JPH0519188A - マルチビーム走査記録装置 - Google Patents
マルチビーム走査記録装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 小型のマルチビーム走査記録装置を安価に提
供する。 【構成】 それぞれが単一のレーザビームＬＢを発生す
るレーザ光源ユニット１が複数個設けられる。各レーザ
光源ユニット１からのレーザビームＬＢは第１レンズＬ
1 を介して記録面３側に導かれる。これら複数のレーザ
光源ユニット１は、レーザ光源ユニット１からのレーザ
ビームＬＢの主光線のすべてが第１レンズＬ1 の前側焦
点ＦＰを通過するように配列される。
供する。 【構成】 それぞれが単一のレーザビームＬＢを発生す
るレーザ光源ユニット１が複数個設けられる。各レーザ
光源ユニット１からのレーザビームＬＢは第１レンズＬ
1 を介して記録面３側に導かれる。これら複数のレーザ
光源ユニット１は、レーザ光源ユニット１からのレーザ
ビームＬＢの主光線のすべてが第１レンズＬ1 の前側焦
点ＦＰを通過するように配列される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、複数のレーザビーム
を記録面に照射するマルチビーム走査記録装置に関す
る。
を記録面に照射するマルチビーム走査記録装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図１４は、従来のマルチビーム走査記録
装置の第１従来例を示す図である。このマルチビーム走
査記録装置では、複数のレーザ光源ユニット１がレンズ
Ｌ1 の前側主点を中心とする曲面Ａ上に等間隔で配列さ
れている。なお、説明の便宜から、同図においては１つ
のレーザ光源ユニット１のみを図示し、その他の図示を
省略している。
装置の第１従来例を示す図である。このマルチビーム走
査記録装置では、複数のレーザ光源ユニット１がレンズ
Ｌ1 の前側主点を中心とする曲面Ａ上に等間隔で配列さ
れている。なお、説明の便宜から、同図においては１つ
のレーザ光源ユニット１のみを図示し、その他の図示を
省略している。
【０００３】レーザ光源ユニット１は半導体レーザ１ａ
とコリメータレンズ１ｂとで構成されており、半導体レ
ーザ１ａからのレーザビームがコリメータレンズ１ｂに
よって平行レーザビームＬＢに整形された後、その平行
レーザビームＬＢの主光線がレンズＬ1 の前側主点を通
過するように、レンズＬ1 ，Ｌ2 からなるアフォーカル
光学系ＡＬ1 に入射される。この入射レーザビームは、
アフォーカル光学系ＡＬ1 によってそのビーム径が拡大
された後、レンズＬ3 を介して記録面上３に照射され
る。
とコリメータレンズ１ｂとで構成されており、半導体レ
ーザ１ａからのレーザビームがコリメータレンズ１ｂに
よって平行レーザビームＬＢに整形された後、その平行
レーザビームＬＢの主光線がレンズＬ1 の前側主点を通
過するように、レンズＬ1 ，Ｌ2 からなるアフォーカル
光学系ＡＬ1 に入射される。この入射レーザビームは、
アフォーカル光学系ＡＬ1 によってそのビーム径が拡大
された後、レンズＬ3 を介して記録面上３に照射され
る。
【０００４】また、図示を省略するレーザ光源ユニット
からのレーザビームについても、上記と同様にして、記
録面３上に照射される。こうして、記録面３上に複数の
ビームスポットが同時に形成される。
からのレーザビームについても、上記と同様にして、記
録面３上に照射される。こうして、記録面３上に複数の
ビームスポットが同時に形成される。
【０００５】図１５は、従来のマルチビーム走査記録装
置の第２従来例を示す図である。このマルチビーム走査
記録装置は、互いに等間隔に配列された複数のレーザ光
源ユニット（但し、図面には１つのレーザ光源ユニット
１のみを図示する）と、レンズＬ1 ，Ｌ2 からなるアフ
ォーカル光学系ＡＬ1 と、レンズＬ3 ，Ｌ4 からなるア
フォーカル光学系ＡＬ2 とで構成されている。レーザ光
源ユニット１からのレーザビームＬＢは、その主光線が
光軸Ｚと平行になるようにして、アフォーカル光学系Ａ
Ｌ1 に入射され、さらにアフォーカル光学系ＡＬ1 ，Ａ
Ｌ2 を介して記録面３上に照射される。
置の第２従来例を示す図である。このマルチビーム走査
記録装置は、互いに等間隔に配列された複数のレーザ光
源ユニット（但し、図面には１つのレーザ光源ユニット
１のみを図示する）と、レンズＬ1 ，Ｌ2 からなるアフ
ォーカル光学系ＡＬ1 と、レンズＬ3 ，Ｌ4 からなるア
フォーカル光学系ＡＬ2 とで構成されている。レーザ光
源ユニット１からのレーザビームＬＢは、その主光線が
光軸Ｚと平行になるようにして、アフォーカル光学系Ａ
Ｌ1 に入射され、さらにアフォーカル光学系ＡＬ1 ，Ａ
Ｌ2 を介して記録面３上に照射される。
【０００６】また、図示を省略するレーザ光源ユニット
からのレーザビームについても、上記と同様にして、記
録面３上に照射されて、記録面３上に複数のビームスポ
ットが同時に形成される。
からのレーザビームについても、上記と同様にして、記
録面３上に照射されて、記録面３上に複数のビームスポ
ットが同時に形成される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来のマルチビーム走
査記録装置は以上のように構成されており、一度に記録
面３に形成されるビームスポットの数、すなわちチャン
ネル数を増加させようとすると、レンズをより大きくす
る必要がある。というのも、例えば図１５からわかるよ
うに、第２従来例ではチャンネル数を増やすためには、
レーザ光源ユニット１を光軸Ｚに対し垂直な方向に増設
しなければならず、その結果、その増設に対応してレン
ズＬ1 を大型化する必要が生じる。そのため、レンズＬ
1 の収差が悪化するという問題やレンズＬ1のコストが
増大するという問題があった。さらに、大型のレンズＬ
1 を装置に組み込むには、装置自体も大型化する必要が
あった。
査記録装置は以上のように構成されており、一度に記録
面３に形成されるビームスポットの数、すなわちチャン
ネル数を増加させようとすると、レンズをより大きくす
る必要がある。というのも、例えば図１５からわかるよ
うに、第２従来例ではチャンネル数を増やすためには、
レーザ光源ユニット１を光軸Ｚに対し垂直な方向に増設
しなければならず、その結果、その増設に対応してレン
ズＬ1 を大型化する必要が生じる。そのため、レンズＬ
1 の収差が悪化するという問題やレンズＬ1のコストが
増大するという問題があった。さらに、大型のレンズＬ
1 を装置に組み込むには、装置自体も大型化する必要が
あった。
【０００８】また、図１４のマルチビーム走査記録装置
（第１従来例）においても、チャンネル数の増加によっ
てレンズＬ2 が大型化し、上記と同様の問題が生じてい
た。さらに、この従来装置では、複数のレーザ光源ユニ
ット１は等間隔で曲面Ａ上に配列されているので、記録
面３上でのビームスポットの間隔は等しくならず、例え
ばラスター走査によって画像を記録面３に記録する場合
に不都合が生じることがあった。
（第１従来例）においても、チャンネル数の増加によっ
てレンズＬ2 が大型化し、上記と同様の問題が生じてい
た。さらに、この従来装置では、複数のレーザ光源ユニ
ット１は等間隔で曲面Ａ上に配列されているので、記録
面３上でのビームスポットの間隔は等しくならず、例え
ばラスター走査によって画像を記録面３に記録する場合
に不都合が生じることがあった。
【０００９】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたもので、チャンネル数を増やした場合でも小さな
レンズによって光学系を構成することができ、小型のマ
ルチビーム走査記録装置を低コストで提供することを第
１の目的とする。
されたもので、チャンネル数を増やした場合でも小さな
レンズによって光学系を構成することができ、小型のマ
ルチビーム走査記録装置を低コストで提供することを第
１の目的とする。
【００１０】また、この発明は、上記第１の目的を達成
した上で、さらに記録面上でのビームスポットの間隔を
等しくすることができるマルチビーム走査記録装置を提
供することを第２の目的とする。
した上で、さらに記録面上でのビームスポットの間隔を
等しくすることができるマルチビーム走査記録装置を提
供することを第２の目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
のレーザビームを記録面に照射するマルチビーム走査記
録装置であって、上記第１の目的を達成するために、そ
れぞれが単一のレーザビームを発生する複数のレーザ光
源ユニットと、各レーザ光源ユニットからのレーザビー
ムを前記記録面に導く第１レンズとを備え、各レーザ光
源ユニットを、そのレーザ光源ユニットから出射される
レーザビームの主光線を前記第１レンズの前側焦点に向
けて配置している。
のレーザビームを記録面に照射するマルチビーム走査記
録装置であって、上記第１の目的を達成するために、そ
れぞれが単一のレーザビームを発生する複数のレーザ光
源ユニットと、各レーザ光源ユニットからのレーザビー
ムを前記記録面に導く第１レンズとを備え、各レーザ光
源ユニットを、そのレーザ光源ユニットから出射される
レーザビームの主光線を前記第１レンズの前側焦点に向
けて配置している。
【００１２】請求項２の発明は、上記請求項１の発明に
加え、前記第１レンズと前記記録面との間にアフォーカ
ル光学系をさらに設けている。
加え、前記第１レンズと前記記録面との間にアフォーカ
ル光学系をさらに設けている。
【００１３】請求項３の発明は、上記請求項２の発明に
加え、前記アフォーカル光学系をズームレンズを含むア
フォーカルズーム光学系としている。
加え、前記アフォーカル光学系をズームレンズを含むア
フォーカルズーム光学系としている。
【００１４】請求項４の発明は、上記第２の目的を達成
するために、上記請求項２の発明に加え、前記複数のレ
ーザ光源ユニットを前記第１レンズの前側焦点を中心と
する曲面上に等間隔で配列するとともに、前記アフォー
カル光学系を構成する複数のレンズのうち前記記録面に
隣接配置されたレンズをｆθレンズとしている。
するために、上記請求項２の発明に加え、前記複数のレ
ーザ光源ユニットを前記第１レンズの前側焦点を中心と
する曲面上に等間隔で配列するとともに、前記アフォー
カル光学系を構成する複数のレンズのうち前記記録面に
隣接配置されたレンズをｆθレンズとしている。
【００１５】請求項５の発明は、第２の目的を達成する
ために、前記請求項１の発明に加え、前記複数のレーザ
光源ユニットを前記第１レンズの前側焦点を中心とする
曲面上に等間隔で配列するとともに、前記第１レンズを
ｆθレンズとしている。
ために、前記請求項１の発明に加え、前記複数のレーザ
光源ユニットを前記第１レンズの前側焦点を中心とする
曲面上に等間隔で配列するとともに、前記第１レンズを
ｆθレンズとしている。
【００１６】請求項６の発明は、第２の目的を達成する
ために、前記請求項１の発明に加え、各レーザ光源ユニ
ットから出射されるレーザビームの主光線が前記第１レ
ンズの光軸を含む１つの平面上に投影された直線と光軸
とのなす角度θが、次式 θ ＝ ｔａｎ-1（ｎ・Ｐ1 ／ｆ1 ） ただし、ｎは自然数、Ｐ1 は定数、ｆ1 は前記第１レン
ズの焦点距離 で表されるように前記レーザ光源ユニットを配列してい
る。
ために、前記請求項１の発明に加え、各レーザ光源ユニ
ットから出射されるレーザビームの主光線が前記第１レ
ンズの光軸を含む１つの平面上に投影された直線と光軸
とのなす角度θが、次式 θ ＝ ｔａｎ-1（ｎ・Ｐ1 ／ｆ1 ） ただし、ｎは自然数、Ｐ1 は定数、ｆ1 は前記第１レン
ズの焦点距離 で表されるように前記レーザ光源ユニットを配列してい
る。
【００１７】請求項７の発明は、第２の発明に加え、前
記複数のレーザ光源ユニットを前記第１レンズの光軸に
垂直な平面上に等間隔で配列している。
記複数のレーザ光源ユニットを前記第１レンズの光軸に
垂直な平面上に等間隔で配列している。
【００１８】
【作用】請求項１の発明では、レーザ光源ユニットから
のレーザビームの主光線のすべてが第１レンズの前側焦
点を通過して前記第１レンズに入射される。そのため、
レーザ光源ユニットの数、つまりチャンネル数にかかわ
らず前記第１レンズを小型化することができる。
のレーザビームの主光線のすべてが第１レンズの前側焦
点を通過して前記第１レンズに入射される。そのため、
レーザ光源ユニットの数、つまりチャンネル数にかかわ
らず前記第１レンズを小型化することができる。
【００１９】請求項２の発明では、アフォーカル光学系
によって前記第１レンズの後側焦点面に形成された中間
像が記録面に形成される。
によって前記第１レンズの後側焦点面に形成された中間
像が記録面に形成される。
【００２０】請求項３の発明では、ズームレンズによっ
てアフォーカルズーム光学系の倍率が変更され、記録面
上でのビームスポットの間隔やスポット径が変化する。
てアフォーカルズーム光学系の倍率が変更され、記録面
上でのビームスポットの間隔やスポット径が変化する。
【００２１】請求項４の発明では、複数のレーザ光源ユ
ニットが第１レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等
間隔で配列されることから、前記レーザ光源ユニットか
らのレーザビームが互いになす角は等しくなる。そし
て、それらのレーザビームは最終的にｆθレンズによっ
て記録面に導かれる。その結果、前記記録面でのビーム
スポットの間隔は等しくなる。
ニットが第１レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等
間隔で配列されることから、前記レーザ光源ユニットか
らのレーザビームが互いになす角は等しくなる。そし
て、それらのレーザビームは最終的にｆθレンズによっ
て記録面に導かれる。その結果、前記記録面でのビーム
スポットの間隔は等しくなる。
【００２２】請求項５の発明では、上記請求項４の発明
と同様に、レーザ光源ユニットからのレーザビームは互
いに等角度間隔となり、ｆθ特性を有する第１レンズに
入射される。したがって、前記第１レンズから出射され
るレーザビームは光軸に平行で、しかもそれらのビーム
ピッチは等しくなる。
と同様に、レーザ光源ユニットからのレーザビームは互
いに等角度間隔となり、ｆθ特性を有する第１レンズに
入射される。したがって、前記第１レンズから出射され
るレーザビームは光軸に平行で、しかもそれらのビーム
ピッチは等しくなる。
【００２３】請求項６の発明では、第１レンズから出射
されるレーザビームと前記光軸との距離はｎ・Ｐ1 とな
り、それらのビームピッチは定数Ｐ1 となる。
されるレーザビームと前記光軸との距離はｎ・Ｐ1 とな
り、それらのビームピッチは定数Ｐ1 となる。
【００２４】請求項７の発明では、複数のレーザ光源ユ
ニットが光軸に垂直な平面上に等間隔で配列されること
から、第１レンズからレーザビームが等間隔で出射され
る。
ニットが光軸に垂直な平面上に等間隔で配列されること
から、第１レンズからレーザビームが等間隔で出射され
る。
【００２５】
【実施例】図１は、この発明にかかるマルチビーム走査
記録装置の第１実施例を示す図である。図２及び図３
は、それぞれレーザ光源ユニットの配列関係を示す斜視
図および平面図である。このマルチビーム走査記録装置
は、複数のレーザ光源ユニット１と、レンズＬ11，Ｌ1
2，Ｌ13からなるｆθレンズＬ10と、レンズＬ20，Ｌ30
とで構成されている。
記録装置の第１実施例を示す図である。図２及び図３
は、それぞれレーザ光源ユニットの配列関係を示す斜視
図および平面図である。このマルチビーム走査記録装置
は、複数のレーザ光源ユニット１と、レンズＬ11，Ｌ1
2，Ｌ13からなるｆθレンズＬ10と、レンズＬ20，Ｌ30
とで構成されている。
【００２６】各レーザ光源ユニット１は、図１に示すよ
うに、半導体レーザ１ａとコリメータレンズ１ｂとで構
成されている。また、これらのレーザ光源ユニット１は
ｆθレンズＬ10の前側焦点ＦＰを中心とする曲面Ａ（実
施例では球面）上に等間隔で、しかも２次元的に配列さ
れている。すなわち、図３に示すように、主走査方向Ｘ
に関して各レーザ光源ユニット１が互いに部分的に重な
り合うように配列されている。そのように配列するの
は、レーザ光源ユニット１の機械的寸法の制約から隣接
する走査線が離れてしまう、いわゆる走査ワレが生じる
のを防止するためである。また各レーザ光源ユニット１
は、それから出射されるレーザビームの主光線をｆθレ
ンズＬ10の前側焦点ＦＰに向けて配置されている。
うに、半導体レーザ１ａとコリメータレンズ１ｂとで構
成されている。また、これらのレーザ光源ユニット１は
ｆθレンズＬ10の前側焦点ＦＰを中心とする曲面Ａ（実
施例では球面）上に等間隔で、しかも２次元的に配列さ
れている。すなわち、図３に示すように、主走査方向Ｘ
に関して各レーザ光源ユニット１が互いに部分的に重な
り合うように配列されている。そのように配列するの
は、レーザ光源ユニット１の機械的寸法の制約から隣接
する走査線が離れてしまう、いわゆる走査ワレが生じる
のを防止するためである。また各レーザ光源ユニット１
は、それから出射されるレーザビームの主光線をｆθレ
ンズＬ10の前側焦点ＦＰに向けて配置されている。
【００２７】ｆθレンズＬ10およびレンズＬ20，Ｌ30
は、図１に示すように、光軸Ｚ上にこの順序で配置され
ている。この実施例では、ｆθレンズＬ10の後側焦点面
ＲＰとレンズＬ20の前側焦点面とが一致しており、ｆθ
レンズＬ10とレンズＬ20とによりアフォーカル光学系Ａ
Ｌ1 が構成されている。また、レンズＬ20の後側焦点面
とレンズＬ30の前側焦点面とが一致しており、レンズＬ
20，Ｌ30により別のアフォーカル光学系ＡＬ2 が構成さ
れている。さらに、このレンズＬ30の後側焦点面とほぼ
一致するように、記録面３が配置されている。
は、図１に示すように、光軸Ｚ上にこの順序で配置され
ている。この実施例では、ｆθレンズＬ10の後側焦点面
ＲＰとレンズＬ20の前側焦点面とが一致しており、ｆθ
レンズＬ10とレンズＬ20とによりアフォーカル光学系Ａ
Ｌ1 が構成されている。また、レンズＬ20の後側焦点面
とレンズＬ30の前側焦点面とが一致しており、レンズＬ
20，Ｌ30により別のアフォーカル光学系ＡＬ2 が構成さ
れている。さらに、このレンズＬ30の後側焦点面とほぼ
一致するように、記録面３が配置されている。
【００２８】次に、上記のように構成されたマルチビー
ム走査記録装置の動作について図１を参照しつつ説明す
る。まず、半導体レーザ１ａからのレーザビームはコリ
メータレンズ１ｂによって平行レーザビームＬＢに整形
された後、その主光線がｆθレンズＬ10の前側焦点ＦＰ
を通過するようにして、ｆθレンズＬ10に入射される。
そのため、ｆθレンズＬ10の光学的特性により、ｆθレ
ンズＬ10から出射されるレーザビームは、光軸Ｚと平行
で、しかもそのレーザビームと光軸Ｚとの距離がｆθレ
ンズＬ10への入射角に比例した値となって出射される。
ム走査記録装置の動作について図１を参照しつつ説明す
る。まず、半導体レーザ１ａからのレーザビームはコリ
メータレンズ１ｂによって平行レーザビームＬＢに整形
された後、その主光線がｆθレンズＬ10の前側焦点ＦＰ
を通過するようにして、ｆθレンズＬ10に入射される。
そのため、ｆθレンズＬ10の光学的特性により、ｆθレ
ンズＬ10から出射されるレーザビームは、光軸Ｚと平行
で、しかもそのレーザビームと光軸Ｚとの距離がｆθレ
ンズＬ10への入射角に比例した値となって出射される。
【００２９】ところで、上述したように、複数のレーザ
光源ユニット１は曲面Ａ上に等間隔で配列されているの
で、ｆθレンズＬ10へ入射される平行レーザビームＬＢ
が相互になす角度Δθは等しい。そのため、ｆθレンズ
Ｌ10からの出射レーザビームの相互間隔も等しくなる。
光源ユニット１は曲面Ａ上に等間隔で配列されているの
で、ｆθレンズＬ10へ入射される平行レーザビームＬＢ
が相互になす角度Δθは等しい。そのため、ｆθレンズ
Ｌ10からの出射レーザビームの相互間隔も等しくなる。
【００３０】等ビームピッチでｆθレンズＬ10から出射
されたレーザビームは、それぞれｆθレンズＬ10の後側
焦点面ＲＰに集光されて、その面ＲＰ上に中間像が形成
される。すなわち、等間隔で複数のビームスポットが面
ＲＰ上に形成される。そして、これらのビームスポット
はレンズＬ20，Ｌ30からなるアフォーカル光学系ＡＬ2
によって適当な倍率で縮小され、記録面３上に像（ビー
ムスポット）として形成される。したがって、記録面３
上のビームスポットは等間隔に配列されることとなる。
されたレーザビームは、それぞれｆθレンズＬ10の後側
焦点面ＲＰに集光されて、その面ＲＰ上に中間像が形成
される。すなわち、等間隔で複数のビームスポットが面
ＲＰ上に形成される。そして、これらのビームスポット
はレンズＬ20，Ｌ30からなるアフォーカル光学系ＡＬ2
によって適当な倍率で縮小され、記録面３上に像（ビー
ムスポット）として形成される。したがって、記録面３
上のビームスポットは等間隔に配列されることとなる。
【００３１】以上のように、この第１実施例では、レー
ザ光源ユニット１からのレーザビームＬＢの主光線がｆ
θレンズＬ10の前側焦点ＦＰを通過してｆθレンズＬ10
に入射するようにしているので、レーザ光源ユニット１
の数、つまりチャンネル数を増やした場合でも比較的小
さなレンズによってマルチビーム走査記録装置を構成す
ることができる。なお、曲面Ａの曲率半径よりｆθレン
ズＬ10の焦点距離が短いことが望ましく、ｆθレンズＬ
10の焦点距離が短いほど、その効果はより顕著に現れ
る。
ザ光源ユニット１からのレーザビームＬＢの主光線がｆ
θレンズＬ10の前側焦点ＦＰを通過してｆθレンズＬ10
に入射するようにしているので、レーザ光源ユニット１
の数、つまりチャンネル数を増やした場合でも比較的小
さなレンズによってマルチビーム走査記録装置を構成す
ることができる。なお、曲面Ａの曲率半径よりｆθレン
ズＬ10の焦点距離が短いことが望ましく、ｆθレンズＬ
10の焦点距離が短いほど、その効果はより顕著に現れ
る。
【００３２】また、レーザ光源ユニット１を等間隔で曲
面Ａに配列し、しかも各レーザ光源ユニット１からのレ
ーザビームＬＢをｆθレンズＬ10に入射するようにして
いるため、記録面３でのビームスポット間隔を等しくす
ることができる。
面Ａに配列し、しかも各レーザ光源ユニット１からのレ
ーザビームＬＢをｆθレンズＬ10に入射するようにして
いるため、記録面３でのビームスポット間隔を等しくす
ることができる。
【００３３】図４は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第２実施例を示す図である。このマルチビ
ーム走査記録装置では、レンズＬ10が通常のレンズ（例
えば、入射角θと走査面上のスポット位置ｙがｙ＝ｆｔ
ａｎθで表わされる）で構成される一方、レンズＬ30が
レンズＬ31，Ｌ32，Ｌ33からなり、しかもｆθ特性を有
している。なお、その他の構成は、先の第１実施例と同
一である。
査記録装置の第２実施例を示す図である。このマルチビ
ーム走査記録装置では、レンズＬ10が通常のレンズ（例
えば、入射角θと走査面上のスポット位置ｙがｙ＝ｆｔ
ａｎθで表わされる）で構成される一方、レンズＬ30が
レンズＬ31，Ｌ32，Ｌ33からなり、しかもｆθ特性を有
している。なお、その他の構成は、先の第１実施例と同
一である。
【００３４】この第２実施例では、等間隔に配列された
レーザ光源ユニット１からのレーザビームＬＢは、レン
ズＬ10，Ｌ20を介して等角度間隔でｆθレンズＬ30に入
射される。そのため、ｆθレンズＬ30を介して記録面３
上に形成されたビームスポットは等間隔となる。
レーザ光源ユニット１からのレーザビームＬＢは、レン
ズＬ10，Ｌ20を介して等角度間隔でｆθレンズＬ30に入
射される。そのため、ｆθレンズＬ30を介して記録面３
上に形成されたビームスポットは等間隔となる。
【００３５】もちろん、レーザ光源ユニット１からのレ
ーザビームＬＢの主光線がレンズＬ10の前側焦点ＦＰを
通過するようにレンズＬ10は配置されているため、第１
実施例と同様に、チャンネル数の増大によるレンズＬ10
の大型化を防止することができることは言うまでもな
い。
ーザビームＬＢの主光線がレンズＬ10の前側焦点ＦＰを
通過するようにレンズＬ10は配置されているため、第１
実施例と同様に、チャンネル数の増大によるレンズＬ10
の大型化を防止することができることは言うまでもな
い。
【００３６】図５は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第３実施例を示す図である。この第３実施
例にかかるマルチビーム走査記録装置が第１実施例と相
違する点は、レンズＬ20，Ｌ30からなるアフォーカル光
学系を設けずに、記録面３をｆθレンズＬ10の後側焦点
面ＲＰに配置した点である。したがって、第３実施例で
は、先に説明した第１および第２実施例の効果に加え、
マルチビーム走査記録装置の光学系の構成が単純化され
るという効果がさらに得られる。
査記録装置の第３実施例を示す図である。この第３実施
例にかかるマルチビーム走査記録装置が第１実施例と相
違する点は、レンズＬ20，Ｌ30からなるアフォーカル光
学系を設けずに、記録面３をｆθレンズＬ10の後側焦点
面ＲＰに配置した点である。したがって、第３実施例で
は、先に説明した第１および第２実施例の効果に加え、
マルチビーム走査記録装置の光学系の構成が単純化され
るという効果がさらに得られる。
【００３７】図６は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第４実施例を示す図である。この実施例で
は、曲面Ａの代わりに互いに曲率半径ｒB ，ｒC （ｒB
＜ｒC ）が異なる２つの曲面Ｂ，Ｃが設けられ、各曲面
Ｂ，Ｃにレーザ光源ユニット１が等間隔にそれぞれ配列
されている。なお、曲面Ｂには、曲面Ｃに取り付けられ
たレーザ光源ユニット１からのレーザビームＬＢをｆθ
レンズＬ10に導くための貫通穴Ｈが複数個設けられてい
る。
査記録装置の第４実施例を示す図である。この実施例で
は、曲面Ａの代わりに互いに曲率半径ｒB ，ｒC （ｒB
＜ｒC ）が異なる２つの曲面Ｂ，Ｃが設けられ、各曲面
Ｂ，Ｃにレーザ光源ユニット１が等間隔にそれぞれ配列
されている。なお、曲面Ｂには、曲面Ｃに取り付けられ
たレーザ光源ユニット１からのレーザビームＬＢをｆθ
レンズＬ10に導くための貫通穴Ｈが複数個設けられてい
る。
【００３８】この第４実施例によれば、数多くのレーザ
光源ユニット１を等間隔に配列することができる。特
に、第１実施例のように１つの曲面Ａに多数のレーザ光
源ユニット１を配列することが困難な場合に、第４実施
例に示す構成が有効となる。なお、この実施例では２つ
の曲面Ｂ，Ｃにレーザ光源ユニット１を設ける場合につ
いて説明したが、３つ以上の曲面を準備し、それらの曲
面にレーザ光源ユニット１を配列するようにしてもよ
い。
光源ユニット１を等間隔に配列することができる。特
に、第１実施例のように１つの曲面Ａに多数のレーザ光
源ユニット１を配列することが困難な場合に、第４実施
例に示す構成が有効となる。なお、この実施例では２つ
の曲面Ｂ，Ｃにレーザ光源ユニット１を設ける場合につ
いて説明したが、３つ以上の曲面を準備し、それらの曲
面にレーザ光源ユニット１を配列するようにしてもよ
い。
【００３９】図７は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第５実施例を示す図である。この実施例の
構成上の特徴は、レーザ光源ユニット１からのレーザビ
ームＬＢのビームウエストがｆθレンズＬ10の前側焦点
ＦＰに位置するように構成したことであり、その他の構
成は第１実施例と同一である。以下、波動光学的解析に
基づき、この第５実施例の光学的特徴について説明す
る。
査記録装置の第５実施例を示す図である。この実施例の
構成上の特徴は、レーザ光源ユニット１からのレーザビ
ームＬＢのビームウエストがｆθレンズＬ10の前側焦点
ＦＰに位置するように構成したことであり、その他の構
成は第１実施例と同一である。以下、波動光学的解析に
基づき、この第５実施例の光学的特徴について説明す
る。
【００４０】このように構成した場合、レーザビームＬ
Ｂのビームウエストは各レンズの焦点（あるいは焦点
面）に形成される。すなわち、ビームウエストは、レン
ズＬ10の後側焦点面ＲＰ（レンズＬ20の前側焦点面）、
レンズＬ20の後側焦点面（レンズＬ30の前側焦点面）お
よびレンズＬ30の後側焦点面（記録面３）上にそれぞれ
形成される。なお、レーザビームＬＢの主光線の経路に
ついては、第１実施例のそれと同一である。
Ｂのビームウエストは各レンズの焦点（あるいは焦点
面）に形成される。すなわち、ビームウエストは、レン
ズＬ10の後側焦点面ＲＰ（レンズＬ20の前側焦点面）、
レンズＬ20の後側焦点面（レンズＬ30の前側焦点面）お
よびレンズＬ30の後側焦点面（記録面３）上にそれぞれ
形成される。なお、レーザビームＬＢの主光線の経路に
ついては、第１実施例のそれと同一である。
【００４１】また、焦点面ＲＰ及び記録面３でのレーザ
ビームのビーム径をそれぞれω1 ，ω2 とすれば、 ω2 ＝ （ｆ3 ／ｆ2 ）・ω1 ＝ ｍ・ω1 ただし、ｆ2 ，ｆ3 はレンズＬ20，Ｌ30の焦点距離、ｍ
はアフォーカル光学系ＡＬ2 の倍率、で表される関係が
成立する。また、焦点面ＲＰ及び記録面３でのレーザビ
ームのビームピッチをそれぞれＰ1，Ｐ2 とすれば、 Ｐ2 ＝ （ｆ3 ／ｆ2 ）・Ｐ1 ＝ ｍ・Ｐ1 で表される関係が成立する。
ビームのビーム径をそれぞれω1 ，ω2 とすれば、 ω2 ＝ （ｆ3 ／ｆ2 ）・ω1 ＝ ｍ・ω1 ただし、ｆ2 ，ｆ3 はレンズＬ20，Ｌ30の焦点距離、ｍ
はアフォーカル光学系ＡＬ2 の倍率、で表される関係が
成立する。また、焦点面ＲＰ及び記録面３でのレーザビ
ームのビームピッチをそれぞれＰ1，Ｐ2 とすれば、 Ｐ2 ＝ （ｆ3 ／ｆ2 ）・Ｐ1 ＝ ｍ・Ｐ1 で表される関係が成立する。
【００４２】以上のように、この実施例によれば、第１
実施例の効果に加え、レーザビームＬＢのビームウエス
トを記録面３に位置させることができ、鮮明な画像を記
録することができる。しかも、アフォーカル光学系ＡＬ
2 の倍率を調整することによって、記録面３でのビーム
スポット径およびスポット間隔を設定することができ
る。
実施例の効果に加え、レーザビームＬＢのビームウエス
トを記録面３に位置させることができ、鮮明な画像を記
録することができる。しかも、アフォーカル光学系ＡＬ
2 の倍率を調整することによって、記録面３でのビーム
スポット径およびスポット間隔を設定することができ
る。
【００４３】図８は、この発明にかかるマルチビーム走
査記録装置の第６実施例を示す図である。この実施例で
は、アフォーカル光学系ＡＬ2 の代わりにレンズＬ40，
Ｌ50，Ｌ60からなるアフォーカルズーム光学系ＡＬ3 が
設けられている。したがって、駆動ユニット（後で説明
する）を用いてこのズーム光学系ＡＬ3 を調整すること
によって、その倍率を連続的に変更することができる。
査記録装置の第６実施例を示す図である。この実施例で
は、アフォーカル光学系ＡＬ2 の代わりにレンズＬ40，
Ｌ50，Ｌ60からなるアフォーカルズーム光学系ＡＬ3 が
設けられている。したがって、駆動ユニット（後で説明
する）を用いてこのズーム光学系ＡＬ3 を調整すること
によって、その倍率を連続的に変更することができる。
【００４４】図９は、上記アフォーカルズーム光学系Ａ
Ｌ3 を備えたマルチビーム走査記録装置の斜視図であ
る。同図において、１１は副走査方向Ｙに移動自在なテ
ーブルであり、このテーブル１１に曲面（球面）Ａを有
するホルダ部材ＡＡが固定されている。そして、このホ
ルダ部材ＡＡの曲面Ａ上に複数のレーザ光源ユニット１
が２次元的に配列されている。また、曲面Ａからレーザ
ビームの進行方向にｆθレンズＬ10およびアフォーカル
ズーム光学系ＡＬ3 が一定間隔をもってこの順序で配置
され、レンズＬ10は支持部材１２によって、また光学系
ＡＬ3 は支持部材１３，１４によってテーブル１１に固
定されている。なお、このアフォーカルズーム光学系Ａ
Ｌ3 には、駆動ユニット１５が連結されており、駆動ユ
ニット１５を作動させることにより光学系ＡＬ3 の倍率
を変更することができる。
Ｌ3 を備えたマルチビーム走査記録装置の斜視図であ
る。同図において、１１は副走査方向Ｙに移動自在なテ
ーブルであり、このテーブル１１に曲面（球面）Ａを有
するホルダ部材ＡＡが固定されている。そして、このホ
ルダ部材ＡＡの曲面Ａ上に複数のレーザ光源ユニット１
が２次元的に配列されている。また、曲面Ａからレーザ
ビームの進行方向にｆθレンズＬ10およびアフォーカル
ズーム光学系ＡＬ3 が一定間隔をもってこの順序で配置
され、レンズＬ10は支持部材１２によって、また光学系
ＡＬ3 は支持部材１３，１４によってテーブル１１に固
定されている。なお、このアフォーカルズーム光学系Ａ
Ｌ3 には、駆動ユニット１５が連結されており、駆動ユ
ニット１５を作動させることにより光学系ＡＬ3 の倍率
を変更することができる。
【００４５】また、主走査方向Ｘに回転する回転シリン
ダ１６が、その表面がアフォーカルズーム光学系ＡＬ3
の像面に位置するように、配置されている。このため、
図示を省略する制御ユニットからの信号に応じて半導体
レーザ１ａがON-OFF制御され、記録しようとする画像に
対応した変調レーザビームＬＢがｆθレンズＬ10の前側
焦点ＦＰを通過してｆθレンズＬ10に入射される。そし
て、そのレーザビームＬＢはアフォーカルズーム光学系
ＡＬ3 により適当な倍率で縮小された後、回転シリンダ
１６に巻き付けられた感光材料１７に照射される。こう
した処理を、回転シリンダ１６の方向Ｘへの回転および
テーブル１１の方向Ｙへの移動に同期させながら、連続
的に実行することにより、所望の画像が感光材料１７に
記録される。
ダ１６が、その表面がアフォーカルズーム光学系ＡＬ3
の像面に位置するように、配置されている。このため、
図示を省略する制御ユニットからの信号に応じて半導体
レーザ１ａがON-OFF制御され、記録しようとする画像に
対応した変調レーザビームＬＢがｆθレンズＬ10の前側
焦点ＦＰを通過してｆθレンズＬ10に入射される。そし
て、そのレーザビームＬＢはアフォーカルズーム光学系
ＡＬ3 により適当な倍率で縮小された後、回転シリンダ
１６に巻き付けられた感光材料１７に照射される。こう
した処理を、回転シリンダ１６の方向Ｘへの回転および
テーブル１１の方向Ｙへの移動に同期させながら、連続
的に実行することにより、所望の画像が感光材料１７に
記録される。
【００４６】なお、上記装置では、レーザ光源として半
導体レーザ１ａを用いているが、これに限定されるもの
ではなく、例えば固体レーザ（ＹＡＧ，ＹＡＧ＋ＫＴＰ
等）を用いることができる。ただし、この場合には、図
１０に示すように、レーザ光源ユニット１を固体レーザ
１ｃと固体レーザ１ｃからのレーザビームを記録画像に
応じて変調するための外部変調素子１ｄとで構成する必
要がある。また、上記以外に、半導体レーザ，ＳＨＧ素
子および整形レンズによって、あるいは半導体レーザ，
コリメータレンズおよび外部変調素子によってレーザ光
源ユニットを構成してもよい。さらに図１の構成にＳＨ
Ｇ素子を付加し、より短波長のレーザビームを使用する
ようにしてもよい。
導体レーザ１ａを用いているが、これに限定されるもの
ではなく、例えば固体レーザ（ＹＡＧ，ＹＡＧ＋ＫＴＰ
等）を用いることができる。ただし、この場合には、図
１０に示すように、レーザ光源ユニット１を固体レーザ
１ｃと固体レーザ１ｃからのレーザビームを記録画像に
応じて変調するための外部変調素子１ｄとで構成する必
要がある。また、上記以外に、半導体レーザ，ＳＨＧ素
子および整形レンズによって、あるいは半導体レーザ，
コリメータレンズおよび外部変調素子によってレーザ光
源ユニットを構成してもよい。さらに図１の構成にＳＨ
Ｇ素子を付加し、より短波長のレーザビームを使用する
ようにしてもよい。
【００４７】また、上記実施例では、ｆθレンズを利用
してビームスポットの間隔を等しくする技術について説
明したが、以下に詳説する第７および第８実施例のごと
くレーザ光源ユニット１を配列することによって、ｆθ
レンズを用いることなくビームスポットの間隔を等しく
することも可能である。
してビームスポットの間隔を等しくする技術について説
明したが、以下に詳説する第７および第８実施例のごと
くレーザ光源ユニット１を配列することによって、ｆθ
レンズを用いることなくビームスポットの間隔を等しく
することも可能である。
【００４８】まず、第７および第８実施例の説明に先立
って、通常のレンズに入射するレーザビームと、出射レ
ーザビームとの関係について図１１を参照しつつ説明す
る。図１１はその関係を示す模式図である。同図に示す
ように、レーザビームＬＢの主光線が光軸Ｚを含む１つ
の基準平面（同図では紙面）上に投影された直線と光軸
Ｚとのなす角度θで、レーザビームＬＢがレンズＬ10の
前側焦点ＦＰを通過してレンズＬ10に入射されると、レ
ンズＬ10からの出射レーザビームＬＢ′は、光軸Ｚと平
行で、しかも中間像位置（レンズＬ10の後側焦点面Ｒ
Ｐ）での出射レーザビームと光軸Ｚとの基準平面上での
距離Ｐは、 Ｐ ＝ ｆ1 ・ｔａｎθ ただし、ｆ1 はレンズＬ10の焦点距離、となる。したが
って、各レーザ光源ユニット１からのレーザビームと光
軸Ｚとのなす角度が基準平面上それぞれθ1 ，θ2 ，θ
3 であるとき、各出射レーザビームと光軸Ｚとの基準平
面上での距離Ｐ1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 は、 Ｐ1 ＝ ｆ1 ・ｔａｎθ1 Ｐ2 ＝ ｆ1 ・ｔａｎθ2 Ｐ3 ＝ ｆ1 ・ｔａｎθ3 となる。ここで、距離Ｐ1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 の間に、 Ｐ2 ＝２・Ｐ1 Ｐ3 ＝３・Ｐ1 の関係が成立すると、中間像位置でのビームピッチが一
定値Ｐ1 となる。つまり、角度θ1 ，θ2 ，θ3 がそれ
ぞれ θ1 ＝ｔａｎ-1（Ｐ1 ／ｆ1 ） θ2 ＝ｔａｎ-1（２・Ｐ1 ／ｆ1 ） θ3 ＝ｔａｎ-1（３・Ｐ1 ／ｆ1 ） となるように、各レーザ光源ユニット１を曲面Ａ上に配
列すると、先に説明した実施例と同様に、中間像位置
（レンズＬ10の後側焦点面）でのビームピッチが等しく
なる。
って、通常のレンズに入射するレーザビームと、出射レ
ーザビームとの関係について図１１を参照しつつ説明す
る。図１１はその関係を示す模式図である。同図に示す
ように、レーザビームＬＢの主光線が光軸Ｚを含む１つ
の基準平面（同図では紙面）上に投影された直線と光軸
Ｚとのなす角度θで、レーザビームＬＢがレンズＬ10の
前側焦点ＦＰを通過してレンズＬ10に入射されると、レ
ンズＬ10からの出射レーザビームＬＢ′は、光軸Ｚと平
行で、しかも中間像位置（レンズＬ10の後側焦点面Ｒ
Ｐ）での出射レーザビームと光軸Ｚとの基準平面上での
距離Ｐは、 Ｐ ＝ ｆ1 ・ｔａｎθ ただし、ｆ1 はレンズＬ10の焦点距離、となる。したが
って、各レーザ光源ユニット１からのレーザビームと光
軸Ｚとのなす角度が基準平面上それぞれθ1 ，θ2 ，θ
3 であるとき、各出射レーザビームと光軸Ｚとの基準平
面上での距離Ｐ1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 は、 Ｐ1 ＝ ｆ1 ・ｔａｎθ1 Ｐ2 ＝ ｆ1 ・ｔａｎθ2 Ｐ3 ＝ ｆ1 ・ｔａｎθ3 となる。ここで、距離Ｐ1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 の間に、 Ｐ2 ＝２・Ｐ1 Ｐ3 ＝３・Ｐ1 の関係が成立すると、中間像位置でのビームピッチが一
定値Ｐ1 となる。つまり、角度θ1 ，θ2 ，θ3 がそれ
ぞれ θ1 ＝ｔａｎ-1（Ｐ1 ／ｆ1 ） θ2 ＝ｔａｎ-1（２・Ｐ1 ／ｆ1 ） θ3 ＝ｔａｎ-1（３・Ｐ1 ／ｆ1 ） となるように、各レーザ光源ユニット１を曲面Ａ上に配
列すると、先に説明した実施例と同様に、中間像位置
（レンズＬ10の後側焦点面）でのビームピッチが等しく
なる。
【００４９】図１２は、この発明にかかるマルチビーム
走査記録装置の第７実施例を示す図である。この実施例
では、レーザ光源ユニット１からのレーザビームと光軸
Ｚとのなす角度θが以下の関係式を満足するように、複
数のレーザ光源ユニット１が曲面Ａ上に配列されてい
る。
走査記録装置の第７実施例を示す図である。この実施例
では、レーザ光源ユニット１からのレーザビームと光軸
Ｚとのなす角度θが以下の関係式を満足するように、複
数のレーザ光源ユニット１が曲面Ａ上に配列されてい
る。
【００５０】θ ＝ｔａｎ-1（ｎ・Ｐ1 ／ｆ1 ）
ただし、ｎは自然数である。このため、上記説明からわ
かるように、レンズＬ10の後側焦点面ＲＰ（中間像位
置）でのビームスポットの間隔は一定値Ｐ1 となる。そ
して、その中間像（ビームスポット）はアフォーカル光
学系ＡＬ2 によって所定の倍率で縮小され、記録面３上
に形成される。
かるように、レンズＬ10の後側焦点面ＲＰ（中間像位
置）でのビームスポットの間隔は一定値Ｐ1 となる。そ
して、その中間像（ビームスポット）はアフォーカル光
学系ＡＬ2 によって所定の倍率で縮小され、記録面３上
に形成される。
【００５１】図１３は、この発明にかかるマルチビーム
走査記録装置の第８実施例を示す図である。この実施例
が第７実施例と相違する点は、レーザ光源ユニット１が
第７実施例では曲面Ａ上に配列されているのに対し、こ
の実施例ではレンズＬ10の前側焦点ＦＰから距離ｄだけ
離れた位置に設けられた光軸Ｚに垂直な平面Ｄ上に等間
隔に配列されている点であり、その他の構成は同一であ
る。
走査記録装置の第８実施例を示す図である。この実施例
が第７実施例と相違する点は、レーザ光源ユニット１が
第７実施例では曲面Ａ上に配列されているのに対し、こ
の実施例ではレンズＬ10の前側焦点ＦＰから距離ｄだけ
離れた位置に設けられた光軸Ｚに垂直な平面Ｄ上に等間
隔に配列されている点であり、その他の構成は同一であ
る。
【００５２】この実施例においても、
θ ＝ｔａｎ-1（ｎ・Ｐ1 ／ｆ1 ）
が満足され、上記と同様の効果が得られる。
【００５３】なお、上述の第１実施例（図１）、第２実
施例（図４）、第５実施例（図７）、第７実施例（図１
２）及び第８実施例（図１３）においては、レンズＬ10
とレンズＬ20とを必ずしもアフォーカス系で構成しなく
てもよい。例えば図７において、ｆθレンズＬ10の後側
焦点面ＲＰとレンズＬ20の前側焦点面との距離をΔｚ1
とし、レンズＬ30の後側焦点面とビームウエストが形成
される位置との距離をΔｚ2 とすると、本出願人の先の
出願（特開平３−１５０１８号）に開示されている様
に、 Δｚ2 ＝（ｆ３／ｆ２）2 ・Δｚ1 ＝ｍ2 ・Δｚ1 なる関係が成立するので、レンズＬ30の後側焦点面から
Δｚ2 だけずらして記録面３を配置すればよい。
施例（図４）、第５実施例（図７）、第７実施例（図１
２）及び第８実施例（図１３）においては、レンズＬ10
とレンズＬ20とを必ずしもアフォーカス系で構成しなく
てもよい。例えば図７において、ｆθレンズＬ10の後側
焦点面ＲＰとレンズＬ20の前側焦点面との距離をΔｚ1
とし、レンズＬ30の後側焦点面とビームウエストが形成
される位置との距離をΔｚ2 とすると、本出願人の先の
出願（特開平３−１５０１８号）に開示されている様
に、 Δｚ2 ＝（ｆ３／ｆ２）2 ・Δｚ1 ＝ｍ2 ・Δｚ1 なる関係が成立するので、レンズＬ30の後側焦点面から
Δｚ2 だけずらして記録面３を配置すればよい。
【００５４】この様にレンズＬ10とレンズＬ20とをアフ
ォーカル系で構成しない場合には、レンズＬ10とレンズ
Ｌ20の間隔を狭くすることができ、全体としては、コン
パクトな光学系を構成することができる。
ォーカル系で構成しない場合には、レンズＬ10とレンズ
Ｌ20の間隔を狭くすることができ、全体としては、コン
パクトな光学系を構成することができる。
【００５５】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１および２
の発明によれば、レーザ光源ユニットからのレーザビー
ムの主光線のすべてが第１レンズの前側焦点を通過して
前記第１レンズに入射するように構成したので、レーザ
光源ユニットの数、つまりチャンネル数にかかわらず前
記第１レンズを小型化することができ、小型で、しかも
低コストのマルチビーム走査記録装置が得られる。
の発明によれば、レーザ光源ユニットからのレーザビー
ムの主光線のすべてが第１レンズの前側焦点を通過して
前記第１レンズに入射するように構成したので、レーザ
光源ユニットの数、つまりチャンネル数にかかわらず前
記第１レンズを小型化することができ、小型で、しかも
低コストのマルチビーム走査記録装置が得られる。
【００５６】請求項３の発明によれば、ズームレンズに
よってアフォーカルズーム光学系の倍率を変更可能とし
ているので、記録面上でのビームスポット間隔やスポッ
ト径を倍率に基づいて変更することができる。
よってアフォーカルズーム光学系の倍率を変更可能とし
ているので、記録面上でのビームスポット間隔やスポッ
ト径を倍率に基づいて変更することができる。
【００５７】請求項４の発明では、複数のレーザ光源ユ
ニットが第１レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等
間隔で配列して、前記レーザ光源ユニットからのレーザ
ビームのなす角度を等しくすると共に、それらのレーザ
ビームを最終的にｆθレンズによって記録面に導いてい
るので、前記記録面でのビームスポット間隔を等しくす
ることができる。
ニットが第１レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等
間隔で配列して、前記レーザ光源ユニットからのレーザ
ビームのなす角度を等しくすると共に、それらのレーザ
ビームを最終的にｆθレンズによって記録面に導いてい
るので、前記記録面でのビームスポット間隔を等しくす
ることができる。
【００５８】請求項５の発明によれば、上記請求項４の
発明と同様に、相互になす角度が等しい複数のレーザビ
ームを、ｆθ特性を有する第１レンズに入射するように
構成しているので、前記第１レンズから出射されるレー
ザビームを第１レンズの光軸に平行で、しかもそれらの
ビームピッチを等しくすることができる。その結果、記
録面でのビームスポットの間隔を一定にすることができ
る。
発明と同様に、相互になす角度が等しい複数のレーザビ
ームを、ｆθ特性を有する第１レンズに入射するように
構成しているので、前記第１レンズから出射されるレー
ザビームを第１レンズの光軸に平行で、しかもそれらの
ビームピッチを等しくすることができる。その結果、記
録面でのビームスポットの間隔を一定にすることができ
る。
【００５９】請求項６の発明では、各レーザ光源ユニッ
トから出射されるレーザビームの主光線が前記第１レン
ズの光軸を含む１つの平面上に投影された直線と前記光
軸とのなす角度θが、次式 θ ＝ ｔａｎ-1（ｎ・Ｐ1 ／ｆ1 ） ただし、ｎは自然数、Ｐ1 は定数、ｆ1 は前記第１レン
ズの焦点距離 を満足するように構成しているので、第１レンズからの
レーザビームと前記光軸との距離はｎ・Ｐ1 となり、記
録面でのビームスポット間隔を定数Ｐ1とすることがで
きる。
トから出射されるレーザビームの主光線が前記第１レン
ズの光軸を含む１つの平面上に投影された直線と前記光
軸とのなす角度θが、次式 θ ＝ ｔａｎ-1（ｎ・Ｐ1 ／ｆ1 ） ただし、ｎは自然数、Ｐ1 は定数、ｆ1 は前記第１レン
ズの焦点距離 を満足するように構成しているので、第１レンズからの
レーザビームと前記光軸との距離はｎ・Ｐ1 となり、記
録面でのビームスポット間隔を定数Ｐ1とすることがで
きる。
【００６０】請求項７の発明では、前記複数のレーザ光
源ユニットを前記第１レンズの光軸に垂直な平面上に等
間隔で配列しているので、上記第６実施例と同様の効果
が得られる。
源ユニットを前記第１レンズの光軸に垂直な平面上に等
間隔で配列しているので、上記第６実施例と同様の効果
が得られる。
【図１】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第１実施例を示す図である。
第１実施例を示す図である。
【図２】レーザ光源ユニットの配列関係を示す斜視図で
ある。
ある。
【図３】レーザ光源ユニットの配列関係を示す平面図で
ある。
ある。
【図４】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第２実施例を示す図である。
第２実施例を示す図である。
【図５】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第３実施例を示す図である。
第３実施例を示す図である。
【図６】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第４実施例を示す図である。
第４実施例を示す図である。
【図７】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第５実施例を示す図である。
第５実施例を示す図である。
【図８】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置の
第６実施例を示す図である。
第６実施例を示す図である。
【図９】アフォーカルズーム光学系を備えたマルチビー
ム走査記録装置の斜視図である。
ム走査記録装置の斜視図である。
【図１０】レーザ光源ユニットの変形例を示す図であ
る。
る。
【図１１】入射レーザビームと出射レーザビームとの関
係を示す模式図である。
係を示す模式図である。
【図１２】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置
の第７実施例を示す図である。
の第７実施例を示す図である。
【図１３】この発明にかかるマルチビーム走査記録装置
の第８実施例を示す図である。
の第８実施例を示す図である。
【図１４】従来のマルチビーム走査記録装置の第１従来
例を示す図である。
例を示す図である。
【図１５】従来のマルチビーム走査記録装置の第２従来
例を示す図である。
例を示す図である。
１ レーザ光源ユニット
３ 記録面
ＡＬ2 アフォーカル光学系
ＡＬ3 アフォーカルズーム光学系
ＦＰ 前側焦点
Ｌ10 レンズ（第１レンズ）
ＬＢ レーザビーム
Claims (7)
- 【請求項１】 複数のレーザビームを記録面に照射する
マルチビーム走査記録装置であって、 それぞれが単一のレーザビームを発生する複数のレーザ
光源ユニットと、 各レーザ光源ユニットからのレーザビームを前記記録面
に導く第１レンズとを備え、 各レーザ光源ユニットを、そのレーザ光源ユニットから
出射されるレーザビームの主光線を前記第１レンズの前
側焦点に向けて配置したことを特徴とするマルチビーム
走査記録装置。 - 【請求項２】 前記第１レンズと前記記録面との間にア
フォーカル光学系がさらに設けられた請求項１のマルチ
ビーム走査記録装置。 - 【請求項３】 前記アフォーカル光学系がズームレンズ
を含むアフォーカルズーム光学系である請求項２のマル
チビーム走査記録装置。 - 【請求項４】 前記複数のレーザ光源ユニットが前記第
１レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等間隔で配列
されるとともに、前記アフォーカル光学系を構成する複
数のレンズのうち前記記録面に隣接配置されたレンズが
ｆθ特性を有する請求項２のマルチビーム走査記録装
置。 - 【請求項５】 前記複数のレーザ光源ユニットが前記第
１レンズの前側焦点を中心とする曲面上に等間隔で配列
されるとともに、前記第１レンズがｆθ特性を有する請
求項１のマルチビーム走査記録装置。 - 【請求項６】 各レーザ光源ユニットから出射されるレ
ーザビームの主光線が前記第１レンズの光軸を含む１つ
の平面上に投影された直線と前記光軸とのなす角度θ
が、次式 θ ＝ ｔａｎ-1（ｎ・Ｐ1 ／ｆ1 ） ただし、ｎは自然数、Ｐ1 は定数、ｆ1 は前記第１レン
ズの焦点距離 で表される請求項１のマルチビーム走査記録装置。 - 【請求項７】 前記複数のレーザ光源ユニットが前記第
１レンズの光軸に垂直な平面上に等間隔で配列された請
求項１のマルチビーム走査記録装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3201406A JP2717035B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | マルチビーム走査記録装置 |
| US07/906,539 US5291329A (en) | 1991-07-15 | 1992-06-30 | Apparatus for recording an image |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3201406A JP2717035B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | マルチビーム走査記録装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0519188A true JPH0519188A (ja) | 1993-01-29 |
| JP2717035B2 JP2717035B2 (ja) | 1998-02-18 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP3201406A Expired - Fee Related JP2717035B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | マルチビーム走査記録装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR20190001936U (ko) * | 2018-01-23 | 2019-07-31 | 예놉틱 옵틱컬 시스템즈 게엠베하 | 에프 세타 렌즈 |
| KR20190001935U (ko) * | 2018-01-23 | 2019-07-31 | 예놉틱 옵틱컬 시스템즈 게엠베하 | 에프 세타 렌즈 |
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| DE10111871A1 (de) | 2001-03-13 | 2002-09-19 | Heidelberger Druckmasch Ag | Bebilderungseinrichtung für eine Druckform mit einem Array von VCSEL-Lichtquellen |
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| JP4201178B2 (ja) | 2002-05-30 | 2008-12-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
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-
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- 1991-07-15 JP JP3201406A patent/JP2717035B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-06-30 US US07/906,539 patent/US5291329A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| US5291329A (en) | 1994-03-01 |
| JP2717035B2 (ja) | 1998-02-18 |
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