JPH10148780A - マルチビーム走査光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビームの相対位置ずれが発生しにくく、か
つ、安価なマルチビーム走査光学装置を得る。 【解決手段】 マルチビーム走査光学装置の光源部は、
ｋ個（ｋ≧３）の半導体レーザ素子８〜１０と、ｋ−１
個の平行平板ビームスプリッタ１１，１２と、１個のコ
リメータレンズ３と、半導体レーザ素子８〜１０と平行
平板ビームスプリッタ１１，１２の間に配置されたｊ個
（１≦ｊ＜ｋ）の透明な平行平板１４，１５とを備えて
いる。平行平板ビームスプリッタ１１，１２と平行平板
１４，１５は等しい硝材からなり、相互に平行に配置さ
れ、半導体レーザ素子８〜１０から放射されたレーザビ
ームＬ１〜Ｌ３が透過する平行平板ビームスプリッタ１
１，１２の厚さと平行平板１４，１５の厚さの合計がそ
れぞれ等しくなるように、それぞれの厚みが設定されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マルチビーム走査
光学装置、特に、デジタル複写機やレーザプリンタ等に
用いられるマルチビーム走査光学装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のマルチビーム走査光学装置とし
て、複数の光源と、この光源から放射されたビームをそ
れぞれ略平行光に変換する複数のコリメータレンズと、
各コリメータレンズから出射されたビームを重ね合わせ
る複数のキューブ型ビームスプリッタとを備えたものが
知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
マルチビーム走査光学装置にあっては、各光源毎にコリ
メータレンズを必要とし、コリメータレンズの位置調整
作業がその分多くなると共に、コリメータレンズ位置調
整機構のための部品点数も増え、またキューブ型ビーム
スプリッタも高価であるため、製造コストが高いという
問題があった。また、ビームスプリッタでビームを重ね
合わせる前にコリメータレンズによって略平行光にする
ように構成しているので、径の大きいコリメータレンズ
が複数個必要であり、これらの位置精度を確保すること
が困難となり、各光源から放射されるビームの相対位置
がずれ易く画像品質が低下する場合があった。

【０００４】そこで、本発明の目的は、ビームの相対位
置ずれが発生しにくく、かつ、安価なマルチビーム走査
光学装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段と作用】以上の目的を達成
するため、本発明に係るマルチビーム走査光学装置は、
（ａ）ｋ個（ｋ≧３）の光源と、（ｂ）前記光源からそ
れぞれ放射されたビームを重ね合わせる、半透明板から
なるｋ−１個の重ね合わせ手段と、（ｃ）前記重ね合わ
せ手段により重ね合わされたビームをそれぞれ平行光又
は収束光に変換する集光レンズと、（ｄ）前記光源と前
記重ね合わせ手段の間に配置されたｊ個（１≦ｊ＜ｋ）
の透明板と、を備えたことを特徴とする。

【０００６】以上の構成により、光源と集光レンズの間
に重ね合わせ手段が配置されることになり、光源から放
射された各ビームは、この重ね合わせ手段によって重ね
合わされてマルチビーム化された後、集光レンズに入射
する。従って、集光レンズは１個ですむ。

【０００７】また、本発明に係るマルチビーム走査光学
装置は、重ね合わせ手段と透明板が平行平板であって等
しい硝材からなり、かつ、相互に平行に配置され、光源
から放射された波長の等しい各ビームが透過する前記重
ね合わせ手段の厚さと前記透明板の厚さの合計がそれぞ
れ等しくなるように前記透明板の厚さが設定されてい
る。ここに、重ね合わせ手段と透明板の面の法線は、主
走査面又は主走査面に対して垂直な平面のいずれかに含
まれていることが好ましい。

【０００８】以上の構成によると、各ビームが透過する
重ね合わせ手段の厚さと透明板の厚さの合計と、さら
に、各重ね合わせ手段及び透明板のそれぞれの屈折率と
入射角度が相互に等しくなるため、発生する非点隔差の
量が均一となる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るマルチビーム
走査光学装置の実施形態について添付図面を参照して説
明する。各実施形態で同一部品及び同一部分には同じ符
号を付した。 ［第１実施形態、図１及び図２］図１に示すように、マ
ルチビーム走査光学装置は、光源ブロック１と、コリメ
ータレンズ３と、シリンダレンズ４と、ポリゴンミラー
５と、走査レンズ群６とで構成されている。

【００１０】光源ブロック１の半導体レーザ素子８，
９，１０はそれぞれ図示しない駆動回路に入力された印
字データに基づいて変調（オン，オフ）制御され、オン
時にレーザビームを放射する。各レーザビームはコリメ
ータレンズ３で略平行に収束され、シリンダレンズ４に
よってポリゴンミラー５の偏向面上に副走査方向のみ集
光する。

【００１１】ポリゴンミラー５は回転軸５ａを中心とし
て矢印ａ方向に一定速度で回転駆動される。レーザビー
ムはポリゴンミラー５の回転に基づいて各偏向面で等角
速度に偏向され、走査レンズ群６に入射する。走査レン
ズ群６によって屈折、反射されたそれぞれのレーザビー
ムは、感光体ドラム７上に集光され、感光体ドラム７上
に矢印ｂ方向に同時走査する。感光体ドラム７は矢印ｃ
方向に一定速度で回転駆動され、ポリゴンミラー５によ
る矢印ｂ方向への主走査とドラム７の矢印ｃ方向への副
走査によってドラム７上に画像（静電潜像）が形成され
る。

【００１２】光源ブロック１は、図２に示すように、三
つの半導体レーザ素子８，９，１０と、二つの平行平板
ビームスプリッタ１１，１２と、二つの透明な平行平板
１４，１５と、遮光部材１８とで構成されている。半導
体レーザ素子８〜１０は、それぞれ波長の等しい（第１
実施形態の場合、７８０ｎｍの波長）レーザビームＬ
１，Ｌ２，Ｌ３を放射する。

【００１３】平行平板ビームスプリッタ１１，１２は、
光源の半導体レーザ素子８〜１０から放射されたレーザ
ビームを重ね合わせるものである。一般に、平行平板ビ
ームスプリッタの数は、光源の数をｋ個（ｋ≧３）とす
ると、ｋ−１個とされる。この平行平板ビームスプリッ
タ１１，１２は硝材（光学的に透明な材料であり、例え
ば光学ガラスやプラスチック）からなり、半導体レーザ
素子８側の面は透過面で、コリメータレンズ３側の面は
ハーフミラーがコーティングされている。このハーフミ
ラーは入射ビームの約５０％を反射させ、約５０％を透
過させる。平行平板ビームスプリッタ１１，１２は相互
に平行な状態で光路に沿って半導体レーザ素子８〜１０
とコリメータレンズ３の間に配置され、半導体レーザ素
子８〜１０から放射されるレーザビームＬ１，Ｌ２，Ｌ
３の進行方向に対して４５度傾斜している。

【００１４】ところで、レーザビームの重ね合わせ手段
として、単純にキューブ型ビームスプリッタを安価な平
行平板型ビームスプリッタ１１，１２に置き換えるだけ
では、レーザビームＬ１〜Ｌ３が透過するビームスプリ
ッタ１１、１２の枚数がそれぞれのレーザビーム毎に異
なることになる。一般に、レーザビームを平行平板に斜
入射させたときの非点隔差は、以下の（１）式にて表さ
れる。

【００１５】 ｛ｔ（ｎ²−１）ｓｉｎ²θ｝／｛（ｎ²−ｓｉｎ²θ）^3/2｝ …（１） ただし、ｔ：平行平板の厚さ θ：入射角度 ｎ：屈折率 従って、レーザビームＬ１〜Ｌ３が透過するビームスプ
リッタ１１、１２の枚数が異なると、各レーザビームＬ
１〜Ｌ３相互間で異なる量の非点隔差が発生する。しか
も、コリメータレンズ３以降の光学系が全てのレーザビ
ームＬ１〜Ｌ３で共通であるので、この非点隔差をレー
ザビームＬ１〜Ｌ３毎に個別に調整することができな
い。その結果、各レーザビームＬ１〜Ｌ３の感光体ドラ
ム７上での集光状態がばらつき、画質に悪影響を及ぼす
という問題が発生する。

【００１６】そこで、この問題を解消するため、平行平
板１４，１５を用いて各レーザビームＬ１〜Ｌ３が透過
する平行平板ビームスプリッタ１１，１２の厚さと平行
平板１４，１５の厚さの合計を等しくして発生する非点
隔差を均一にする工夫がなされている。すなわち、半導
体レーザ素子９と平行平板ビームスプリッタ１１の間に
は平行平板１４が配置され、半導体レーザ素子１０と平
行平板ビームスプリッタ１２の間には平行平板１５が配
置されている。一般に、平行平板の数は、光源の数をｋ
（ｋ≧３）個とすると、ｊ個（１≦ｊ＜ｋ）とされる。
平行平板１４，１５は、平行平板ビームスプリッタ１
１，１２に対して相互に平行に配置され、平行平板ビー
ムスプリッタ１１，１２と等しい硝材からなる。

【００１７】さらに、平行平板ビームスプリッタ１１，
１２と平行平板１４の厚さは２ｍｍに設定され、平行平
板１５の厚さは４ｍｍに設定されている。一般に、平行
平板ビームスプリッタ１１，１２の厚さをそれぞれ
ｔ₁，ｔ₂とすると、平行平板１４の厚さはｔ₁，平行平
板１５の厚さはｔ₁＋ｔ₂となるように設定される。この
ように各部品の厚さを設定すると、半導体レーザ素子８
〜１０からそれぞれ放射されるレーザビームＬ１〜Ｌ３
が透過する平行平板ビームスプリッタ１１，１２の厚さ
と平行平板１４，１５の厚さの合計がそれぞれ等しくな
る。

【００１８】以上の構成からなる光源ブロック１におい
て、半導体レーザ素子８，９から放射されたレーザビー
ムＬ１，Ｌ２は、平行平板ビームスプリッタ１１により
重ね合わされた後、半導体レーザ素子１０から放射され
たレーザビームＬ３と平行平板ビームスプリッタ１２に
よって重ね合わされ、ビーム３本のマルチビームとして
コリメータレンズ３に導かれる。

【００１９】すなわち、半導体レーザ素子８から放射さ
れたレーザビームＬ１は、平行平板ビームスプリッタ１
１，１２を透過し、コリメータレンズ３に入射する。半
導体レーザ素子９から放射されたレーザビームＬ２は平
行平板１４を透過し、平行平板ビームスプリッタ１１で
反射し、さらに、平行平板ビームスプリッタ１２を透過
してコリメータレンズ３に入射する。半導体レーザ素子
１０から放射されたレーザビームＬ３は平行平板１５を
透過し、平行平板ビームスプリッタ１２で反射してコリ
メータレンズ３に入射する。ここに、各ビームスプリッ
タ１１，１２において、コリメータレンズ３の方向に進
行するレーザビームＬ１〜Ｌ３は入射した光量の半分で
あり、残りは遮光部材１８によって遮光される。このよ
うに、コリメータレンズ３に入射するレーザビームＬ１
〜Ｌ３は平行平板ビームスプリッタ１１，１２によって
マルチビーム化されているので、コリメータレンズ３は
１個ですむ。

【００２０】コリメータレンズ３によって略平行光にさ
れたレーザビームＬ１〜Ｌ３は、主走査方向については
相互に平行であるが、副走査方向については僅かに相互
にずらすように設定される。従って、感光体ドラム７上
に集光する位置は、隣接する二つのレーザビームにおい
て、主走査方向については等しい位置であるが、副走査
方向については僅かに異なる位置になる。例えば、画像
密度が４００ｄｐｉの走査光学装置の場合には、副走査
方向の集光位置の間隔は６３．５μｍになるように調整
される。こうして、半導体レーザ素子８〜１０を独立に
制御すれば、一回の走査で同時に３ラインの描画をする
ことができる。

【００２１】また、第１実施形態の場合、各レーザビー
ムＬ１〜Ｌ３が透過する平行平板ビームスプリッタ１
１，１２と平行平板１４，１５の合計の厚さは、それぞ
れ４ｍｍであり、入射角度は４５゜であるから、平行平
板ビームスプリッタ１１，１２や平行平板１４，１５の
材料として屈折率１．５１１１８（波長７８０ｎｍ）の
硝材を用いると仮定すると、前記（１）式より、各レー
ザビームＬ１〜Ｌ３の非点隔差は等しく１．０８ｍｍと
なる。

【００２２】第１実施形態では、平行平板ビームスプリ
ッタ１１，１２及び平行平板１４，１５の法線とポリゴ
ンミラー５に入射するレーザビームＬ１〜Ｌ３とを含む
面はレーザビームＬ１〜Ｌ３の主走査面と等しい。この
ため、コリメータレンズ３を出射したレーザビームＬ１
〜Ｌ３は主走査方向については平行光であるが、副走査
方向については収束光になっており、シリンダレンズ４
によってさらに屈折されてポリゴンミラー５の偏向面上
に副走査方向のみ集光することができる。このように、
各レーザビームＬ１〜Ｌ３の非点隔差が等しいので、シ
リンダレンズ４によってこの非点隔差をまとめて調整す
ることができ、その結果、各レーザビームＬ１〜Ｌ３の
感光体ドラム７上での集光状態が均一となり、描画性能
の優れたマルチビーム走査光学装置が得られる。

【００２３】［第２実施形態、図３］第２実施形態のマ
ルチビーム走査光学装置は、光源ブロックを残して前記
第１実施形態のマルチビーム走査光学装置と同様のもの
である。図３に示すように、光源ブロック２１は三つの
半導体レーザ素子８，９，１０と、二つの平行平板ビー
ムスプリッタ１１，２２と、一つの透明な平行平板１４
と、遮光部材１８とで構成されている。平行平板ビーム
スプリッタ２２は、半導体レーザ素子１０から放射され
たレーザビームＬ３をレーザビームＬ１，Ｌ２に重ね合
わせるものである。この平行平板ビームスプリッタ２２
は、半導体レーザ素子８側の面がハーフミラーでコーテ
ィングされ、コリメータレンズ３側の面が透過面であ
る。

【００２４】平行平板ビームスプリッタ１１，２２は相
互に平行な状態で光路に沿って半導体レーザ素子８〜１
０とコリメータレンズ３の間に配置され、半導体レーザ
素子８〜１０から放射されるレーザビームＬ１〜Ｌ３の
進行方向に対して４５度傾斜している。半導体レーザ素
子９と平行平板ビームスプリッタ１１の間には平行平板
１４が配置されているが、半導体レーザ素子１０と平行
平板ビームスプリッタ２２の間には平行平板は配置され
ていない。

【００２５】平行平板ビームスプリッタ１１，２２と平
行平板１４の厚さは２ｍｍに設定されている。このよう
に各部品の厚さを設定すると、半導体レーザ素子８〜１
０からそれぞれ放射されるレーザビームＬ１〜Ｌ３が透
過する平行平板ビームスプリッタ１１，２２の厚さと平
行平板１４の厚さの合計がそれぞれ等しくなる。以上の
構成からなる光源ブロック２１において、半導体レーザ
素子８，９から放射されたレーザビームＬ１，Ｌ２は、
平行平板ビームスプリッタ１１により重ね合わされた
後、半導体レーザ素子１０から放射されたレーザビーム
Ｌ３と平行平板ビームスプリッタ２２によって重ね合わ
され、ビーム３本のマルチビームとしてコリメータレン
ズ３に導かれる。

【００２６】すなわち、半導体レーザ素子８から放射さ
れたレーザビームＬ１は、平行平板ビームスプリッタ１
１，２２を透過し、コリメータレンズ３に入射する。半
導体レーザ素子９から放射されたレーザビームＬ２は平
行平板１４を透過し、平行平板ビームスプリッタ１１で
反射し、さらに、平行平板ビームスプリッタ２２を透過
してコリメータレンズ３に入射する。半導体レーザ素子
１０から放射されたレーザビームＬ３は平行平板ビーム
スプリッタ２２を一回透過した後、光量の半分が反射さ
れて、もう一回平行平板ビームスプリッタ２２を透過し
てコリメータレンズ３に入射する。このように、コリメ
ータレンズ３に入射するレーザビームＬ１〜Ｌ３は平行
平板ビームスプリッタ１１，２２によってマルチビーム
化されているので、コリメータレンズ３は１個ですむ。

【００２７】第２実施形態の場合、各レーザビームＬ１
〜Ｌ３が透過する平行平板ビームスプリッタ１１，２２
と平行平板１４の合計の厚さは、前記第１実施形態の場
合と同様、それぞれ４ｍｍであり、入射角度は４５゜で
あるから、平行平板ビームスプリッタ１１，２２や平行
平板１４の材料として屈折率１．５１１１８（波長７８
０ｎｍ）の硝材を用いると仮定すると、前記（１）式よ
り、各レーザビームＬ１〜Ｌ３の非点隔差は等しく１．
０８ｍｍとなる。従って、各レーザビームＬ１〜Ｌ３の
感光体ドラム上での集光状態が均一のマルチビーム走査
光学装置が得られる。

【００２８】［第３実施形態、図４及び図５］第３実施
形態のマルチビーム走査光学装置は、図４に示すよう
に、光源ブロック３１を残して前記第１実施形態のマル
チビーム走査光学装置と略同様のものである。光源ブロ
ック３１は、光軸方向に移動して位置調整可能になって
いる。光源ブロック３１は、図５に示すように、三つの
半導体レーザ素子８，９，１０と、二つの平行平板ビー
ムスプリッタ３２，３３と、二つの透明な平行平板３
４，３５と、遮光部材１８とで構成されている。

【００２９】平行平板ビームスプリッタ３２，３３は、
半導体レーザ素子８〜１０から放射されたレーザビーム
を重ね合わせるものである。この平行平板ビームスプリ
ッタ３２，３３は硝材からなり、半導体レーザ素子８側
の面はハーフミラーでコーティングされ、コリメータレ
ンズ３側の面は透過面である。平行平板ビームスプリッ
タ３２，３３は相互に平行な状態で光路に沿って半導体
レーザ素子８〜１０とコリメータレンズ３の間に配置さ
れ、半導体レーザ素子８〜１０から放射されるレーザビ
ームＬ１〜Ｌ３の進行方向に対して４５度傾斜してい
る。

【００３０】半導体レーザ素子８と平行平板ビームスプ
リッタ３２の間には平行平板３４が配置され、半導体レ
ーザ素子１０と平行平板ビームスプリッタ３３の間には
平行平板３５が配置されている。平行平板３４，３５
は、平行平板ビームスプリッタ３２，３３に対して相互
に平行に配置され、平行平板ビームスプリッタ３２，３
３と等しい硝材からなる。さらに、平行平板ビームスプ
リッタ３２，３３と平行平板３４，３５の厚さは２ｍｍ
に設定されている。このように各部品の厚さを設定する
と、半導体レーザ素子８〜１０からそれぞれ放射される
レーザビームＬ１〜Ｌ３が透過する平行平板ビームスプ
リッタ３２，３３の厚さと平行平板３４，３５の厚さの
合計がそれぞれ等しくなる。

【００３１】以上の構成からなる光源ブロック３１にお
いて、半導体レーザ素子８，９から放射されたレーザビ
ームＬ１，Ｌ２は、平行平板ビームスプリッタ３２によ
り重ね合わされた後、半導体レーザ素子１０から放射さ
れたレーザビームＬ３と平行平板ビームスプリッタ３３
によって重ね合わされ、ビーム３本のマルチビームとし
てコリメータレンズ３に導かれる。すなわち、半導体レ
ーザ素子８から放射されたレーザビームＬ１は、平行平
板３４と平行平板ビームスプリッタ３２，３３を透過
し、コリメータレンズ３に入射する。半導体レーザ素子
９から放射されたレーザビームＬ２は平行平板ビームス
プリッタ３２を一回透過した後、光量の半分が反射され
てもう一回平行平板ビームスプリッタ３２を透過し、さ
らに、平行平板ビームスプリッタ３３を透過してコリメ
ータレンズ３に入射する。半導体レーザ素子１０から放
射されたレーザビームＬ３は平行平板３５を透過し、平
行平板ビームスプリッタ３３を一回透過した後、光量の
半分が反射されてもう一回平行平板ビームスプリッタ３
３を透過してコリメータレンズ３に入射する。このよう
に、コリメータレンズ３に入射するレーザビームＬ１〜
Ｌ３は平行平板ビームスプリッタ３２，３３によってマ
ルチビーム化されているので、コリメータレンズ３は１
個ですむ。

【００３２】第３実施形態の場合、各レーザビームＬ１
〜Ｌ３が透過する平行平板ビームスプリッタ３２，３３
と平行平板３４，３５の合計の厚さは、それぞれ６ｍｍ
であり、入射角度は４５゜であるから、平行平板ビーム
スプリッタ３２，３３や平行平板３４，３５の材料とし
て屈折率１．５１１１８（波長７８０ｎｍ）の硝材を用
いると仮定すると、前記（１）式より、各レーザビーム
Ｌ１〜Ｌ３の非点隔差は等しく１．６２ｍｍとなる。

【００３３】第３実施形態においても、前記第１実施形
態同様、コリメータレンズ３を出射したレーザビームＬ
１〜Ｌ３は主走査方向については平行光であるが、副走
査方向については収束光になっている。ここで、コリメ
ータレンズ３の焦点距離を１５ｍｍとすると、前記非点
隔差１．６２ｍｍより、副走査方向の集光位置はコリメ
ータレンズ３の後方１２４ｍｍの位置となる。従って、
ポリゴンミラー５とコリメータレンズ３の間の距離を１
２４ｍｍに設定すれば、シリンダレンズをポリゴンミラ
ー５とコリメータレンズ３の間に設けなくてもポリゴン
ミラー５の偏向面上に副走査方向のみ集光させることが
できる。

【００３４】計算上は、主走査方向についてフォーカス
調整を行えば副走査方向は自動的にフォーカス調整され
ることになる。しかしながら、実際には、走査レンズ群
６の製造誤差等の影響があるので、コリメータレンズ３
で主走査方向のフォーカス調整を行なった後、光源ブロ
ック３１全体を光軸方向に移動させることにより副走査
方向のフォーカス調整を行なう必要がある。

【００３５】［第４実施形態、図６］第４実施形態のマ
ルチビーム走査光学装置は、光源ブロック１の配置方向
を残して前記第１実施形態のマルチビーム走査光学装置
と同様のものである。すなわち、第４実施形態では、平
行平板ビームスプリッタ１１，１２及び平行平板１４，
１５の法線とポリゴンミラー５に入射するレーザビーム
Ｌ１〜Ｌ３とを含む面は、レーザビームＬ１〜Ｌ３の主
走査面に対して垂直になっている。このため、コリメー
タレンズ３を出射したレーザビームＬ１〜Ｌ３は主走査
方向については平行光であるが、副走査方向については
発散光になっており、シリンダレンズ４によって屈折さ
れてポリゴンミラー５の偏向面上に副走査方向のみ集光
することができる。このように、各レーザビームＬ１〜
Ｌ３の非点隔差が等しいので、シリンダレンズ４によっ
てこの非点隔差をまとめて調整することができ、その結
果、各レーザビームＬ１〜Ｌ３の感光体ドラム７上での
集光状態が均一となり、描画性能の優れたマルチビーム
走査光学装置が得られる。

【００３６】［他の実施形態］なお、本発明に係るマル
チビーム走査光学装置は前記実施形態に限定するもので
はなく、その要旨の範囲内で種々に変更することができ
る。前記実施形態は、コリメータレンズを用いて光源か
らのビームを略平行光に変換しているが、光源からのビ
ームを収束光に変換する集光レンズを用い、ポリゴンミ
ラーに入射させる光束を収束光にして精度をあげてもよ
いことは言うまでもない。

【００３７】また、３個の半導体レーザ素子の波長を相
互に異ならせて、赤色、緑色、青色に対応させることに
よって、３本のレーザビームで１本の走査線を構成して
印画紙上に描画するフルカラープリンタを構成すること
もできる。また、半導体レーザ素子は４個以上であって
もよく、この場合、透明な平行平板の厚みが調整され、
各ビームが透過する平行平板ビームスプリッタの厚さと
透明な平行平板の厚さの合計がそれぞれ等しくなるよう
にされる。

【００３８】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、集光レンズは、重ね合わせ手段により重ね合わ
されたビームを平行光あるいは収束光に変換するので、
集光レンズが１個ですみ、集光レンズの位置調整が容易
となり、ビームの相対位置ずれが発生しにくく安価なマ
ルチビーム走査光学装置が得られる。

【００３９】さらに、各ビームが透過する重ね合わせ手
段の厚さと透明板の厚さの合計がそれぞれ等しくなるよ
うに設定することにより、各ビームの非点隔差の量が均
一化され、各ビームの感光体上での集光状態が均一とな
り、描画性能の優れたものが得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るマルチビーム走査光学装置の第１
実施形態を示す斜視図。

【図２】図１に示したマルチビーム走査光学装置の光源
ブロックを示す概略構成図。

【図３】本発明に係るマルチビーム走査光学装置の第２
実施形態に用いられる光源ブロックを示す概略構成図。

【図４】本発明に係るマルチビーム走査光学装置の第３
実施形態を示す斜視図。

【図５】図４に示したマルチビーム走査光学装置の光源
ブロックを示す概略構成図。

【図６】本発明に係るマルチビーム走査光学装置の第４
実施形態を示す斜視図。

【符号の説明】

１…光源ブロック ３…コリメータレンズ ８，９，１０…半導体レーザ素子 １１，１２…平行平板ビームスプリッタ（重ね合わせ手
段） １４，１５…平行平板（透明板） ２１…光源ブロック ２２…平行平板ビームスプリッタ ３１…光源ブロック ３２，３３…平行平板ビームスプリッタ ３４，３５…平行平板 Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３…レーザビーム

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ｋ個（ｋ≧３）の光源と、 前記光源からそれぞれ放射されたビームを重ね合わせ
   る、半透明板からなるｋ−１個の重ね合わせ手段と、 前記重ね合わせ手段により重ね合わされたビームをそれ
   ぞれ平行光あるいは収束光に変換する集光レンズと、 前記光源と前記重ね合わせ手段の間に配置されたｊ個
   （１≦ｊ＜ｋ）の透明板と、 を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学装置。
2. 【請求項２】 前記重ね合わせ手段と前記透明板が平行
   平板であって等しい硝材からなり、かつ、相互に平行に
   配置され、前記光源から放射された波長の等しい各ビー
   ムが透過する前記重ね合わせ手段の厚さと前記透明板の
   厚さの合計がそれぞれ等しくなるように前記透明板の厚
   さが設定されていることを特徴とする請求項１記載のマ
   ルチビーム走査光学装置。
3. 【請求項３】 前記重ね合わせ手段と前記透明板の面の
   法線が、主走査面又は主走査面に対して垂直な平面のい
   ずれかに含まれることを特徴とする請求項２記載のマル
   チビーム走査光学装置。