JPH05189967A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH05189967A
JPH05189967A JP4006218A JP621892A JPH05189967A JP H05189967 A JPH05189967 A JP H05189967A JP 4006218 A JP4006218 A JP 4006218A JP 621892 A JP621892 A JP 621892A JP H05189967 A JPH05189967 A JP H05189967A
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JP
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power supply
circuit
dynamic ram
supply voltage
current
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JP4006218A
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Toshiyuki Sakuta
俊之 作田
Tomoshi Matsumoto
朝史 松本
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 入力バッファの初段回路の貫通電流による内
部電源電圧の電位変動を抑制し、降圧回路及び入力バッ
ファを備えるダイナミック型RAM等の特に待機時にお
ける低消費電力化を推進する。 【構成】 降圧回路を、比較的小さな電流供給能力を有
しかつ定常的に動作状態とされる降圧回路VD1と、比
較的大きな電流供給能力を有しかつダイナミック型RA
Mが選択状態とされるとき内部制御信号CEのハイレベ
ルを受けて選択的に動作状態とされる降圧回路VD2及
びVD3とにより構成するとともに、各入力バッファの
初段回路の動作電源として外部電源電圧VCCを供給す
る。これにより、入力信号が中間レベルとされることに
よる貫通電流ならびにその電流値の変化を外部電源装置
によって保証する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置に関し、
例えば、降圧回路及び入力バッファを備えるダイナミッ
ク型RAM(ランダムアクセスメモリ)等に利用して特
に有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】MOSFET(金属酸化物半導体型電界
効果トランジスタ。この明細書では、MOSFETをし
て絶縁ゲート型電界効果トランジスタの総称とする)等
の回路素子の微細化によって、高集積化及び大容量化を
図ったダイナミック型RAMがある。これらのダイナミ
ック型RAMは、微細化された回路素子の耐圧破壊やホ
ットキャリア等を防止する意味あいから、例えば+3.
3Vのような比較的小さな絶対値の内部電源電圧を必要
とし、+5Vのような比較的大きな絶対値の外部電源電
圧をもとに上記内部電源電圧を形成する降圧回路を内蔵
する。
【0003】降圧回路を内蔵するダイナミック型RAM
については、例えば、特願平1−65840号等に記載
されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記ダイナミック型R
AMに内蔵される降圧回路は、差動増幅回路を中心とす
る電位制御回路を含み、それが動作状態とされる間に定
常的な動作電流を流す。降圧回路によって流される動作
電流の値は、その電流供給能力が大きくなるにしたがっ
て大きくなり、特にバッテリーバックアップされる待機
時において、ダイナミック型RAMの低消費電力化を制
限する結果となる。これに対処するため、本願発明者等
は、この発明に先立って、図4に示されるように、比較
的小さな電流供給能力を有しかつ定常的に動作状態とさ
れる降圧回路VD1と、比較的大きな電流供給能力を有
しかつダイナミック型RAMが選択状態とされるとき内
部制御信号CEのハイレベルを受けて選択的に動作状態
とされる降圧回路VD2及びVD3とを設けることで、
ダイナミック型RAMの特に待機時における低消費電力
化を図ることを考えた。このダイナミック型RAMにお
いて、降圧回路VD1によって形成される内部電源電圧
VCL1は、データ入出力回路IO,タイミング発生回
路TG,YアドレスバッファYB及びXアドレスバッフ
ァXB等の入力バッファの初段回路及び後段回路を含む
各部の待機時における動作電源として供給される。ま
た、降圧回路VD2によって形成される内部電源電圧V
CL2は、メモリアレイMARYの選択時における動作
電源として供給され、降圧回路VD3によって形成され
る内部電源電圧VCL3は、上記入力バッファの後段回
路を含む周辺回路の選択時における動作電源として供給
される。
【0005】ところが、ダイナミック型RAMがさらに
低消費電力化され、特に待機時における消費電流として
数百μA(マイクロアンペア)程度が要求されるように
なると、上記ダイナミック型RAMには次のような問題
が生じることが本願発明者等によって明らかとなった。
すなわち、ダイナミック型RAMに供給されるアドレス
信号等の入力信号は、いわゆるTTL(Transis
tor Transistor Logic)レベルと
され、そのハイレベルの最小値ならびにロウレベルの最
大値は、それぞれ2.4V(ボルト)ならびに0.8V
のような中間レベルを採りうるものとされる。ダイナミ
ック型RAMに対してこのような中間レベルの入力信号
が入力されるとき、各入力バッファの初段回路には比較
的大きな貫通電流が流され、その値は例えば200μA
程度に達する。また、このような中間レベル近傍におい
て入力信号レベルが振動すると、初段回路の貫通電流の
値がその利得に応じて比較的大きく変化する。待機時に
おけるダイナミック型RAMの安定動作を考慮すると、
降圧回路VD1は、これらの貫通電流ならびにその電流
値の変化に対しても内部電源電圧VCL1の電位を安定
に保持しうる良好な応答特性を持つ必要があり、そのた
めに比較的大きな動作電流を必要とする。これらの結
果、相応してダイナミック型RAMの待機時における消
費電力が大きくなり、その低消費電力化が制限されるも
のとなる。
【0006】この発明の目的は、降圧回路及び入力バッ
ファを備えかつ入力バッファの初段回路の貫通電流によ
る内部電源電圧の変動を抑制しうるダイナミック型RA
M等の半導体装置を提供することにある。この発明の他
の目的は、降圧回路及び入力バッファを備えるダイナミ
ック型RAM等の特に待機時における低消費電力化を推
進することにある。
【0007】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、外部電源電圧をもとに所定
の内部電源電圧を形成する降圧回路を、比較的小さな電
流供給能力を有しかつ定常的に動作状態とされる第1の
降圧回路と、比較的大きな電流供給能力を有しかつダイ
ナミック型RAM等が選択状態とされるとき選択的に動
作状態とされる第2の降圧回路とにより構成するととも
に、各入力バッファの初段回路の動作電源として上記外
部電源電圧をそのまま供給する。
【0009】
【作用】上記手段によれば、ダイナミック型RAM等の
待機時における通常の消費電力を削減できるとともに、
入力信号が中間レベルとされることで入力バッファの初
段回路に流される貫通電流ならびにその電流値の変化を
外部電源装置により保証し、貫通電流による内部電源電
圧の変動を抑制することができる。その結果、第1の降
圧回路の動作電流をさらに削減し、降圧回路を備えるダ
イナミック型RAM等の特に待機時における低消費電力
化を推進することができる。
【0010】
【実施例】図1には、この発明が適用されたダイナミッ
ク型RAM(DRAM)の一実施例のブロック図が示さ
れている。同図により、まずこの実施例のダイナミック
型RAMの概要とその特徴について説明する。なお、図
1の各ブロックを構成する回路素子は、特に制限されな
いが、公知の半導体集積回路製造技術により、単結晶シ
リコンのような1個の半導体基板上に形成される。
【0011】図1において、ダイナミック型RAMは、
半導体基板面の大半を占めて配置されるメモリアレイM
ARYをその基本構成とする。メモリアレイMARY
は、同図の垂直方向に平行して配置される複数のワード
線と、水平方向に平行して配置される複数組の相補ビッ
ト線とを含む。これらのワード線及び相補ビット線の交
点には、情報蓄積キャパシタ及びアドレス選択MOSF
ETからなるダイナミック型メモリセルが格子状に配置
される。
【0012】メモリアレイMARYを構成するワード線
は、XアドレスデコーダXDに結合され、択一的に選択
状態とされる。XアドレスデコーダXDには、Xアドレ
スバッファXBからi+1ビットの内部アドレス信号X
0〜Xiが供給され、タイミング発生回路TGから図示
されない内部制御信号XDGが供給される。また、Xア
ドレスバッファXBには、アドレス入力端子A0〜Ai
を介してi+1ビットのXアドレス信号AX0〜AXi
が時分割的に供給され、タイミング発生回路TGから内
部制御信号XLが供給される。XアドレスバッファXB
には、さらに外部端子VCCを介して外部電源電圧VC
Cが供給され、その初段回路の動作電源とされる。Xア
ドレスバッファXBの後段回路は、後述するように、内
部電源電圧VCL1及びVCL3を動作電源とする。こ
の実施例において、外部電源電圧VCCは、特に制限さ
れないが、+5Vのような比較的絶対値の大きな正の電
源電圧とされ、内部電源電圧VCL1ないしVCL3
は、+3.3Vのような比較的絶対値の小さな正の電源
電圧とされる。また、外部端子VCCには、大きな電流
供給能力を有する外部電源装置が結合される。
【0013】XアドレスデコーダXDは、内部制御信号
XDGのハイレベルを受けて選択的に動作状態とされ、
内部アドレス信号X0〜Xiをデコードして、メモリア
レイMARYの対応するワード線を択一的にハイレベル
の選択状態とする。また、XアドレスバッファXBは、
アドレス入力端子A0〜Aiを介して供給されるXアド
レス信号AX0〜AXiを内部制御信号XLに従って取
り込み、保持するとともに、これらのXアドレス信号を
もとに内部アドレス信号X0〜Xiを形成し、Xアドレ
スデコーダXDに供給する。
【0014】次に、メモリアレイMARYを構成する相
補ビット線は、センスアンプSAの対応する単位回路に
結合される。センスアンプSAの単位回路のそれぞれ
は、メモリアレイMARYの各相補ビット線に対応して
設けられる単位増幅回路及びスイッチMOSFET対を
含む。このうち、センスアンプSAの各単位回路を構成
する単位増幅回路は、タイミング発生回路TGから供給
される図示されない内部制御信号に従って選択的にかつ
一斉に動作状態とされ、メモリアレイMARYの選択さ
れたワード線に結合される複数のメモリセルから対応す
る相補ビット線を介して出力される微小読み出し信号を
増幅して、ハイレベル又はロウレベルの2値読み出し信
号とする。一方、センスアンプSAの各単位回路を構成
するスイッチMOSFET対は、YアドレスデコーダY
Dから供給されるビット線選択信号の対応するビットが
ハイレベルとされることで選択的にオン状態とされ、メ
モリアレイMARYの対応する相補ビット線と相補共通
データ線CD*(ここで、例えば非反転共通データ線C
Dと反転共通データ線CDBとをあわせて相補共通デー
タ線CD*のように表す。また、それが有効とされると
き選択的にロウレベルとされるいわゆる反転信号又は反
転信号線等については、その名称の末尾にBを付して表
す。以下同様)とを選択的に接続状態とする。
【0015】YアドレスデコーダYDには、Yアドレス
バッファYBからi+1ビットの内部アドレス信号Y0
〜Yiが供給され、タイミング発生回路TGから図示さ
れない内部制御信号YDGが供給される。また、Yアド
レスバッファYBには、アドレス入力端子A0〜Aiを
介してYアドレス信号AY0〜AYiが時分割的に供給
され、タイミング発生回路TGから内部制御信号YLが
供給される。YアドレスバッファYBには、さらにその
初段回路の動作電源として上記外部電源電圧VCCが供
給され、その後段回路の動作電源として上記内部電源電
圧VCL1及びVCL3が供給される。
【0016】YアドレスデコーダYDは、内部制御信号
YDGのハイレベルを受けて選択的に動作状態とされ、
内部アドレス信号Y0〜Yiをデコードして、上記セン
スアンプSAの各スイッチMOSFET対に供給される
ビット線選択信号を択一的にハイレベルとする。また、
YアドレスバッファYBは、アドレス入力端子A0〜A
iを介して供給されるYアドレス信号AY0〜AYiを
内部制御信号YLに従って取り込み、保持するととも
に、これらのYアドレス信号をもとに内部アドレス信号
Y0〜Yiを形成し、YアドレスデコーダYDに供給す
る。
【0017】メモリアレイMARYの指定された相補ビ
ット線が択一的に接続される相補共通データ線CD*
は、データ入出力回路IOに結合される。データ入出力
回路IOは、ライトアンプ及びメインアンプならびにデ
ータ入力バッファ及びデータ出力バッファを含む。この
うち、ライトアンプの入力端子はデータ入力バッファの
出力端子に結合され、その出力端子は相補共通データ線
CD*に結合される。また、メインアンプの入力端子は
相補共通データ線CD*に結合され、その出力端子はデ
ータ出力バッファの入力端子に結合される。データ入力
バッファの入力端子はデータ入力端子Dinに結合さ
れ、データ出力バッファの出力端子はデータ出力端子D
outに結合される。なお、データ入出力回路IOに
は、データ入力バッファの初段回路の動作電源として外
部電源電圧VCCが供給され、その他の回路の動作電源
として内部電源電圧VCL1及びVCL3が供給され
る。
【0018】データ入出力回路IOのデータ入力バッフ
ァは、ダイナミック型RAMが書き込みモードで選択状
態とされるとき、データ入力端子Dinを介して供給さ
れる書き込みデータを取り込み、ライトアンプに伝達す
る。これらの書き込みデータは、ライトアンプにより所
定の相補書き込み信号とされた後、相補共通データ線C
D*を介してメモリアレイMARYの選択されたメモリ
セルに書き込まれる。一方、データ入出力回路IOのメ
インアンプは、ダイナミック型RAMが読み出しモード
で選択状態とされるとき、メモリアレイMARYの選択
されたメモリセルから相補共通データ線CD*を介して
出力される読み出し信号をさらに増幅して、データ出力
バッファに伝達する。これらの読み出し信号は、データ
出力バッファからデータ出力端子Doutを介して外部
に送出される。
【0019】タイミング発生回路TGは、外部から起動
制御信号として供給されるロウアドレスストローブ信号
RASB及びカラムアドレスストローブ信号CASBな
らびにライトイネーブル信号WEBをもとに、各種の内
部制御信号を形成し、ダイナミック型RAMの各回路に
供給する。なお、タイミング発生回路TGは、各起動制
御信号に対応して設けられる3個の入力バッファを備え
る。これらの入力バッファの初段回路は、外部電源電圧
VCCを動作電源とし、その後段回路は、内部電源電圧
VCL1及びVCL3を動作電源とする。
【0020】この実施例のダイナミック型RAMは、さ
らに、外部端子VCCを介して供給される外部電源電圧
VCCをもとに内部電源電圧VCL1ならびにVCL2
及びVCL3をそれぞれ形成する3個の降圧回路VD1
(第1の内部電源電圧発生回路)ならびにVD2及びV
D3(第2の内部電源電圧発生回路)を備える。このう
ち、降圧回路VD1は、比較的小さな電流供給能力を有
し、ダイナミック型RAMの選択状態に関係なく定常的
に動作状態とされる。降圧回路VD1により形成される
内部電源電圧VCL1は、待機時における動作電源とし
て、ダイナミック型RAMの各回路に供給される。
【0021】一方、降圧回路VD2及びVD3は、比較
的大きな電流供給能力を有し、ダイナミック型RAMが
選択状態とされるとき内部制御信号CEのハイレベルを
受けて選択的に動作状態とされる。降圧回路VD2によ
り形成される内部電源電圧VCL2は、選択時における
動作電源としてメモリアレイMARYに供給され、降圧
回路VD3により形成される内部電源電圧VCL3は、
同様に選択時における動作電源として周辺回路に供給さ
れる。
【0022】以上のように、この実施例のダイナミック
型RAMには、比較的小さな電流供給能力を有しかつ定
常的に動作状態とされる降圧回路VD1と、比較的大き
な電流供給能力を有し内部制御信号CEに従って選択的
に動作状態とされる降圧回路VD2及びVD3とが設け
られ、これによってダイナミック型RAMの待機時にお
ける通常の消費電力が削減されるものとなる。
【0023】図2には、図1のダイナミック型RAMに
含まれるタイミング発生回路TGの一実施例の部分的な
回路図が示されている。同図をもとに、この実施例のダ
イナミック型RAMの各入力バッファの構成及び動作な
らびにその特徴について説明する。なお、図2におい
て、そのチャンネル(バックゲート)部に矢印が付され
るMOSFETはPチャンネル型であって、矢印の付さ
れないNチャンネルMOSFETと区別して示される。
また、入力バッファに関する以下の説明は、タイミング
発生回路TGのロウアドレスストローブ信号RASBに
対応して設けられる一部の入力バッファを例に進められ
るが、タイミング発生回路TGは、前述のように、カラ
ムアドレスストローブ信号CASB及びライトイネーブ
ル信号WEBに対応して設けられる同様な他の2個の入
力バッファを備える。データ入出力回路IOならびにX
アドレスバッファXB及びYアドレスバッファYBも、
同様な複数の入力バッファを備え、同様な作用効果が得
られる。
【0024】図2において、タイミング発生回路TG
は、特に制限されないが、PチャンネルMOSFETQ
1及びNチャンネルMOSFETQ11からなり入力バ
ッファの初段回路となるインバータN1を含む。インバ
ータN1には、その動作電源として、外部電源電圧VC
Cが供給される。また、インバータN1の入力端子すな
わちMOSFETQ1及びQ11の共通結合されたゲー
トは、外部端子RASBに結合され、ダイナミック型R
AMの図示されない前段回路から起動制御信号となるロ
ウアドレスストローブ信号RASBが供給される。
【0025】タイミング発生回路TGは、さらに、Pチ
ャンネルMOSFETQ2及びQ3ならびにNチャンネ
ルMOSFETQ12及びQ13からなりその一方の入
力端子すなわちMOSFETQ2及びQ12のゲートに
上記インバータN1の出力信号を受けるナンドゲートN
A1を含む。ナンドゲートNA1の他方の入力端子すな
わちMOSFETQ3及びQ13のゲートには、タイミ
ング発生回路TGの図示されない前段回路から所定の内
部制御信号C1が供給され、その出力信号は、Pチャン
ネルMOSFETQ4及びNチャンネルMOSFETQ
14からなるインバータN2により反転された後、内部
信号R1としてタイミング発生回路TGの図示されない
次段回路に供給される。ナンドゲートNA1及びインバ
ータN2を含むタイミング発生回路TGの後段回路に
は、その動作電源として内部電源電圧VCL1及びVC
L3が供給される。
【0026】ロウアドレスストローブ信号RASBがハ
イレベルとされるとき、タイミング発生回路TGでは、
インバータN1の出力信号が回路の接地電位のようなロ
ウレベルとされる。したがって、ナンドゲートNA1の
出力信号は、内部制御信号C1の論理レベルに関係な
く、内部電源電圧VCL1及びVCL3のようなハイレ
ベルとされ、これによってインバータN2の出力信号す
なわち内部信号R1が回路の接地電位のようなロウレベ
ルとされる。
【0027】次に、ロウアドレスストローブ信号RAS
Bがロウレベルとされると、タイミング発生回路TGで
は、インバータN1の出力信号が外部電源電圧VCCの
ようなハイレベルとされる。したがって、ナンドゲート
NA1の出力信号は、内部制御信号C1がハイレベルで
あることを条件に選択的に回路の接地電位のようなロウ
レベルとされ、これによってインバータN2の出力信号
すなわち内部信号R1が内部電源電圧VCL1及びVC
L2のようなハイレベルとされる。
【0028】ところで、ロウアドレスストローブ信号R
ASBに代表されるダイナミック型RAMの入力信号
は、ともにいわゆるTTLレベルとされ、そのハイレベ
ルの最小値ならびにロウレベルの最大値は、それぞれ
2.4Vならびに0.8Vのような中間レベルをとるこ
とが許される。ロウアドレスストローブ信号RASBが
このような中間レベルとされるとき、タイミング発生回
路TGでは、インバータN1を構成するMOSFETQ
1及びQ11を介して比較的大きな貫通電流が流され、
またロウアドレスストローブ信号RASBのレベルが上
記中間レベル近傍において振動した場合には、初段回路
における貫通電流の電流値がその利得に応じて比較的大
きく変化する。しかし、この実施例のダイナミック型R
AMでは、前述のように、タイミング発生回路TGの入
力バッファの初段回路すなわちインバータN1が外部電
源電圧VCCをその動作電源とする。このため、入力バ
ッファの貫通電流ならびにその電流値の変化は、外部端
子VCCに結合される外部電源装置によって保証され、
降圧回路VD1〜VD3は、貫通電流による内部電源電
圧のレベル変動を保証する必要がない。このことは、特
に降圧回路VD1の動作電流を例えば10μA程度に著
しく小さなものとし、ダイナミック型RAMの特に待機
時における消費電力を削減しうる効果を生む。
【0029】図3には、図1のダイナミック型RAMの
電源系統図が示されている。同図をもとに、この実施例
のダイナミック型RAMの電源系統を整理し、その特徴
について整理する。
【0030】図3において、この実施例のダイナミック
型RAMは、前述のように、比較的小さな電流供給能力
を有しかつ定常的に動作状態とされる降圧回路VD1
と、比較的大きな電流供給能力を有しかつ内部制御信号
CEに従って選択的に動作状態とされる降圧回路VD2
及びVD3とを備える。これらの降圧回路は、外部端子
VCCを介して供給される外部電源電圧VCCを降圧す
ることで、安定した所定の内部電源電圧VCL1ならび
にVCL2及びVCL3をそれぞれ形成する。このう
ち、降圧回路VD1により形成される内部電源電圧VC
L1は、データ入出力回路IO及びタイミング発生回路
TGならびにYアドレスバッファYB及びXアドレスバ
ッファXBの後段回路を含むダイナミック型RAMの各
部に待機時における動作電源として供給される。また、
降圧回路VD2により形成される内部電源電圧VCL2
は、メモリアレイMARYに選択時における動作電源と
して供給され、降圧回路VD3により形成される内部電
源電圧VCL3は、メモリアレイMARYを除く周辺回
路に選択時における動作電源として供給される。これら
の結果、この実施例のダイナミック型RAMでは、待機
時における通常の消費電力が削減され、その低消費電力
化が図られる。
【0031】一方、この実施例のダイナミック型RAM
では、データ入出力回路IO及びタイミング発生回路T
GならびにYアドレスバッファYB及びXアドレスバッ
ファXBの初段回路の動作電源として、外部電源電圧V
CCがそのまま供給される。このため、対応する入力信
号が中間レベルとされることで各入力バッファの初段回
路に流される貫通電流ならびに入力信号のレベルが中間
レベル近傍において振動することで生じる入力バッファ
の貫通電流の変化は、外部端子VCCに結合される外部
電源装置によって保証され、降圧回路VD1〜VD3は
貫通電流による内部電源電圧VCL1〜VCL3の電位
変動を保証する必要がない。これらの結果、この実施例
のダイナミック型RAMでは、特に待機時の動作電流を
供給する降圧回路VD1の動作電流が著しく削減され、
これによってダイナミック型RAMの特に待機時におけ
る低消費電力化が推進される。
【0032】以上の本実施例に示されるように、この発
明を降圧回路及び入力バッファを備えるダイナミック型
RAM等の半導体装置に適用することで、次のような作
用効果が得られる。すなわち、 (1)外部電源電圧をもとに所定の内部電源電圧を形成
する降圧回路を、比較的小さな電流供給能力を有しかつ
定常的に動作状態とされる第1の降圧回路と、比較的大
きな電流供給能力を有しかつダイナミック型RAM等が
選択状態とされるとき選択的に動作状態とされる第2の
降圧回路とにより構成するとともに、各入力バッファの
初段回路の動作電源として上記外部電源電圧をそのまま
供給することで、ダイナミック型RAM等の待機時にお
ける通常の消費電力を削減できるとともに、入力信号が
中間レベルとされることにより入力バッファの初段回路
に流される貫通電流ならびにその電流値の変化を外部電
源装置により保証し、貫通電流による内部電源電圧の変
動を抑制できるという効果が得られる。 (2)上記(1)項により、特に待機時の動作電流を供
給する第1の降圧回路の動作電流を著しく削減できると
いう効果が得られる。 (3)上記(1)項及び(2)項により、降圧回路及び
入力バッファを備えるダイナミック型RAM等の特に待
機時における低消費電力化を推進することができるとい
う効果が得られる。
【0033】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、ダイナミック型RAMに設けられる
第2の降圧回路は、3個以上の降圧回路に分割できる
し、これらの降圧回路とダイナミック型RAMの各部と
の組み合わせは、任意に設定することができる。各入力
バッファの初段回路が所定の内部制御信号に従ってゲー
ト制御される複数入力の論理ゲートである場合、内部電
源電圧VCL1〜VCL3をもとに形成される内部制御
信号の論理レベルを外部電源電圧VCCに適応しうるレ
ベルまで変換した後、各論理ゲートに供給すればよい。
ダイナミック型RAMに設けられる内部電源電圧発生回
路は、降圧回路であることを必須条件としない。ダイナ
ミック型RAMは、同時に複数ビットの記憶データを入
出力するいわゆる多ビット構成とされるものであってよ
いし、メモリアレイMARYが複数のサブメモリアレイ
に分割されるいわゆるアレイ分割方式を採るものであっ
てもよい。また、ダイナミック型RAMは、アドレスマ
ルチプレクス方式を採ることを必須条件としないし、そ
のブロック構成や起動制御信号及びアドレス信号の名称
ならびに組み合わせ等は、種々の実施例を採りうる。
【0034】図2において、ロウアドレスストローブ信
号RASB等の中間レベルが入力バッファの後段回路に
まで影響する場合、対応する論理段までの動作電源を外
部電源電圧VCCとすればよい。タイミング発生回路T
Gの入力バッファの具体的回路構成は、この実施例によ
る制約を受けないし、各電源電圧の極性及び絶対値なら
びにMOSFETの導電型等も、種々の実施形態を採り
うる。
【0035】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるダイ
ナミック型RAMに適用した場合について説明したが、
それに限定されるものではなく、同様な降圧回路及び入
力バッファを備えるスタティック型RAM等の各種半導
体記憶装置やゲートアレイ集積回路等の論理集積回路装
置等にも適用できる。この発明は、少なくとも内部電源
電圧発生回路と入力バッファとを備える半導体装置に広
く適用できる。
【0036】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、外部電源電圧をもとに所定
の内部電源電圧を形成する降圧回路を、比較的小さな電
流供給能力を有しかつ定常的に動作状態とされる第1の
降圧回路と、比較的大きな電流供給能力を有しかつダイ
ナミック型RAM等が選択状態とされるとき選択的に動
作状態とされる第2の降圧回路とにより構成するととも
に、各入力バッファの初段回路の動作電源として上記外
部電源電圧をそのまま供給することで、ダイナミック型
RAM等の待機時における通常の消費電力を削減できる
とともに、入力信号が中間レベルとされることにより入
力バッファの初段回路に流される貫通電流ならびにその
電流値の変化を外部電源装置によって保証し、貫通電流
による内部電源電圧の変動を抑制することができる。そ
の結果、待機時の動作電流を供給する第1の降圧回路の
動作電流をさらに削減し、降圧回路を備えるダイナミッ
ク型RAM等の特に待機時における低消費電力化を推進
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用されたダイナミック型RAMの
一実施例を示すブロック図である。
【図2】図1のダイナミック型RAMに含まれるタイミ
ング発生回路の一実施例を示す部分的な回路図である。
【図3】図1のダイナミック型RAMの電源系統図であ
る。
【図4】この発明に先立って本願発明者等が開発したダ
イナミック型RAMの一例を示す電源系統図である。
【符号の説明】
MARY・・・メモリアレイ、SA・・・センスアン
プ、XD・・・Xアドレスデコーダ、YD・・・Yアド
レスデコーダ、XB・・・Xアドレスバッファ、YB・
・・Yアドレスバッファ、IO・・・データ入出力回
路、TG・・・タイミング発生回路、VD1〜VD3・
・・降圧回路。 N1〜N2・・・インバータ、NA1・・・ナンドゲー
ト。 Q1〜Q4・・・PチャンネルMOSFET、Q11〜
Q14・・・NチャンネルMOSFET。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の外部端子を介して供給される外部
    電源電圧をもとに内部電源電圧を形成する内部電源電圧
    発生回路と、他の所定の外部端子を介して供給される入
    力信号を受けかつ少なくともその初段回路が上記外部電
    源電圧を動作電源とする入力バッファとを具備すること
    を特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 上記半導体装置は、メモリアレイ及び周
    辺回路を具備するダイナミック型RAMであって、上記
    内部電源電圧発生回路は、降圧回路であることを特徴と
    する請求項1の半導体装置。
  3. 【請求項3】 上記降圧回路は、比較的小さな電流供給
    能力を有しかつ定常的に動作状態とされる第1の降圧回
    路と、比較的大きな電流供給能力を有しかつ選択的に動
    作状態とされる第2の降圧回路とを含むものであること
    を特徴とする請求項1又は請求項2の半導体装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5966045A (en) * 1995-04-21 1999-10-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device having a first stage input unit to which a potential is supplied from external and internal power supplies

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5966045A (en) * 1995-04-21 1999-10-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device having a first stage input unit to which a potential is supplied from external and internal power supplies

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