ームのビームピッチをそれぞれP1,P2 とすれば、 P2 = (f3 /f2 )・P1 = m・P1 で表される関係が成立する。
ビームのビーム径をそれぞれω1 ,ω2 とすれば、 ω2 = (f3 /f2 )・ω1 = m・ω1 ただし、f2 ,f3 はレンズL20,L30の焦点距離、m
はアフォーカル光学系AL2 の倍率、で表される関係が
成立する。また、焦点面RP及び記録面3でのレーザビ
ームのビームピッチをそれぞれP1,P2 とすれば、 P2 = (f3 /f2 )・P1 = m・P1 で表される関係が成立する。
【0042】以上のように、この実施例によれば、第1
実施例の効果に加え、レーザビームLBのビームウエス
トを記録面3に位置させることができ、鮮明な画像を記
録することができる。しかも、アフォーカル光学系AL
2 の倍率を調整することによって、記録面3でのビーム
スポット径およびスポット間隔を設定することができ
る。
実施例の効果に加え、レーザビームLBのビームウエス
トを記録面3に位置させることができ、鮮明な画像を記
録することができる。しかも、アフォーカル光学系AL
2 の倍率を調整することによって、記録面3でのビーム
スポット径およびスポット間隔を設定することができ
る。
【0043】図8は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第6実施例を示す図である。この実施例で
は、アフォーカル光学系AL2 の代わりにレンズL40,
L50,L60からなるアフォーカルズーム光学系AL3 が
設けられている。したがって、駆動ユニット(後で説明
する)を用いてこのズーム光学系AL3 を調整すること
によって、その倍率を連続的に変更することができる。
査記録装置の第6実施例を示す図である。この実施例で
は、アフォーカル光学系AL2 の代わりにレンズL40,
L50,L60からなるアフォーカルズーム光学系AL3 が
設けられている。したがって、駆動ユニット(後で説明
する)を用いてこのズーム光学系AL3 を調整すること
によって、その倍率を連続的に変更することができる。
【0044】図9は、上記アフォーカルズーム光学系A
L3 を備えたマルチビーム走査記録装置の斜視図であ
る。同図において、11は副走査方向Yに移動自在なテ
ーブルであり、このテーブル11に曲面(球面)Aを有
するホルダ部材AAが固定されている。そして、このホ
ルダ部材AAの曲面A上に複数のレーザ光源ユニット1
が2次元的に配列されている。また、曲面Aからレーザ
ビームの進行方向にfθレンズL10およびアフォーカル
ズーム光学系AL3 が一定間隔をもってこの順序で配置
され、レンズL10は支持部材12によって、また光学系
AL3 は支持部材13,14によってテーブル11に固
定されている。なお、このアフォーカルズーム光学系A
L3 には、駆動ユニット15が連結されており、駆動ユ
ニット15を作動させることにより光学系AL3 の倍率
を変更することができる。
L3 を備えたマルチビーム走査記録装置の斜視図であ
る。同図において、11は副走査方向Yに移動自在なテ
ーブルであり、このテーブル11に曲面(球面)Aを有
するホルダ部材AAが固定されている。そして、このホ
ルダ部材AAの曲面A上に複数のレーザ光源ユニット1
が2次元的に配列されている。また、曲面Aからレーザ
ビームの進行方向にfθレンズL10およびアフォーカル
ズーム光学系AL3 が一定間隔をもってこの順序で配置
され、レンズL10は支持部材12によって、また光学系
AL3 は支持部材13,14によってテーブル11に固
定されている。なお、このアフォーカルズーム光学系A
L3 には、駆動ユニット15が連結されており、駆動ユ
ニット15を作動させることにより光学系AL3 の倍率
を変更することができる。
【0045】また、主走査方向Xに回転する回転シリン
ダ16が、その表面がアフォーカルズーム光学系AL3
の像面に位置するように、配置されている。このため、
図示を省略する制御ユニットからの信号に応じて半導体
レーザ1aがON-OFF制御され、記録しようとする画像に
対応した変調レーザビームLBがfθレンズL10の前側
焦点FPを通過してfθレンズL10に入射される。そし
て、そのレーザビームLBはアフォーカルズーム光学系
AL3 により適当な倍率で縮小された後、回転シリンダ
16に巻き付けられた感光材料17に照射される。こう
した処理を、回転シリンダ16の方向Xへの回転および
テーブル11の方向Yへの移動に同期させながら、連続
的に実行することにより、所望の画像が感光材料17に
記録される。
ダ16が、その表面がアフォーカルズーム光学系AL3
の像面に位置するように、配置されている。このため、
図示を省略する制御ユニットからの信号に応じて半導体
レーザ1aがON-OFF制御され、記録しようとする画像に
対応した変調レーザビームLBがfθレンズL10の前側
焦点FPを通過してfθレンズL10に入射される。そし
て、そのレーザビームLBはアフォーカルズーム光学系
AL3 により適当な倍率で縮小された後、回転シリンダ
16に巻き付けられた感光材料17に照射される。こう
した処理を、回転シリンダ16の方向Xへの回転および
テーブル11の方向Yへの移動に同期させながら、連続
的に実行することにより、所望の画像が感光材料17に
記録される。
【0046】なお、上記装置では、レーザ光源として半
導体レーザ1aを用いているが、これに限定されるもの
ではなく、例えば固体レーザ(YAG,YAG+KTP
等)を用いることができる。ただし、この場合には、図
10に示すように、レーザ光源ユニット1を固体レーザ
1cと固体レーザ1cからのレーザビームを記録画像に
応じて変調するための外部変調素子1dとで構成する必
要がある。また、上記以外に、半導体レーザ,SHG素
子および整形レンズによって、あるいは半導体レーザ,
コリメータレンズおよび外部変調素子によってレーザ光
源ユニットを構成してもよい。さらに図1の構成にSH
G素子を付加し、より短波長のレーザビームを使用する
ようにしてもよい。
導体レーザ1aを用いているが、これに限定されるもの
ではなく、例えば固体レーザ(YAG,YAG+KTP
等)を用いることができる。ただし、この場合には、図
10に示すように、レーザ光源ユニット1を固体レーザ
1cと固体レーザ1cからのレーザビームを記録画像に
応じて変調するための外部変調素子1dとで構成する必
要がある。また、上記以外に、半導体レーザ,SHG素
子および整形レンズによって、あるいは半導体レーザ,
コリメータレンズおよび外部変調素子によってレーザ光
源ユニットを構成してもよい。さらに図1の構成にSH
G素子を付加し、より短波長のレーザビームを使用する
ようにしてもよい。
【0047】また、上記実施例では、fθレンズを利用
してビームスポットの間隔を等しくする技術について説
明したが、以下に詳説する第7および第8実施例のごと
くレーザ光源ユニット1を配列することによって、fθ
レンズを用いることなくビームスポットの間隔を等しく
することも可能である。
してビームスポットの間隔を等しくする技術について説
明したが、以下に詳説する第7および第8実施例のごと
くレーザ光源ユニット1を配列することによって、fθ
レンズを用いることなくビームスポットの間隔を等しく
することも可能である。
【0048】まず、第7および第8実施例の説明に先立
って、通常のレンズに入射するレーザビームと、出射レ
ーザビームとの関係について図11を参照しつつ説明す
る。図11はその関係を示す模式図である。同図に示す
ように、レーザビームLBの主光線が光軸Zを含む1つ
の基準平面(同図では紙面)上に投影された直線と光軸
Zとのなす角度θで、レーザビームLBがレンズL10の
前側焦点FPを通過してレンズL10に入射されると、レ
ンズL10からの出射レーザビームLB′は、光軸Zと平
行で、しかも中間像位置(レンズL10の後側焦点面R
P)での出射レーザビームと光軸Zとの基準平面上での
距離Pは、 P = f1 ・tanθ ただし、f1 はレンズL10の焦点距離、となる。したが
って、各レーザ光源ユニット1からのレーザビームと光
軸Zとのなす角度が基準平面上それぞれθ1 ,θ2 ,θ
3 であるとき、各出射レーザビームと光軸Zとの基準平
面上での距離P1 ,P2 ,P3 は、 P1 = f1 ・tanθ1 P2 = f1 ・tanθ2 P3 = f1 ・tanθ3 となる。ここで、距離P1 ,P2 ,P3 の間に、 P2 =2・P1 P3 =3・P1 の関係が成立すると、中間像位置でのビームピッチが一
定値P1 となる。つまり、角度θ1 ,θ2 ,θ3 がそれ
ぞれ θ1 =tan-1(P1 /f1 ) θ2 =tan-1(2・P1 /f1 ) θ3 =tan-1(3・P1 /f1 ) となるように、各レーザ光源ユニット1を曲面A上に配
列すると、先に説明した実施例と同様に、中間像位置
(レンズL10の後側焦点面)でのビームピッチが等しく
なる。
って、通常のレンズに入射するレーザビームと、出射レ
ーザビームとの関係について図11を参照しつつ説明す
る。図11はその関係を示す模式図である。同図に示す
ように、レーザビームLBの主光線が光軸Zを含む1つ
の基準平面(同図では紙面)上に投影された直線と光軸
Zとのなす角度θで、レーザビームLBがレンズL10の
前側焦点FPを通過してレンズL10に入射されると、レ
ンズL10からの出射レーザビームLB′は、光軸Zと平
行で、しかも中間像位置(レンズL10の後側焦点面R
P)での出射レーザビームと光軸Zとの基準平面上での
距離Pは、 P = f1 ・tanθ ただし、f1 はレンズL10の焦点距離、となる。したが
って、各レーザ光源ユニット1からのレーザビームと光
軸Zとのなす角度が基準平面上それぞれθ1 ,θ2 ,θ
3 であるとき、各出射レーザビームと光軸Zとの基準平
面上での距離P1 ,P2 ,P3 は、 P1 = f1 ・tanθ1 P2 = f1 ・tanθ2 P3 = f1 ・tanθ3 となる。ここで、距離P1 ,P2 ,P3 の間に、 P2 =2・P1 P3 =3・P1 の関係が成立すると、中間像位置でのビームピッチが一
定値P1 となる。つまり、角度θ1 ,θ2 ,θ3 がそれ
ぞれ θ1 =tan-1(P1 /f1 ) θ2 =tan-1(2・P1 /f1 ) θ3 =tan-1(3・P1 /f1 ) となるように、各レーザ光源ユニット1を曲面A上に配
列すると、先に説明した実施例と同様に、中間像位置
(レンズL10の後側焦点面)でのビームピッチが等しく
なる。
【0049】図12は、この発明にかかるマルチビーム
走査記録装置の第7実施例を示す図である。この実施例
では、レーザ光源ユニット1からのレーザビームと光軸
Zとのなす角度θが以下の関係式を満足するように、複
数のレーザ光源ユニット1が曲面A上に配列されてい
る。
走査記録装置の第7実施例を示す図である。この実施例
では、レーザ光源ユニット1からのレーザビームと光軸
Zとのなす角度θが以下の関係式を満足するように、複
数のレーザ光源ユニット1が曲面A上に配列されてい
る。
【0050】θ =tan-1(n・P1 /f1 )
ただし、nは自然数である。このため、上記説明からわ
かるように、レンズL10の後側焦点面RP(中間像位
置)でのビームスポットの間隔は一定値P1 となる。そ
して、その中間像(ビームスポット)はアフォーカル光
学系AL2 によって所定の倍率で縮小され、記録面3上
に形成される。
かるように、レンズL10の後側焦点面RP(中間像位
置)でのビームスポットの間隔は一定値P1 となる。そ
して、その中間像(ビームスポット)はアフォーカル光
学系AL2 によって所定の倍率で縮小され、記録面3上
に形成される。
【0051】図13は、この発明にかかるマルチビーム
走査記録装置の第8実施例を示す図である。この実施例
が第7実施例と相違する点は、レーザ光源ユニット1が
第7実施例では曲面A上に配列されているのに対し、こ
の実施例ではレンズL10の前側焦点FPから距離dだけ
離れた位置に設けられた光軸Zに垂直な平面D上に等間
隔に配列されている点であり、その他の構成は同一であ
る。
走査記録装置の第8実施例を示す図である。この実施例
が第7実施例と相違する点は、レーザ光源ユニット1が
第7実施例では曲面A上に配列されているのに対し、こ
の実施例ではレンズL10の前側焦点FPから距離dだけ
離れた位置に設けられた光軸Zに垂直な平面D上に等間
隔に配列されている点であり、その他の構成は同一であ
る。
【0052】この実施例においても、
θ =tan-1(n・P1 /f1 )
が満足され、上記と同様の効果が得られる。
【0053】なお、上述の第1実施例(図1)、第2実
施例(図4)、第5実施例(図7)、第7実施例(図1
2)及び第8実施例(図13)においては、レンズL10
とレンズL20とを必ずしもアフォーカス系で構成しなく
てもよい。例えば図7において、fθレンズL10の後側
焦点面RPとレンズL20の前側焦点面との距離をΔz1
とし、レンズL30の後側焦点面とビームウエストが形成
される位置との距離をΔz2 とすると、本出願人の先の
出願(特開平3−15018号)に開示されている様
に、 Δz2 =(f3/f2)2 ・Δz1 =m2 ・Δz1 なる関係が成立するので、レンズL30の後側焦点面から
Δz2 だけずらして記録面3を配置すればよい。
施例(図4)、第5実施例(図7)、第7実施例(図1
2)及び第8実施例(図13)においては、レンズL10
とレンズL20とを必ずしもアフォーカス系で構成しなく
てもよい。例えば図7において、fθレンズL10の後側
焦点面RPとレンズL20の前側焦点面との距離をΔz1
とし、レンズL30の後側焦点面とビームウエストが形成
される位置との距離をΔz2 とすると、本出願人の先の
出願(特開平3−15018号)に開示されている様
に、 Δz2 =(f3/f2)2 ・Δz1 =m2 ・Δz1 なる関係が成立するので、レンズL30の後側焦点面から
Δz2 だけずらして記録面3を配置すればよい。
【0054】この様にレンズL10とレンズL20とをアフ
ォーカル系で構成しない場合には、レンズL10とレンズ
L20の間隔を狭くすることができ、全体としては、コン
パクトな光学系を構成することができる。
ォーカル系で構成しない場合には、レンズL10とレンズ
L20の間隔を狭くすることができ、全体としては、コン
パクトな光学系を構成することができる。
【0055】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1および2
の発明によれば、レーザ光源ユニットからのレーザビー
ムの主光線のすべてが第1レンズの前側焦点を通過して
前記第1レンズに入射するように構成したので、レーザ
光源ユニットの数、つまりチャンネル数にかかわらず前
記第1レンズを小型化することができ、小型で、しかも
低コストのマルチビーム走査記録装置が得られる。
の発明によれば、レーザ光源ユニットからのレーザビー
ムの主光線のすべてが第1レンズの前側焦点を通過して
前記第1レンズに入射するように構成したので、レーザ
光源ユニットの数、つまりチャンネル数にかかわらず前
記第1レンズを小型化することができ、小型で、しかも
低コストのマルチビーム走査記録装置が得られる。
【0056】請求項3の発明によれば、ズームレンズに
よってアフォーカルズーム光学系の倍率を変更可能とし
ているので、記録面上でのビームスポット間隔やスポッ
ト径を倍率に基づいて変更することができる。
よってアフォーカルズーム光学系の倍率を変更可能とし
ているので、記録面上でのビームスポット間隔やスポッ
ト径を倍率に基づいて変更することができる。
【0057】請求項4の発明では、複数のレーザ光源ユ
ニットが第1レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等
間隔で配列して、前記レーザ光源ユニットからのレーザ
ビームのなす角度を等しくすると共に、それらのレーザ
ビームを最終的にfθレンズによって記録面に導いてい
るので、前記記録面でのビームスポット間隔を等しくす
ることができる。
ニットが第1レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等
間隔で配列して、前記レーザ光源ユニットからのレーザ
ビームのなす角度を等しくすると共に、それらのレーザ
ビームを最終的にfθレンズによって記録面に導いてい
るので、前記記録面でのビームスポット間隔を等しくす
ることができる。
【0058】請求項5の発明によれば、上記請求項4の
発明と同様に、相互になす角度が等しい複数のレーザビ
ームを、fθ特性を有する第1レンズに入射するように
構成しているので、前記第1レンズから出射されるレー
ザビームを第1レンズの光軸に平行で、しかもそれらの
ビームピッチを等しくすることができる。その結果、記
録面でのビームスポットの間隔を一定にすることができ
る。
発明と同様に、相互になす角度が等しい複数のレーザビ
ームを、fθ特性を有する第1レンズに入射するように
構成しているので、前記第1レンズから出射されるレー
ザビームを第1レンズの光軸に平行で、しかもそれらの
ビームピッチを等しくすることができる。その結果、記
録面でのビームスポットの間隔を一定にすることができ
る。
【0059】請求項6の発明では、各レーザ光源ユニッ
トから出射されるレーザビームの主光線が前記第1レン
ズの光軸を含む1つの平面上に投影された直線と前記光
軸とのなす角度θが、次式 θ = tan-1(n・P1 /f1 ) ただし、nは自然数、P1 は定数、f1 は前記第1レン
ズの焦点距離 を満足するように構成しているので、第1レンズからの
レーザビームと前記光軸との距離はn・P1 となり、記
録面でのビームスポット間隔を定数P1とすることがで
きる。
トから出射されるレーザビームの主光線が前記第1レン
ズの光軸を含む1つの平面上に投影された直線と前記光
軸とのなす角度θが、次式 θ = tan-1(n・P1 /f1 ) ただし、nは自然数、P1 は定数、f1 は前記第1レン
ズの焦点距離 を満足するように構成しているので、第1レンズからの
レーザビームと前記光軸との距離はn・P1 となり、記
録面でのビームスポット間隔を定数P1とすることがで
きる。
【0060】請求項7の発明では、前記複数のレーザ光
源ユニットを前記第1レンズの光軸に垂直な平面上に等
間隔で配列しているので、上記第6実施例と同様の効果
が得られる。
源ユニットを前記第1レンズの光軸に垂直な平面上に等
間隔で配列しているので、上記第6実施例と同様の効果
が得られる。
【図1】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第1実施例を示す図である。
第1実施例を示す図である。
【図2】レーザ光源ユニットの配列関係を示す斜視図で
ある。
ある。
【図3】レーザ光源ユニットの配列関係を示す平面図で
ある。
ある。
【図4】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第2実施例を示す図である。
第2実施例を示す図である。
【図5】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第3実施例を示す図である。
第3実施例を示す図である。
【図6】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第4実施例を示す図である。
第4実施例を示す図である。
【図7】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第5実施例を示す図である。
第5実施例を示す図である。
【図8】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第6実施例を示す図である。
第6実施例を示す図である。
【図9】アフォーカルズーム光学系を備えたマルチビー
ム走査記録装置の斜視図である。
ム走査記録装置の斜視図である。
【図10】レーザ光源ユニットの変形例を示す図であ
る。
る。
【図11】入射レーザビームと出射レーザビームとの関
係を示す模式図である。
係を示す模式図である。
【図12】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置
の第7実施例を示す図である。
の第7実施例を示す図である。
【図13】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置
の第8実施例を示す図である。
の第8実施例を示す図である。
【図14】従来のマルチビーム走査記録装置の第1従来
例を示す図である。
例を示す図である。
【図15】従来のマルチビーム走査記録装置の第2従来
例を示す図である。
例を示す図である。
1 レーザ光源ユニット
3 記録面
AL2 アフォーカル光学系
AL3 アフォーカルズーム光学系
FP 前側焦点
L10 レンズ(第1レンズ)
LB レーザビーム
Claims (7)
- 【請求項1】 複数のレーザビームを記録面に照射する
マルチビーム走査記録装置であって、 それぞれが単一のレーザビームを発生する複数のレーザ
光源ユニットと、 各レーザ光源ユニットからのレーザビームを前記記録面
に導く第1レンズとを備え、 各レーザ光源ユニットを、そのレーザ光源ユニットから
出射されるレーザビームの主光線を前記第1レンズの前
側焦点に向けて配置したことを特徴とするマルチビーム
走査記録装置。 - 【請求項2】 前記第1レンズと前記記録面との間にア
フォーカル光学系がさらに設けられた請求項1のマルチ
ビーム走査記録装置。 - 【請求項3】 前記アフォーカル光学系がズームレンズ
を含むアフォーカルズーム光学系である請求項2のマル
チビーム走査記録装置。 - 【請求項4】 前記複数のレーザ光源ユニットが前記第
1レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等間隔で配列
されるとともに、前記アフォーカル光学系を構成する複
数のレンズのうち前記記録面に隣接配置されたレンズが
fθ特性を有する請求項2のマルチビーム走査記録装
置。 - 【請求項5】 前記複数のレーザ光源ユニットが前記第
1レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等間隔で配列
されるとともに、前記第1レンズがfθ特性を有する請
求項1のマルチビーム走査記録装置。 - 【請求項6】 各レーザ光源ユニットから出射されるレ
ーザビームの主光線が前記第1レンズの光軸を含む1つ
の平面上に投影された直線と前記光軸とのなす角度θ
が、次式 θ = tan-1(n・P1 /f1 ) ただし、nは自然数、P1 は定数、f1 は前記第1レン
ズの焦点距離 で表される請求項1のマルチビーム走査記録装置。 - 【請求項7】 前記複数のレーザ光源ユニットが前記第
1レンズの光軸に垂直な平面上に等間隔で配列された請
求項1のマルチビーム走査記録装置。
Priority Applications (2)
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JP3201406A JP2717035B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | マルチビーム走査記録装置 |
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- 1992-06-30 US US07/906,539 patent/US5291329A/en not_active Expired - Fee Related
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