JPH05188007A - 画像パターンの検査方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 欠陥の誤判定を抑制して画像パターンを検査
する。 【構成】 マスターデータＭＳに拡大処理を施して拡大
マスターデータＥＭＳを生成し、縮小処理を施して縮小
マスターデータＳＭＳを生成する。更に、評価区画ＣＲ
を所定の画素分拡張した拡張区画の中で、相対的位置関
係が異なる複数の補正区画ＨＲi を生成する。拡大マス
ターデータＥＭＳの補正区画ＨＲｉに対応する部分ＥＭ
Ｄｉと、オブジェクトデータＯＳの評価区画ＣＲに対応
する部分ＯＤとの差分パターンＥＤＩＳｉと、縮小マス
ターデータＳＭＳの補正区画ＨＲｉに対応する部分ＳＭ
Ｄｉと前記部分ＯＤとの差分パターンＳＤＩＳｉとを生
成し、これら２種類の差分パターンの論理和を画素オペ
レータＯＰで検査する。 【効果】 検査対象物のセッティング誤差による誤判定
を抑制しつつ、欠陥の見落としを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は画像パターンの欠陥検
出、特にプリント基板やＩＣマスク等のパターン欠陥を
検出する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】プリント基板における配線パターンの欠
陥検査等に代表される画像パターンの検査方法として比
較検査法がある。これは基準となるマスター画像パター
ンについての２値情報を有するマスターデータを参照
し、検査対象であるオブジェクト画像パターンについて
の２値情報を有するオブジェクトデータを検査する手法
であリ、マスターデータとオブジェクトデータとの比較
を所定サイズの評価区画ごとに行う。

【０００３】図３７でこの検査方法の概略を説明する。
プリント基板等の配線パターンから得られたオブジェク
トデータには、所定サイズ例えば２０×２０画素を有す
る区画である評価区画ＣＲにおいて評価オブジェクトデ
ータＯＤが存在する。なお、以後、１画素の大きさを図
中で梨地模様で示してある。また、図中の評価区画ＣＲ
の２辺に示した目盛は１画素の１辺に対応する。これに
対応してマスターデータには、評価区画ＣＲにおいて評
価マスターデータＭＤが存在する。図３７では理解を容
易にするため、評価区画ＣＲを、マスターデータに対応
させる場合とオブジェクトデータに対応させる場合とで
は別々に示してある。また、図３７において、ハッチン
グ部分は２値情報“１”を示し、他は２値情報“０”を
示す。

【０００４】マスターデータとしてはＣＡＤデータ等が
用いられるが、検査対象物のセッティング誤差がある場
合には評価マスターデータＭＤと評価オブジェクトデー
タＯＤとの位置の整合がとれず、評価オブジェクトデー
タＯＤに欠陥がなくても両者の間にパターンの不一致が
生じてしまう。そこで評価区画ＣＲを中心として拡げら
れた拡張区画ＳＲを考え、更に拡張区画ＳＲの一部であ
って、評価区画ＣＲと同形状で位置ずれさせた複数の補
正区画を考え、マスターデータのうち評価区画ＣＲおよ
びそれぞれの補正区画内に存在するものを補正評価マス
ターデータＭＤｉ（ｉ＝１，２，…）とする。ここでは
評価区画のまわりに２画素ずつ拡げた拡張区画ＳＲを図
示している。また補正評価マスターデータＭＤｉはＸ方
向及びＹ方向にそれぞれ１画素ずつ位置ずれさせた場合
を示す。そして、評価区画ＣＲおよび複数の補正区画の
それぞれに補正評価マスターデータＭＤｉを設定し、補
正評価マスターデータＭＤｉの各々と評価オブジェクト
データＯＤとの不一致の有無を検査する。

【０００５】セッティング誤差が評価区画ＣＲから拡張
区画ＳＲを得たときの拡大量（ここでは２画素）内に納
まっていると仮定すると、全ての補正評価マスターデー
タＭＤｉと評価オブジェクトデータＯＤとが不一致を呈
する場合、評価オブジェクトデータＯＤには欠陥が存在
すると判断される。逆に、いずれか１つでも評価オブジ
ェクトデータＯＤとの不一致を呈さない補正評価マスタ
ーデータＭＤｐ（ｐはｉに属する）が存在すれば、評価
オブジェクトデータＯＤに欠陥が存在しないと判断され
る。これは補正評価マスターデータＭＤｐと評価マスタ
ーデータＭＤとの位置ずれに対応する検査対象物のセッ
ティング誤差が生じていたと判断されるからである。

【０００６】このような比較検査の方法は、例えば本出
願人による特開昭６２−１４０００９号公報にて開示さ
れている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の方法で
は、欠陥を見逃してしまう場合があるという問題点があ
った。

【０００８】例えば拡張区画ＳＲにおいて、図３８に示
すようなパターンを示す評価マスターデータＭＤが存在
する場合、図３９に示すような欠陥ＤＤを有する評価オ
ブジェクトデータＯＤを考える。欠陥があるか否か、即
ち補正評価マスターデータＭＤｉと評価オブジェクトデ
ータＯＤとの不一致を判定するには、例えば３×３画素
のオペレータを用いる。両者間に３×３画素以上の不一
致があれば、評価オブジェクトデータＯＤには欠陥が存
在する可能性があると判断され、全ての補正評価マスタ
ーデータＭＤｉについてこの可能性が存在した場合にの
み、評価オブジェクトデータＯＤには欠陥が存在すると
判断する。このとき、評価マスターデータＭＤと評価オ
ブジェクトデータＯＤとを比較すると、具体的には両者
の排他的論理和を演算すると、差分パターンＤＩＳが図
４０に示すように得られ、３×３画素のオペレータは、
図中の３×３画素の不一致Ｄを検出する。

【０００９】しかし、図３８に示す補正評価マスターデ
ータＭＤｊ（ｊはｉに属する）と図３９の評価オブジェ
クトデータＯＤとの差分パターンＤＩＳｊは図４１に示
すようになり、３×３画素の形状を有する部分が存在し
ないので、画素オペレータは補正評価マスターデータＭ
Ｄｊと評価オブジェクトデータＯＤとの間には不一致が
ないと判断する。

【００１０】従って、拡張区画ＳＲ内のマスターデータ
が有する、複数の補正評価マスターデータＭＤｉのう
ち、補正評価マスターデータＭＤｊと評価オブジェクト
データＯＤとの間で不一致は検出されず、評価オブジェ
クトデータＯＤに欠陥ＤＤは存在しないと判断されてし
まう。図３９に示す欠けの欠陥ＤＤの代わりに、図４２
に示すような突起状の欠陥ＤＰを有する評価オブジェク
トデータＯＤについても同様である。即ち、評価オブジ
ェクトデータＯＤの欠陥を判定する画素オペレータのサ
イズが比較的大きな場合には、欠陥を見逃してしまうと
いう問題点があった。

【００１１】この発明は上記問題点を解消するためにな
されたもので、検査対象物のセッティング誤差によって
生じる、「欠陥を検出した」との誤判定を抑制し、なお
かつ欠陥を見逃すことのない画像パターンの検出方法及
びその装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この発明にかかる請求項
１に記載の画像パターンの検査方法では、（ａ）検査基
準となるマスター画像パターンについての２値情報を有
するマスターデータを得ると共に、（ｂ）検査対象物の
オブジェクト画像パターンについての２値情報を有する
オブジェクトデータを得る。ここで（ｃ）マスターデー
タを第１の画素数だけ拡大処理して、拡大マスターデー
タを得る。そして（ｄ）評価区画を中心として、その区
画から所定画素数だけ周辺を拡げた拡張区画を得て、
（ｅ）拡張区画の中で評価区画を位置ずれさせて複数の
補正区画を設定する。ここで（ｆ）前記拡大マスターデ
ータから、評価区画および複数の補正区画に対応する部
分をそれぞれ抽出して、複数の補正評価マスターデータ
とする。（ｇ）評価区画におけるオブジェクトデータを
得て評価オブジェクトデータとする。そして（ｈ）複数
の補正評価マスターデータのそれぞれと評価オブジェク
トデータとの排他的論理和をとって、複数の差分パター
ンを求める。次に（ｉ）前記差分パターンのそれぞれ
に、第１の画素数と所定の関係を有する第２の画素数の
画素を含む画素オペレータを作用させて、前記差分パタ
ーンに前記第２の画素数以上の差分がある場合に補正評
価マスターデータと評価オブジェクトデータとが不一致
とする欠陥候補データを、前記差分パターンごとに得
る。そして（ｊ）複数の差分パターンごとの欠陥候補デ
ータの全てが不一致を示す場合には評価オブジェクトデ
ータに欠陥があると判断し、複数の差分パターンごとの
欠陥候補データの少なくとも一つが不一致を示さない場
合には評価オブジェクトデータに欠陥がないと判断す
る。そして評価区画を順次シフトさせて、オブジェクト
データの全体について（ａ）乃至（ｊ）を行う。

【００１３】この発明にかかる請求項２に記載の画像パ
ターンの検査方法は、請求項１に記載の画像パターンの
検査方法において、前記工程（ｃ）を、（ｃ−１）前記
マスターデータを第１の画素数だけ縮小処理して、縮小
マスターデータを得る工程、に置き換え、かつ 前記工
程（ｆ）を、（ｆ−１）前記縮小マスターデータから、
前記評価区画および前記複数の補正区画に対応する部分
をそれぞれ抽出して、複数の補正評価マスターデータと
する工程、に置き換えたものである。

【００１４】この発明にかかる請求項３に記載の画像パ
ターンの検査方法は、オブジェクト画像パターンをマス
ター画像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較し
て欠陥検出を行う画像パターンの検査方法であって、
（ａ）検査基準となるマスター画像パターンについての
２値情報を有するマスターデータを得る工程と、（ｂ）
検査対象物のオブジェクト画像パターンについての２値
情報を有するオブジェクトデータを得る工程と、（ｃ）
前記マスターデータを第１の画素数だけ拡大処理して、
拡大マスターデータを得る工程と、（ｃ−１）前記マス
ターデータを前記第１の画素数だけ縮小処理して、縮小
マスターデータを得る工程と、（ｄ）前記評価区画を中
心として、その区画から所定画素数だけ周辺を拡げた拡
張区画を得る工程と、（ｅ）前記拡張区画の中で前記評
価区画を位置ずれさせて複数の補正区画を設定する工程
と、（ｆ）前記拡大マスターデータから、前記評価区画
および前記複数の補正区画に対応する部分をそれぞれ抽
出して、複数の第１の補正評価マスターデータとする工
程と、（ｆ−１）前記縮小マスターデータから、前記評
価区画および前記複数の補正区画に対応する部分をそれ
ぞれ抽出して、複数の第２の補正評価マスターデータと
する工程と、（ｇ）前記評価区画における前記オブジェ
クトデータを得て評価オブジェクトデータとする工程
と、（ｈ）前記複数の第１の補正評価マスターデータの
それぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理
和をとって、複数の第１の差分パターンを求める工程
と、（ｈ−１）前記複数の第２の補正評価マスターデー
タのそれぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的
論理和をとって、複数の第２の差分パターンを求める工
程と、（ｉ）前記第１の差分パターンのそれぞれに、前
記第１の画素数と所定の関係を有する第２の画素数の画
素を含む画素オペレータを作用させて、前記第１の差分
パターンに前記第２の画素数以上の差分がある場合に前
記第１の補正評価マスターデータと前記評価オブジェク
トデータとが不一致とする第１の欠陥候補データを、前
記第１の差分パターンごとに得る工程と、（ｉ−１）前
記第２の差分パターンのそれぞれに、前記画素オペレー
タを作用させて、前記第２の差分パターンに前記第２の
画素数以上の差分がある場合に前記第２の補正評価マス
ターデータと前記評価オブジェクトデータとが不一致と
する第２の欠陥候補データを、前記第２の差分パターン
ごとに得る工程と、（ｊ）前記複数の第１の差分パター
ンごとの第１の欠陥候補データの全てが前記不一致を示
す場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥があると
判断し、前記複数の第１の差分パターンごとの第１の欠
陥候補データの少なくとも一つが前記不一致を示さない
場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥がないと判
断する工程と、（ｊ−１）前記複数の第２の差分パター
ンごとの第２の欠陥候補データの全てが前記不一致を示
す場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥があると
判断し、前記複数の第２の差分パターンごとの第２の欠
陥候補データの少なくとも一つが前記不一致を示さない
場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥がないと判
断する工程と、（ｋ）前記工程（ｊ）と前記工程（ｊ−
１）の少なくとも１において前記評価オブジェクトデー
タに欠陥があると判断した場合には前記評価オブジェク
トデータに欠陥があると判断し、前記工程（ｊ）と前記
工程（ｊ−１）のいずれにおいても前記評価オブジェク
トデータに欠陥がないと判断した場合には前記評価オブ
ジェクトデータに欠陥がないと判断する工程と、を備え
るものである。

【００１５】この発明にかかる請求項４に記載の画像パ
ターンの検査方法は、オブジェクト画像パターンをマス
ター画像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較し
て欠陥検出を行う画像パターンの検査方法であって、
（ａ）検査基準となるマスター画像パターンについての
２値情報を有するマスターデータを得る工程と、（ｂ）
検査対象物のオブジェクト画像パターンについての２値
情報を有するオブジェクトデータを得る工程と、（ｃ）
前記マスターデータを第１の画素数だけ拡大処理して、
拡大マスターデータを得る工程と、（ｃ−１）前記マス
ターデータを前記第１の画素数だけ縮小処理して、縮小
マスターデータを得る工程と、（ｄ）前記評価区画を中
心として、その区画から所定画素数だけ周辺を拡げた拡
張区画を得る工程と、（ｅ）前記拡張区画の中で前記評
価区画を位置ずれさせて複数の補正区画を設定する工程
と、（ｆ）前記拡大マスターデータから、前記評価区画
および前記複数の補正区画に対応する部分をそれぞれ抽
出して、複数の第１の補正評価マスターデータとする工
程と、（ｆ−１）前記縮小マスターデータから、前記評
価区画および前記複数の補正区画に対応する部分をそれ
ぞれ抽出して、複数の第２の補正評価マスターデータと
する工程と、（ｇ）前記評価区画における前記オブジェ
クトデータを得て評価オブジェクトデータとする工程
と、（ｈ）前記複数の第１の補正評価マスターデータの
それぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理
和をとって、複数の第１の差分パターンを求める工程
と、（ｈ−１）前記複数の第２の補正評価マスターデー
タのそれぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的
論理和をとって、複数の第２の差分パターンを求める工
程と、（ｉ）互いに同一の前記補正区画又は前記評価区
画に対応する前記第１の差分パターンと前記第２の差分
パターンの間で論理和をとって複数の加算パターンを求
める工程と、（ｊ）前記複数の加算パターンのそれぞれ
に、前記第１の画素数と所定の関係を有する第２の画素
数の画素を含む画素オペレータを作用させて、前記加算
パターンに前記第２の画素数以上の領域がある場合に欠
陥候補を示す欠陥候補データを前記加算パターンごとに
得る工程と、（ｋ）前記複数の加算パターンごとの欠陥
候補データの全てが前記欠陥候補を示す場合には前記評
価オブジェクトデータに欠陥があると判断し、前記複数
の加算パターンごとの欠陥候補データの少なくとも一つ
が前記欠陥候補を示さない場合には前記評価オブジェク
トデータに欠陥がないと判断する工程と、を備えるもの
である。

【００１６】この発明にかかる請求項５に記載の画像パ
ターンの検査装置は、オブジェクト画像パターンをマス
ター画像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較し
て欠陥検出を行う画像パターンの検査装置であって、請
求項１に記載の方法の実施に適した構成を有しており、
（ａ）検査対象物のオブジェクト画像パターンについて
の２値情報を有するオブジェクトデータと、基準となる
マスター画像パターンについての２値情報を有するマス
ターデータとを求める入力手段、（ｂ）マスターデータ
を第１の画素数だけ拡大処理して、拡大マスターデータ
を得る拡大手段、（ｃ）マスターデータまたは拡大マス
ターデータを記憶する記憶手段、（ｄ）評価区画におけ
るオブジェクトデータを得て評価オブジェクトデータと
する第１の演算手段、（ｅ）評価区画を中心としてその
区画から所定画素数だけ周辺を拡げた拡張区画を得て、
拡張区画の中で評価区画を位置ずれさせて複数の補正区
画を設定し、前記拡大マスターデータから評価区画およ
び補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出して複数の補
正評価マスターデータを求める第２の演算手段、（ｆ）
複数の補正評価マスターデータのそれぞれと評価オブジ
ェクトデータとの排他的論理和をとって複数の差分パタ
ーンを求める比較手段、（ｇ）差分パターンのそれぞれ
に、第１の画素数と所定の関係を有する第２の画素数の
画素を備えた画素オペレータを作用させて、差分パター
ンに第２の画素数以上の差分がある場合に補正評価マス
ターデータと評価オブジェクトデータとが不一致とする
欠陥候補データを得る予備判定手段、（ｈ）欠陥候補デ
ータの全てが不一致を示す場合には評価オブジェクトデ
ータに欠陥があると判断し、欠陥候補データの少なくと
も一つが不一致を示さない場合には評価オブジェクトデ
ータに欠陥がないと判断する欠陥判定手段、を備えるも
のである。

【００１７】この発明にかかる請求項６に記載の画像パ
ターンの検査装置は、請求項２に記載の方法の実施に適
した構成を有しており、請求項５に記載の画像パターン
の検査装置において、前記手段（ｂ）を、（ｂ−１）前
記マスターデータを第１の画素数だけ縮小処理して、縮
小マスターデータを得る縮小手段に、前記手段（ｃ）
を、（ｃ−１）前記マスターデータまたは前記縮小マス
ターデータを記憶する記憶手段に、かつ前記手段（ｅ）
を、（ｅ−１）前記評価区画を中心としてその区画から
所定画素数だけ周辺を拡げた拡張区画を得て、前記拡張
区画の中で、前記評価区画を位置ずれさせて複数の補正
区画を設定し、前記縮小マスターデータから前記評価区
画および前記補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出し
て複数の補正評価マスターデータを求める第２の演算手
段に、置き換えるものである。

【００１８】この発明にかかる請求項７に記載の画像パ
ターンの検査装置は、オブジェクト画像パターンをマス
ター画像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較し
て欠陥検出を行う画像パターンの検査装置であって、請
求項３に記載の方法の実施に適した構成を有しており、
（ａ）検査対象物のオブジェクト画像パターンについて
の２値情報を有するオブジェクトデータと、基準となる
マスター画像パターンについての２値情報を有するマス
ターデータとを求める入力手段と、（ｂ）前記マスター
データを第１の画素数だけ拡大処理して、拡大マスター
データを得る拡大手段と、（ｂ−１）前記マスターデー
タを前記第１の画素数だけ縮小処理して、縮小マスター
データを得る縮小手段と、（ｃ）前記マスターデータま
たは、前記拡大マスターデータと前記縮小マスターデー
タとを記憶する記憶手段と、（ｄ）前記評価区画におけ
る前記オブジェクトデータを得て評価オブジェクトデー
タとする第１の演算手段と、（ｅ）前記評価区画を中心
としてその区画から所定画素数だけ周辺を拡げた拡張区
画を得て、前記拡張区画の中で、前記評価区画を位置ず
れさせて複数の補正区画を設定し、前記拡大マスターデ
ータから前記評価区画および前記補正区画に対応する部
分をそれぞれ抽出して複数の第１の補正評価マスターデ
ータを求め、前記縮小マスターデータから前記評価区画
および前記補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出して
複数の第２の補正評価マスターデータを求める、第２の
演算手段と、（ｆ）前記複数の第１の補正評価マスター
データのそれぞれと前記評価オブジェクトデータとの排
他的論理和をとって複数の第１の差分パターンを求める
第１の比較手段と、（ｆ−１）前記複数の第２の補正評
価マスターデータのそれぞれと前記評価オブジェクトデ
ータとの排他的論理和をとって複数の第２の差分パター
ンを求める第２の比較手段と、（ｇ）前記第１の差分パ
ターンのそれぞれに、前記第１の画素数と所定の関係を
有する第２の画素数の画素を備えた画素オペレータを作
用させて、前記第１の差分パターンに前記第２の画素数
以上の差分がある場合に前記第１の補正評価マスターデ
ータと前記評価オブジェクトデータとが不一致とする第
１の欠陥候補データを得る第１の予備判定手段と、（ｇ
−１）前記第２の差分パターンのそれぞれに、前記画素
オペレータを作用させて、前記第２の差分パターンに前
記第２の画素数以上の差分がある場合に前記第２の補正
評価マスターデータと前記評価オブジェクトデータとが
不一致とする第２の欠陥候補データを得る第２の予備判
定手段と、（ｈ）前記第１の欠陥候補データの全てが前
記不一致を示す場合には前記評価オブジェクトデータに
欠陥があると判断し、前記第１の欠陥候補データの少な
くとも一つが前記不一致を示さない場合には前記評価オ
ブジェクトデータに欠陥がないと判断する第１の欠陥判
定手段と、（ｈ−１）前記第２の欠陥候補データの全て
が前記不一致を示す場合には前記評価オブジェクトデー
タに欠陥があると判断し、前記第２の欠陥候補データの
少なくとも一つが前記不一致を示さない場合には前記評
価オブジェクトデータに欠陥がないと判断する第２の欠
陥判定手段と、（ｉ）前記手段（ｈ）と前記手段（ｈ−
１）の少なくとも１が前記評価オブジェクトデータに欠
陥があると判断した場合には前記評価オブジェクトデー
タに欠陥があると判断し、前記手段（ｈ）と前記手段
（ｈ−１）のいずれもが前記評価オブジェクトデータに
欠陥がないと判断した場合には前記評価オブジェクトデ
ータに欠陥がないと判断する判定手段と、を備えるもの
である。

【００１９】この発明にかかる請求項８に記載の画像パ
ターンの検査装置は、オブジェクト画像パターンをマス
ター画像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較し
て欠陥検出を行う画像パターンの検査装置であって、請
求項４に記載の方法の実施に適した構成を有しており、
（ａ）検査対象物のオブジェクト画像パターンについて
の２値情報を有するオブジェクトデータと、基準となる
マスター画像パターンについての２値情報を有するマス
ターデータとを求める入力手段と、（ｂ）前記マスター
データを第１の画素数だけ拡大処理して、拡大マスター
データを得る拡大手段と、（ｂ−１）前記マスターデー
タを前記第１の画素数だけ縮小処理して、縮小マスター
データを得る縮小手段と、（ｃ）前記マスターデータま
たは、前記拡大マスターデータと前記縮小マスターデー
タとを記憶する記憶手段と、（ｄ）前記評価区画におけ
る前記オブジェクトデータを得て評価オブジェクトデー
タとする第１の演算手段と、（ｅ）前記評価区画を中心
としてその区画から所定画素数だけ周辺を拡げた拡張区
画を得て、前記拡張区画の中で、前記評価区画を位置ず
れさせて複数の補正区画を設定し、前記拡大マスターデ
ータから前記評価区画および前記補正区画に対応する部
分をそれぞれ抽出して複数の第１の補正評価マスターデ
ータを求め、前記縮小マスターデータから前記評価区画
および前記補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出して
複数の第２の補正評価マスターデータを求める、第２の
演算手段と、（ｆ）前記複数の第１の補正評価マスター
データのそれぞれと前記評価オブジェクトデータとの排
他的論理和をとって複数の第１の差分パターンを求める
第１の比較手段と、（ｆ−１）前記複数の第２の補正評
価マスターデータのそれぞれと前記評価オブジェクトデ
ータとの排他的論理和をとって複数の第２の差分パター
ンを求める第２の比較手段と、（ｇ）互いに同一の前記
補正区画又は前記評価区画に対応する前記第１の差分パ
ターンと前記第２の差分パターンの間で論理和をとって
複数の加算パターンを求める加算手段と、（ｈ）前記加
算パターンのそれぞれに、前記第１の画素数と所定の関
係を有する第２の画素数の画素を備えた画素オペレータ
を作用させて、前記加算パターンに前記第２の画素数以
上の領域がある場合に欠陥候補であるとする欠陥候補デ
ータを得る予備判定手段と、（ｉ）前記複数の加算パタ
ーンごとの欠陥候補データの全てが前記欠陥候補を示す
場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥があると判
断し、前記複数の加算パターンごとの欠陥候補データの
少なくとも一つが前記欠陥候補を示さない場合には前記
評価オブジェクトデータに欠陥がないと判断する欠陥判
定手段と、を備えるものである。

【００２０】

【作用】この発明では、欠陥検出の為に用いられる画素
オペレータの大きさに応じてマスターデータを拡大し、
この拡大マスターデータに基づいて拡張区画内での補正
評価マスターデータを得る。この発明での補正評価マス
ターデータは元のマスターデータに比べて拡大されてい
るので、補正区画と評価区画との位置ずれに起因する欠
けの欠陥の見落としを防止できる（請求項１、５）。

【００２１】この発明では、欠陥検出の為に用いられる
画素オペレータの大きさに応じてマスターデータを縮小
し、この縮小マスターデータに基づいて拡張区画内での
補正評価マスターデータを得る。この発明での補正評価
マスターデータは元のマスターデータに比べて縮小され
ているので、補正区画と評価区画との位置ずれに起因す
る突起状の欠陥の見落としを防止できる（請求項２、
６）。

【００２２】この発明では、欠陥検出の為に用いられる
画素オペレータの大きさに応じてマスターデータを拡大
し、この拡大マスターデータに基づいて拡張区画内での
第１の補正評価マスターデータを得るとともに、同様に
マスターデータを縮小し、この縮小マスターデータに基
づいて拡張区画内での第２の補正評価マスターデータを
得る。それぞれの補正評価マスターデータと評価オブジ
ェクトデータＯＤとの差分パターンに画素オペレータを
作用させて検査を行い、少なくとも一方において欠陥が
認められたときに欠陥ありと判定する。このため、補正
区画と評価区画との位置ずれに起因する欠けの欠陥の見
落とし、突起状の欠陥の見落としのいずれをも防止でき
る（請求項３、７）。

【００２３】この発明では、欠陥検出の為に用いられる
画素オペレータの大きさに応じてマスターデータを拡大
し、この拡大マスターデータに基づいて拡張区画内での
第１の補正評価マスターデータを得るとともに、同様に
マスターデータを縮小し、この縮小マスターデータに基
づいて拡張区画内での第２の補正評価マスターデータを
得る。それぞれの補正評価マスターデータと評価オブジ
ェクトデータＯＤとの差分パターン同士の論理和のパタ
ーンを一旦作成し、これに画素オペレータを作用させて
検査を行う。このため、補正区画と評価区画との位置ず
れに起因する欠けの欠陥の見落とし、突起状の欠陥の見
落としのいずれをも防止できる（請求項４、８）。

【００２４】

【実施例】

［実施例１．］図２にこの発明の画像パターンの検査方
法の概略フローチャートの一例を示す。また、図３にこ
の発明の画像パターンの検査装置の概略ブロック図の一
例を示す。

【００２５】まず、ステップＳ１によってマスターデー
タＭＳを得る。マスターデータＭＳは検査対象物、例え
ばプリント基板７を作成する際のマスター画像パターン
であるＣＡＤデータが補正されて用いられる。ＣＡＤデ
ータの補正については、特開昭６０−６０５０４号，特
開昭６０−１１３１０２号公報に開示されている。この
場合、マスターデータＭＳは既にメモリ５内に格納され
ている。

【００２６】マスターデータＭＳにはＣＡＤデータのみ
ならず、予め良品であるとわかっているプリント基板７
のマスター画像パターンから求められる原マスターデー
タＲＭＳを、そのまま、あるいは平滑化処理等してマス
ターデータＭＳとすることもできる。平滑化処理につい
ては後述する。又、マスター画像パターンから原マスタ
ーデータＲＭＳを求める工程は以下に述べるオブジェク
トデータＯＳを求める工程と同様である。

【００２７】次に、ステップＳ２によってオブジェクト
データＯＳを得る。ステージ８上に載置された検査対象
物であるプリント基板７の表面に形成された配線パター
ン（オブジェクト画像パターン）は、読取部１によって
光学的に画素ごとに読みとられる。読取部１は照明装置
例えばＬＥＤと受光装置例えばＣＣＤとによって容易に
構成され、例えば本出願人による特願平２−１４２８８
９号において、これに該当する技術が開示されている。

【００２８】読取部１は配線パターンをアナログ電気信
号としてＡ／Ｄ変換部２へ出力する。

【００２９】Ａ／Ｄ変換部２は読取部１からのアナログ
信号をデジタル信号に変換して２値化処理部３へ出力す
る。２値化処理部３は所定のしきい値を用いてデジタル
信号を２値化し、オブジェクトデータＯＳを生成する。

【００３０】オブジェクトデータＯＳは後の工程で処理
を受けるために、セレクタＳＬおよび位相調整部９を経
て比較検査部６へと送られる。但し、プリント基板７が
良品であると予めわかっている場合には、上述の工程に
より原マスターデータＲＭＳが求まるので、これをマス
ターデータＭＳとして拡大処理部４へ送る。

【００３１】拡大処理部４ではマスターデータＭＳの拡
大処理が行われる（ステップＳ３）。拡大処理を行う理
由、及びその拡大量についてはステップＳ６において詳
述する。この拡大処理によって拡大マスターデータＥＭ
Ｓが求められ、これはメモリー５に一旦格納され、後に
オブジェクトデータＯＳと比較する際に比較検査部６へ
と送られる。

【００３２】ここで、上記拡大処理部４の設置位置が異
なる他の実施例を図３の例と対比しつつ説明する。図４
はこの発明の画像パターンの検査装置の概略ブロック図
の別の例である。図３の例では、マスターデータＭＳと
して予めメモリ５に記憶されていたＣＡＤデータを用い
る際には、メモリ５内部においてソフトウェアによって
拡大マスターデータＥＭＳが得られ、マスターデータＭ
Ｓとして原マスターデータＲＭＳを用いる場合には，拡
大処理部４におけるハードウェアによって拡大マスター
データＥＭＳが得られ、拡大マスターデータＥＭＳがメ
モリ５に記憶される。これに対し、図４の例では、マス
ターデータＭＳとして原マスターデータＲＭＳを用いた
場合にも、ＣＡＤデータを用いた場合と同様にして一旦
メモリ５内に記憶し、その後拡大処理部４によって拡大
マスターデータＥＭＳを得ることになる。いずれの場合
もオブジェクトデータＯＳ，拡大マスターデータＥＭＳ
が比較検査部６に送られ、その後の処理を受けることに
なる。

【００３３】ステップＳ４により、評価区画ＣＲを得
る。評価区画ＣＲは、後にステップＳ６で画素オペレー
タ（演算子）を作用させて欠陥候補を得る領域である。
そして、評価区画ＣＲを中心として所定量だけ拡大され
た拡張区画ＳＲを得る。そして拡張区画ＳＲの中にて、
評価区画ＣＲを位置ずれさせて補正区画ＨＲｉを複数個
設定する。図５に２０×２０画素の評価区画ＣＲ、２４
×２４画素の拡張区画ＳＲ、拡張区画ＳＲにおける拡大
マスターデータＥＭＳ、及び補正区画ＨＲ12を示した。
但し補正区画ＨＲｉの指標ｉは補正区画ＨＲｉと評価区
画ＣＲとのずれに対応し、評価区画ＣＲから正のＸ方向
にｐ画素、正のＹ方向にｑ画素ずれた場合には、

【００３４】

【数１】

【００３５】となる。以下、配線パターンが存在する若
しくは存在すべき領域は値“１”をとるものとし、ハッ
チングを用いて示す。拡大マスターデータＥＭＳはマス
ターデータＭＳに対して、Ｘ，Ｙいずれの方向も１画素
ずつ拡大している。この場合、補正区画ＨＲ13即ち評価
区画ＣＲと、補正区画ＨＲ12とにおける拡大マスターデ
ータＥＭＳは、それぞれ図６、図７に示したような補正
評価マスターデータＭＤ13，ＭＤ12となる（ステップＳ
５）。

【００３６】図８は比較検査部６の内部構造を示すブロ
ック図である。上で述べた評価区画ＣＲは評価区画設定
部６１において予め設定された所定サイズごとに求めら
れる。ここでは、評価区画ＣＲに対応するオブジェクト
データＯＳから評価オブジェクトデータＯＤを求める。
補正区画ＨＲｉは補正区画設定部６２において評価区画
ＣＲをＸ，Ｙ方向に位置ずれさせて設定される。この補
正区画ＨＲｉに対応する拡大マスターデータＥＭＳから
補正評価マスターデータＭＤｉを求める。前記２つの区
画設定部６１（第１の演算手段），６２（第２の演算手
段）にはシフトレジスタが備えられており、これらの種
々のデータの２次元的な展開を行っている。これに該当
する具体的で詳細な技術は本出願人による特開昭６２−
１４０００９号公報にて開示されている。

【００３７】さて、評価区画ＣＲにおけるオブジェクト
データＯＳである評価オブジェクトデータＯＤが図３９
に示すパターンを呈する場合、即ち欠陥ＤＤを有し、検
査対象のプリント基板７のセッティングに誤差が生じて
いない場合には、評価オブジェクトデータＯＤと補正評
価マスターデータＭＤ13（図６）、並びに評価オブジェ
クトデータＯＤと補正評価マスターデータＭＤ12（図
７）の排他的論理和である差分パターンＤＩＳ13，ＤＩ
Ｓ12はそれぞれ図９、図１０に示すようなパターンを示
す。この工程は、図８において複数のＥＸ−ＯＲゲート
を含む比較部６３によって排他的論理和が演算され、差
分パターンＤＩＳｉが得られていることに対応してい
る。

【００３８】次に、オペレータ判定部６４（予備判定手
段）によって補正評価マスターデータＭＤｉと評価オブ
ジェクトデータＯＤとの不一致部分つまり差分パターン
ＤＩＳｉを画素オペレータＯＰにて検査する（ステップ
Ｓ６）。ここで、画素オペレータＯＰは３×３画素の形
状を有し、３×３画素以上の不一致部が存在すればこれ
を検出し、欠陥の存在する可能性があるとして欠陥候補
信号ＤＰｉを出力する。

【００３９】まず、差分パターンＤＩＳ13（図９）につ
いては、不一致部Ｄ１において３×３画素の形状が含ま
れているので、画素オペレータＯＰがこれを検出して欠
陥候補信号ＤＰ13を“１”とする。これは便宜的には、
図１１に示すように３×３画素のオペレータＯＰが差分
パターンＤＩＳ13上を走査し、画素オペレータＯＰの有
する全画素が値“１”をとることがあるか否かを調べる
というように考えることができる。

【００４０】従来の技術では欠陥を見逃すような差分パ
ターン（図４１）を生じるが、本発明においては図４１
のような差分パターンは発生せず、図１０の差分パター
ンＤＩＳ12となる。これに画素オペレータＯＰを作用さ
せると、不一致部Ｄ３は３×３画素の形状を含んでいる
ので、欠陥候補信号ＤＰ12も“１”となる。結局、全て
の補正評価マスターデータＭＤｉ（ｉ＝１〜２５）に対
して欠陥候補信号ＤＰｉは全て（ｉ＝１〜２５）“１”
となる。このため、図８に示したＡＮＤ回路６５（欠陥
判定手段）によって評価オブジェクトデータＯＤには３
×３画素以上の欠陥があると判定される。

【００４１】この後ステップＳ７により、評価区画ＣＲ
を順次移動して検査を繰りかえし、オブジェクトデータ
ＯＳの全体を検査する。

【００４２】次に、マスターデータＭＳを拡大すること
によりこの発明の効果が得られる理由、及び必要な拡大
量について説明する。

【００４３】従来の技術においても、補正区画における
評価マスターデータＭＤと評価オブジェクトデータＯＤ
との差分パターンを走査する画素オペレータＯＰが充分
小さければ、不一致を検出することができる。換言すれ
ば、評価マスターデータＭＤと評価オブジェクトデータ
ＯＤとの比較を補正区画において行うことにより、本来
欠陥である部分の画素の連結を見かけ上小さく、即ち目
減りさせてしまうのである。

【００４４】そこで、この目減り分を補償するために、
マスターデータＭＳを拡大させることで本来の欠陥の画
素の連結の大きさを確保するのである。この目減り分の
補償は画素オペレータＯＰによって検出できるような程
度で充分である。

【００４５】まず簡単のため、画素オペレータＯＰは奇
数の画素分の幅を有する正方形であるとする。つまり、
画素オペレータＯＰは（２ｎ＋１）×（２ｎ＋１）画素
を有しているとする（ｎは自然数）。また、欠陥の大き
さもオペレータＯＰの大きさと同じとする。画素オペレ
ータＯＰよりも大きな欠陥は以下に述べる拡大で明らか
に検出できるからである。

【００４６】今、評価区画と補正区画の位置ずれによっ
て生じた目減りの量がＸ方向にａ画素分であるとする
と、本来欠陥であった部分は、画素を単位として

【００４７】

【数２】

【００４８】の幅まで狭くなる。この一方で、新たに評
価マスターデータと評価オブジェクトデータの不一致は
Ｘ方向にａ画素の幅で生じる。よってａ，ｂいずれかに
加えて、その値が（２ｎ＋１）以上になるような拡大量
ｅを求めればよい。ただし、ｅは２ｎ以下である。

【００４９】

【数３】

【００５０】のときには

【００５１】

【数４】

【００５２】を満足するような拡大量ｅは値ｎで充分で
あり、

【００５３】

【数５】

【００５４】のときには

【００５５】

【数６】

【００５６】を満足するような拡大量ｅはやはり値ｎで
充分である。目減りと、新たに生じる不一致とは、元の
評価オブジェクトデータに対して反対側に生じるので、
結局正のＸ方向及び負のＸ方向のそれぞれに画素数ｎの
拡大を行えばよい。

【００５７】同様のことがＹ方向に関しても言える。よ
って、画素オペレータＯＰの大きさが（２ｎ＋１）×
（２ｍ＋１）画素（Ｘ方向にｎ画素、Ｙ方向にｍ画素）
の場合には正のＸ方向及び負のＸ方向のそれぞれに画素
数ｎの拡大を行い、正のＹ方向及び負のＹ方向のそれぞ
れに画素数ｍの拡大を行えばよい。更に、画素オペレー
タＯＰが偶数の画素分の幅を有する場合、例えばＸ方向
の幅が２ｎ個の画素の長さであった場合は、正及び負の
Ｘ方向にそれぞれｎ，（ｎ−１）ずつ拡大し、あるいは
それぞれ（ｎ−１），ｎずつ拡大すればよい。

【００５８】次に平滑化処理について説明する。予め良
品であるとわかっているプリント基板を読み取った原マ
スターデータＲＭＳには、量子化誤差が生じている場合
があり、これをそのままマスターデータＭＳとすると、
欠陥のない評価オブジェクトデータＯＤに対しても欠陥
を有すると判断してしまう場合がある。このような事態
を避けるため、原マスターデータＲＭＳに平滑化処理を
行なう。具体的には画像の拡大、縮小処理を施す。所定
量の拡大後、同量の縮少を行なうことによって凹部形状
の欠陥は消失し、所定量の縮少後、同量の拡大を行なう
ことによって凸部形状の欠陥は消失する。

【００５９】このような処理を行なう平滑化処理部１０
は図３，図４のそれぞれに対応して図１２，図１３のよ
うに設けられる。即ち２値化処理部３と、メモリ５及び
拡大処理部４のうち比較検査部６から遠い方のブロック
との間に介在し、原マスターデータＲＭＳからマスター
データＭＳを生成する。

【００６０】［実施例２．］図１４はこの発明の第２の
実施例による画像パターンの検査方法の概略手順を示す
フローチャートである。図１５は同じくこの発明の一実
施例であり、図１４のフローチャートに示す方法を実施
するに適した画像パターンの検査装置の概略ブロック図
である。図１５に示す装置例は、図３に示す装置におい
て拡大処理部４を縮小処理部１１で置き換えた構成とな
っており、その動作は置き換えに対応した差異を除いて
図４に示す装置例と同様である。

【００６１】ステップＳ１０１、Ｓ１０２では、各々前
述のステップＳ１、Ｓ２と同様の処理を行う。

【００６２】ステップＳ１０３ではマスターデータＭＳ
に縮小処理を施して縮小マスターデータＳＭＳを得る。
縮小処理部１１はこの縮小処理を実行し、得られる縮小
マスターデータＳＭＳをメモリ５へ送出する。メモリ５
は縮小マスターデータＳＭＳを一旦格納し、後にオブジ
ェクトデータＯＳと比較する際に比較検査部６へ送出す
る。

【００６３】図１６は図１５においてメモリ５と縮小処
理部１１とを互いに逆に配置した変形例である。比較検
査部６へ入力される縮小マスターデータＳＭＳ、オブジ
ェクトデータＯＳについては、この変形例は図１５の装
置例と変わりない。

【００６４】ステップＳ１０４ではステップＳ４と同様
の処理を行う。ステップＳ１０４以下の処理は、図８に
示す内部構造を有する比較検査部６によって実行され
る。図１７に２０×２０画素の評価区画ＣＲ、２４×２
４画素の拡張区画ＳＲ、拡張区画ＳＲにおける縮小マス
ターデータＳＭＳ、及び補正区画ＨＲ12、ＨＲ11を示し
た。縮小マスターデータＳＭＳはマスターデータＭＳに
対して、Ｘ，Ｙいずれの方向も１画素ずつ縮小してい
る。この場合、補正区画ＨＲ13即ち評価区画ＣＲ、と補
正区画ＨＲ12、ＨＲ11における縮小マスターデータＳＭ
Ｓは、それぞれ図１８ないし図２０に示すような補正評
価マスターデータＭＤ13，ＭＤ12，ＭＤ11となる（ステ
ップＳ１０５）。

【００６５】評価区画ＣＲにおけるオブジェクトデータ
ＯＳである評価オブジェクトデータＯＤが図４２に示す
パターンを呈する場合、即ち正常パターンに対して突起
した欠陥ＤＰを有し、検査対象のプリント基板７のセッ
ティングに誤差が生じていない場合には、補正評価マス
ターデータＭＤ13（図１８）、ＭＤ12（図１９）、及び
ＭＤ11（図２０）の各々と評価オブジェクトデータＯＤ
との排他的論理和である差分パターンＤＩＳ13，ＤＩＳ
12，ＤＩＳ11は、それぞれ図２１ないし図２３に示すよ
うなパターンを示す。

【００６６】ステップＳ１０６では、ステップＳ６と同
様に補正評価マスターデータＭＤｉと評価オブジェクト
データＯＤとの不一致部分つまり差分パターンＤＩＳｉ
を画素オペレータＯＰにて検査する。まず、差分パター
ンＤＩＳ13（図２１）については、不一致部Ｄ１１にお
いて３×３画素の形状が含まれているので、画素オペレ
ータＯＰがこれを検出して欠陥候補信号ＤＰ13を“１”
とする。従来の技術では欠陥を見逃すような差分パター
ン（図４１）を生じるが、本発明においては図４１のよ
うな差分パターンは発生せず、図２２の差分パターンＤ
ＩＳ12となる。これに画素オペレータＯＰを作用させる
と、不一致部Ｄ１２は３×３画素の形状を含んでいるの
で、欠陥候補信号ＤＰ12も“１”となる。更に差分パタ
ーンＤＩＳ11（図２３）では、不一致部Ｄ１３において
３×３画素の形状が含まれているので、画素オペレータ
ＯＰがこれを検出して欠陥候補信号ＤＰ11を“１”とす
る。

【００６７】結局、全ての補正評価マスターデータＭＤ
ｉ（ｉ＝１〜２５）に対して欠陥候補信号ＤＰｉ（ｉ＝
１〜２５）は全て“１”となる。このため、図８に示し
たＡＮＤ回路６５（欠陥判定手段）によって評価オブジ
ェクトデータＯＤには３×３画素以上の欠陥があると判
定される。

【００６８】この後ステップＳ１０７により、評価区画
ＣＲを順次移動して検査を繰りかえし、オブジェクトデ
ータＯＳの全体を検査する。

【００６９】以上の処理により、オブジェクトデータＯ
Ｓに存在する突起状の欠陥を見逃すことなく、かつ検査
対象物のセッティング誤差による誤判定をも抑制した検
査を実現することができる。

【００７０】マスターデータＭＳを縮小することにより
上述の効果が得られる理由、及び必要な縮小量は前述の
拡大の場合と同様である。したがって、画素オペレータ
ＯＰの大きさが（２ｎ＋１）×（２ｍ＋１）画素（Ｘ方
向にｎ画素、Ｙ方向にｍ画素）の場合には正のＸ方向及
び負のＸ方向のそれぞれに画素数ｎの縮小を行い、正の
Ｙ方向及び負のＹ方向のそれぞれに画素数ｍの縮小を行
えばよい。更に、画素オペレータＯＰが偶数の画素分の
幅を有する場合、例えばＸ方向の幅が２ｎ個の画素の長
さであった場合は、正及び負のＸ方向にそれぞれｎ，
（ｎ−１）ずつ縮小し、あるいはそれぞれ（ｎ−１），
ｎずつ縮小すればよい。

【００７１】［実施例３．］図２４は、この発明の第３
の実施例による画像パターンの検査方法の概略手順を示
すフローチャートである。図２５は同じくこの発明の一
実施例であり、このフローチャートに示す方法を実施す
るに適した画像パターンの検査装置の概略ブロック図で
ある。図２５の装置例において、メモリ５ａ、５ｂはメ
モリ５と、比較検査部６ａ、６ｂは比較検査部６とそれ
ぞれ同一構成物である。

【００７２】拡大処理部４ではマスターデータＭＳの拡
大処理が行われる（ステップＳ２０３）。この拡大処理
によって拡大マスターデータＥＭＳが求められ、これは
メモリー５ａに一旦格納され、後にオブジェクトデータ
ＯＳと比較する際に比較検査部６ａへと送られる。一
方、縮小処理部１１ではマスターデータＭＳの縮小処理
が行われる（ステップＳ２０４）。この縮小処理によっ
て縮小マスターデータＳＭＳが求められ、これはメモリ
ー５ｂに一旦格納され、後にオブジェクトデータＯＳと
比較する際に比較検査部６ｂへと送られる。

【００７３】比較検査部６ａでは、図３の装置例の比較
検査部６と同様に、まず評価区画ＣＲ、拡張区画ＳＲ、
及び補正区画ＨＲｉを設定し（ステップＳ２０５）、拡
大マスターデータＥＭＳから複数の補正評価マスターデ
ータＥＭＤｉを得て（ステップＳ２０６）、これらと評
価オブジェクトデータＯＤとの差分パターンを画素オペ
レータＯＰによって検査する（ステップＳ２０８）。同
様に、比較検査部６ｂでは、まず評価区画ＣＲ、拡張区
画ＳＲ、及び補正区画ＨＲｉを設定し（ステップＳ２０
５）、縮小マスターデータＳＭＳから複数の補正評価マ
スターデータＳＭＤｉを得て（ステップＳ２０７）、こ
れらと評価オブジェクトデータＯＤとの差分パターンを
画素オペレータＯＰによって検査する（ステップＳ２０
９）。

【００７４】判定部１２は、比較検査部６ａと比較検査
部６ｂの出力信号の論理和を演算して出力する。すなわ
ち、両比較検査部の少なくとも一方において欠陥有りと
判定された場合に、判定部１２は評価オブジェクトデー
タＯＤに欠陥有りと判定し、両比較検査部の双方におい
て欠陥なしと判定された場合には、評価オブジェクトデ
ータＯＤに欠陥なしと判定する（ステップＳ２１０〜Ｓ
２１２）。

【００７５】この後ステップＳ２１３により、評価区画
ＣＲを順次移動して検査を繰りかえし、オブジェクトデ
ータＯＳの全体を検査する。

【００７６】以上の処理により、オブジェクトデータＯ
Ｓに存在する欠けの欠陥、突起状の欠陥のいずれをも見
逃すことなく、かつ検査対象物のセッティング誤差によ
る誤判定をも抑制した検査を実現することができる。

【００７７】図２５に図示する装置例以外に、図２６〜
図３０に図示する変形例によっても上記と同様の処理を
実現し得る。これらの図では、Ａ／Ｄ変換部２以前の信
号処理に関わる部分は図２５と同様であり図示を省略す
る。

【００７８】図２６の装置例は、縮小処理部１１の代わ
りに反転回路１３ａと拡大処理部４ｂを備え、更に位相
調整部９と比較検査部６ｂの間にもう１つの反転回路１
３ｂを備える。反転回路１３ａによりマスターデータＭ
Ｓが有する”１”及び”０”の値が相互に反転する。拡
大処理部４ｂによる拡大処理により、反転前のマスター
データＭＳを縮小した後に反転を施したパターンと同一
のパターンが得られる。反転回路１３ｂはオブジェクト
データＯＳに同様の反転を施す。このため、比較検査部
６ｂでは縮小されたマスターデータＭＳとオブジェクト
データＯＳの比較と同様の比較が行われる。すなわち、
図２６の装置例における比較検査の結果は図２５の例と
同様である。図２７の装置例においても同様である。

【００７９】図２８〜図３０は、それぞれ図２６〜図２
７においてメモリ５ａ、５ｂの配置を替えた変形例であ
る。これらの装置例においても比較検査の結果は図２５
の例と同様である。

【００８０】なお、拡大処理部４、４ａ、及び４ｂにお
ける必要な拡大量、並びに縮小処理部１１、１１ａ、及
び１１ｂにおける必要な縮小量は、前述の実施例１、２
と同様である。

【００８１】［実施例４．］図１は、この発明の第４の
実施例による画像パターンの検査方法の概略手順を示す
フローチャートである。図３１は同じくこの発明の一実
施例であり、このフローチャートに示す方法を実施する
に適した画像パターンの検査装置の概略ブロック図であ
る。

【００８２】拡大処理部４ではマスターデータＭＳの拡
大処理が行われる（ステップＳ３０３）。この拡大処理
によって拡大マスターデータＥＭＳが求められ、これは
メモリー５ａに一旦格納され、後にオブジェクトデータ
ＯＳと比較する際に比較検査部１４へと送られる。一
方、縮小処理部１１ではマスターデータＭＳの縮小処理
が行われる（ステップＳ３０４）。この縮小処理によっ
て縮小マスターデータＳＭＳが求められ、これはメモリ
ー５ｂに一旦格納され、後にオブジェクトデータＯＳと
比較する際に比較検査部１４へと送られる。

【００８３】図３２は比較検査部１４の内部構造を図示
するブロック図である。同図において補正区画設定部６
２ａ、６２ｂは補正区画設定部６２と同一構成物であ
り、比較部６３ａ、６３ｂは比較部６３と同一構成物で
ある。評価区画設定部６１において、予め設定された所
定サイズごとに評価区画ＣＲが求められ、更に評価区画
ＣＲに対応するオブジェクトデータＯＳから評価オブジ
ェクトデータＯＤが求められる。補正区画設定部６２
ａ、６２ｂでは、評価区画ＣＲを中心として所定量だけ
拡大された拡張区画ＳＲが得られ、更に拡張区画ＳＲの
中で評価区画ＣＲを位置ずれさせることにより複数個の
補正区画ＨＲｉが設定される（以上ステップＳ３０
５）。更に、補正区画設定部６２ａでは補正区画ＨＲｉ
に対応する拡大マスターデータＥＭＳから補正評価マス
ターデータＥＭＤｉが得られ（ステップＳ３０６）、補
正区画設定部６２ｂでは同様に縮小マスターデータＳＭ
Ｓから補正評価マスターデータＳＭＤｉが得られる（ス
テップＳ３０７）。

【００８４】評価区画ＣＲ、拡張区画ＳＲにおける拡大
マスターデータＥＭＳと縮小マスターデータＳＭＳ、及
び補正区画ＨＲ12、ＨＲ11が図５及び図１７に示す通り
である例では、補正区画ＨＲ13、ＨＲ12に対応する補正
評価マスターデータＥＭＤ13、ＥＭＤ12は、それぞれ図
６、図７に示す補正評価マスターデータＭＤ13、ＭＤ12
と同一であり（ＭＤ13、ＭＤ12から自明であるのでＥＭ
Ｄ11は図示しない）、補正評価マスターデータＳＭＤ1
3、ＳＭＤ12、ＳＭＤ11は、それぞれ図１８ないし図２
０に示す補正評価マスターデータＭＤ13，ＭＤ12，ＭＤ
11と同一である。この例では前述同様に、画素オペレー
タＯＰは３×３画素の形状を有するものとしている。

【００８５】評価区画ＣＲにおけるオブジェクトデータ
ＯＳである評価オブジェクトデータＯＤが図３３に示す
パターンを呈する場合、即ち正常パターンに対して欠け
の欠陥ＤＤと突起した欠陥ＤＰの双方を有し、検査対象
のプリント基板７のセッティングに誤差が生じていない
場合には、補正評価マスターデータＥＭＤ13、ＥＭＤ1
2、及びＥＭＤ11の各々と評価オブジェクトデータＯＤ
との排他的論理和である差分パターンＥＤＩＳ13，ＥＤ
ＩＳ12，ＥＤＩＳ11は、それぞれ図３４ないし図３６に
おいて右上がりのハッチングで示すようなパターンを示
す。一方同じ例において、補正評価マスターデータＳＭ
Ｄ13、ＳＭＤ12、及びＳＭＤ11の各々と評価オブジェク
トデータＯＤとの排他的論理和である差分パターンＳＤ
ＩＳ13，ＳＤＩＳ12，ＳＤＩＳ11は、それぞれ図３４な
いし図３６において右下がりのハッチングで示すような
パターンを示す。これらの処理は、比較部６３ａ、及び
６３ｂによって実行される（ステップＳ３０８、Ｓ３０
９）。

【００８６】加算部６６（加算手段）は、２種類の差分
パターンＥＤＩＳｉ、及びＳＤＩＳｉの論理和を演算
し、加算パターンＳＵＭｉを出力する（ステップＳ３１
０）。加算パターンＳＵＭ13、〜ＳＵＭ11は、それぞれ
図３４ないし図３６において少なくとも１種類のハッチ
ングを施された領域に対応する。

【００８７】次に、オペレータ判定部６４によって、加
算パターンＳＵＭｉを画素オペレータＯＰにて検査す
る。ここで、画素オペレータＯＰに一致する部分ないし
画素オペレータＯＰを包含する部分が加算パターンＳＵ
Ｍｉに存在すればこれを検出し、欠陥の存在する可能性
があるとして欠陥候補信号ＤＰｉを出力する。

【００８８】まず、加算パターンＳＵＭ13（図３４）に
ついては、差分パターンＥＤＩＳ13の一部である不一致
部Ｄ２１、差分パターンＳＤＩＳ13の一部である不一致
部Ｄ２２の双方において３×３画素の形状が含まれてい
るので、画素オペレータＯＰがこれを検出して欠陥候補
信号ＤＰ13を“１”とする。次に、加算パターンＳＵＭ
12（図３５）に画素オペレータＯＰを作用させると、差
分パターンＥＤＩＳ12の一部である不一致部Ｄ２３、差
分パターンＳＤＩＳ12の一部である不一致部Ｄ２４の双
方が３×３画素の形状を含んでいるので、欠陥候補信号
ＤＰ12は“１”となる。更に加算パターンＳＵＭ11（図
３６）では、差分パターンＥＤＩＳ11の一部である不一
致部Ｄ２５、差分パターンＳＤＩＳ11の一部である不一
致部Ｄ２６の双方において３×３画素の形状が含まれて
いるので、画素オペレータＯＰがこれを検出して欠陥候
補信号ＤＰ11を“１”とする。

【００８９】結局、全ての補正評価マスターデータＭＤ
ｉ（ｉ＝１〜２５）に対して欠陥候補信号ＤＰｉは全て
（ｉ＝１〜２５）“１”となる。評価オブジェクトデー
タＯＤに、欠けの欠陥ＤＤ、突起状の欠陥ＤＰのいずれ
か一方のみが存在する場合も同様に欠陥候補信号ＤＰｉ
は全て”１”となる。このため、図３２に示したＡＮＤ
回路６５によって評価オブジェクトデータＯＤには３×
３画素以上の欠陥があると判定される（以上ステップＳ
３１１）。ＡＮＤ回路６５は、全てのｉについて欠陥候
補信号ＤＰｉが欠陥候補に対応する値”１”である場合
に限って、評価オブジェクトデータＯＤには画素オペレ
ータＯＰ以上の欠陥があると判定し、値”１”を出力す
る。

【００９０】この後ステップＳ３１２により、評価区画
ＣＲを順次移動して検査を繰りかえし、オブジェクトデ
ータＯＳの全体を検査する。

【００９１】以上の処理により、実施例３と同様にオブ
ジェクトデータＯＳに存在する欠けの欠陥、突起状の欠
陥のいずれをも見逃すことなく、かつ検査対象物のセッ
ティング誤差による誤判定をも抑制した検査を実現する
ことができる。この実施例による装置は、図３２に例示
するようにオペレータ判定部６４を拡大マスターデータ
ＥＭＳ、縮小マスターデータＳＭＳの双方に個別に対応
して設ける必要がないため、実施例３の装置に比べて簡
素に構成できる利点がある。

【００９２】なお、図３１の装置例において拡大処理部
４における必要な拡大量、並びに縮小処理部１１におけ
る必要な縮小量は、前述の実施例１、２、及び３と同様
である。

【００９３】図２５の装置例に対応して図２６〜図３０
の変形例が構成できるように、図３１の装置例にも同様
の変形例を構成することができ、同様の処理を実現し得
る（図示を省略する）。また、実施例２〜４の装置にお
いても、図１２、図１３に示す実施例１の装置例と同様
に、平滑化処理部１０を組み込むことができる（図示を
省略する）。

【００９４】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ばマスターデータとオブジェクトデータとの比較検査範
囲である評価区画を中心とした拡張区画を設け、拡張区
画の中で評価区画を位置ずれさせた補正区画におけるマ
スターデータを所定量拡大してオブジェクトデータと比
較するので、検査対象物のセッティング誤差によって生
じる欠陥を検出したとの誤判定を抑制しつつ、欠けの欠
陥を見逃すことのない画像パターンの検査方法およびそ
の装置を提供することができる（請求項１、５）。

【００９５】この発明によればマスターデータとオブジ
ェクトデータとの比較検査範囲である評価区画を中心と
した拡張区画を設け、拡張区画の中で評価区画を位置ず
れさせた補正区画におけるマスターデータを所定量縮小
してオブジェクトデータと比較するので、検査対象物の
セッティング誤差によって生じる欠陥を検出したとの誤
判定を抑制しつつ、突起状の欠陥を見逃すことのない画
像パターンの検査技術提供することができる（請求項
２、６）。

【００９６】この発明によれば、欠陥検出の為に用いら
れる画素オペレータの大きさに応じてマスターデータを
拡大し、この拡大マスターデータに基づいて拡張区画内
での第１の補正評価マスターデータを得るとともに、同
様にマスターデータを縮小し、この縮小マスターデータ
に基づいて拡張区画内での第２の補正評価マスターデー
タを得る。それぞれの補正評価マスターデータと評価オ
ブジェクトデータＯＤとの差分パターンに画素オペレー
タを作用させて検査を行い、少なくとも一方において欠
陥が認められたときに欠陥ありと判定する。このため、
検査対象物のセッティング誤差によって生じる欠陥を検
出したとの誤判定を抑制しつつ、補正区画と評価区画と
の位置ずれに起因する欠けの欠陥の見落とし、突起状の
欠陥の見落としのいずれをも防止できる効果がある（請
求項３、７）。

【００９７】この発明によれば、欠陥検出の為に用いら
れる画素オペレータの大きさに応じてマスターデータを
拡大し、この拡大マスターデータに基づいて拡張区画内
での第１の補正評価マスターデータを得るとともに、同
様にマスターデータを縮小し、この縮小マスターデータ
に基づいて拡張区画内での第２の補正評価マスターデー
タを得る。それぞれの補正評価マスターデータと評価オ
ブジェクトデータＯＤとの差分パターン同士の論理和の
パターンを一旦作成し、これに画素オペレータを作用さ
せて検査を行う。このため、検査対象物のセッティング
誤差によって生じる欠陥を検出したとの誤判定を抑制し
つつ、補正区画と評価区画との位置ずれに起因する欠け
の欠陥の見落とし、突起状の欠陥の見落としのいずれを
も防止できる効果がある。しかも、より簡素に装置を構
成することができる（請求項４、８）。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第４の実施例による画像パターンの
検査方法の概略手順を示すフローチャートである。

【図２】この発明の方法の一実施例を示す概略フローチ
ャートである。

【図３】この発明の装置の第１実施例を示す概略ブロッ
ク図である。

【図４】この発明の装置の第１実施例の変形例を示す概
略ブロック図である。

【図５】この発明の方法の一実施例を示す説明図であ
る。

【図６】この発明の方法の一実施例を示す説明図であ
る。

【図７】この発明の方法の一実施例を示す説明図であ
る。

【図８】比較検査部６の内部構造を示すブロック図であ
る。

【図９】この発明の方法の一実施例を示す説明図であ
る。

【図１０】この発明の方法の一実施例を示す説明図であ
る。

【図１１】この発明の方法の一実施例を示す説明図であ
る。

【図１２】この発明の装置の第１実施例の第２の変形例
を示す概略ブロック図である。

【図１３】この発明の装置の第１実施例の第３の変形例
を示す概略ブロック図である。

【図１４】この発明の第２の実施例による画像パターン
の検査方法の概略手順を示すフローチャートである。

【図１５】この発明の第２の実施例による画像パターン
の検査装置の概略ブロック図である。

【図１６】図１５に示す装置例の変形例の概略ブロック
図である。

【図１７】この発明の第２の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図１８】この発明の第２の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図１９】この発明の第２の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図２０】この発明の第２の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図２１】この発明の第２の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図２２】この発明の第２の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図２３】この発明の第２の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図２４】この発明の第３の実施例による画像パターン
の検査方法の概略手順を示すフローチャートである。

【図２５】この発明の第３の実施例による画像パターン
の検査装置の概略ブロック図である。

【図２６】図２５に示す装置例の第１の変形例の概略ブ
ロック図である。

【図２７】図２５に示す装置例の第２の変形例の概略ブ
ロック図である。

【図２８】図２５に示す装置例の第３の変形例の概略ブ
ロック図である。

【図２９】図２５に示す装置例の第４の変形例の概略ブ
ロック図である。

【図３０】図２５に示す装置例の第５の変形例の概略ブ
ロック図である。

【図３１】この発明の第４の実施例による画像パターン
の検査装置の概略ブロック図である。

【図３２】比較検査部１４の内部構造を示すブロック図
である。

【図３３】この発明の第４の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図３４】この発明の第４の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図３５】この発明の第４の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図３６】この発明の第４の実施例による検査方法を示
す説明図である。

【図３７】従来の技術を示す説明図である。

【図３８】従来の技術を示す説明図である。

【図３９】従来の技術を示す説明図である。

【図４０】従来の技術を示す説明図である。

【図４１】従来の技術を示す説明図である。

【図４２】従来の技術を示す説明図である。

【符号の説明】

ＯＳ オブジェクトデータ ＯＤ 評価オブジェクトデータ ＭＳ マスターデータ ＥＭＳ 拡大マスターデータ ＳＭＳ 縮小マスターデータ ＭＤｉ、ＥＭＤｉ、ＳＭＤｉ 補正評価マスターデータ ＣＲ 評価区画 ＳＲ 拡張区画 ＨＲ12，ＨＲ13，ＨＲｉ 補正区画 ＤＩＳ１，ＤＩＳ２，ＤＩＳ３，ＤＩＳ11，ＤＩＳ12，
ＤＩＳ13，ＤＩＳｉ差分パターン ＥＤＩＳ１，ＥＤＩＳ２，ＥＤＩＳ３，ＥＤＩＳ11，Ｅ
ＤＩＳ12，ＥＤＩＳ13，ＥＤＩＳｉ 差分パターン ＳＤＩＳ１，ＳＤＩＳ２，ＳＤＩＳ３，ＳＤＩＳ11，Ｓ
ＤＩＳ12，ＳＤＩＳ13，ＳＤＩＳｉ 差分パターン ＤＰ１，ＤＰ２，ＤＰ３，ＤＰｉ 欠陥候補信号（欠陥
候補データ） ＳＵＭ１，ＳＵＭ２，ＳＵＭ３，ＳＵＭ11，ＳＵＭ12，
ＳＵＭ13，ＳＵＭｉ加算パターン ４ 拡大処理部 ５、５ａ、５ｂ メモリ ６、６ａ、６ｂ 比較検査部 １１ 縮小処理部 １２ 判定部（判定手段） １４ 比較検査部 ６１ 評価区画設定部（第１の演算手段） ６２ 補正区画設定部（第２の演算手段） ６３ 比較部（比較手段） ６４ オペレータ判定部（予備判定手段） ６５ ＡＮＤ回路（欠陥判定手段） ６６ 加算部（加算手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０６Ｆ 15/70 ３３０ Ｎ 9071−5Ｌ

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 オブジェクト画像パターンをマスター画
   像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較して欠陥
   検出を行う画像パターンの検査方法であって 、 （ａ）検査基準となるマスター画像パターンについ
   ての２値情報を有するマスターデータを得る工程と、 （ｂ）検査対象物のオブジェクト画像パターンについて
   の２値情報を有するオブジェクトデータを得る工程と、 （ｃ）前記マスターデータを第１の画素数だけ拡大処理
   して、拡大マスターデータを得る工程と、 （ｄ）前記評価区画を中心として、その区画から所定画
   素数だけ周辺を拡げた拡張区画を得る工程と、 （ｅ）前記拡張区画の中で前記評価区画を位置ずれさせ
   て複数の補正区画を設定する工程と、 （ｆ）前記拡大マスターデータから、前記評価区画およ
   び前記複数の補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出し
   て、複数の補正評価マスターデータとする工程と、 （ｇ）前記評価区画における前記オブジェクトデータを
   得て評価オブジェクトデータとする工程と、 （ｈ）前記複数の補正評価マスターデータのそれぞれと
   前記評価オブジェクトデータとの排他的論理和をとっ
   て、複数の差分パターンを求める工程と、 （ｉ）前記差分パターンのそれぞれに、前記第１の画素
   数と所定の関係を有する第２の画素数の画素を含む画素
   オペレータを作用させて、前記差分パターンに前記第２
   の画素数以上の差分がある場合に前記補正評価マスター
   データと前記評価オブジェクトデータとが不一致とする
   欠陥候補データを、前記差分パターンごとに得る工程
   と、 （ｊ）前記複数の差分パターンごとの欠陥候補データの
   全てが前記不一致を示す場合には前記評価オブジェクト
   データに欠陥があると判断し、前記複数の差分パターン
   ごとの欠陥候補データの少なくとも一つが前記不一致を
   示さない場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥が
   ないと判断する工程と、 を備える、画像パターンの検査方法。
2. 【請求項２】 前記工程（ｃ）を、 （ｃ−１）前記マスターデータを第１の画素数だけ縮小
   処理して、縮小マスターデータを得る工程、 に置き換え、かつ前記工程（ｆ）を、 （ｆ−１）前記縮小マスターデータから、前記評価区画
   および前記複数の補正区画に対応する部分をそれぞれ抽
   出して、複数の補正評価マスターデータとする工程、 に置き換える請求項１に記載の画像パターンの検査方
   法。
3. 【請求項３】 オブジェクト画像パターンをマスター画
   像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較して欠陥
   検出を行う画像パターンの検査方法であって 、 （ａ）検査基準となるマスター画像パターンについ
   ての２値情報を有するマスターデータを得る工程と、 （ｂ）検査対象物のオブジェクト画像パターンについて
   の２値情報を有するオブジェクトデータを得る工程と、 （ｃ）前記マスターデータを第１の画素数だけ拡大処理
   して、拡大マスターデータを得る工程と、 （ｃ−１）前記マスターデータを前記第１の画素数だけ
   縮小処理して、縮小マスターデータを得る工程と、 （ｄ）前記評価区画を中心として、その区画から所定画
   素数だけ周辺を拡げた拡張区画を得る工程と、 （ｅ）前記拡張区画の中で前記評価区画を位置ずれさせ
   て複数の補正区画を設定する工程と、 （ｆ）前記拡大マスターデータから、前記評価区画およ
   び前記複数の補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出し
   て、複数の第１の補正評価マスターデータとする工程
   と、 （ｆ−１）前記縮小マスターデータから、前記評価区画
   および前記複数の補正区画に対応する部分をそれぞれ抽
   出して、複数の第２の補正評価マスターデータとする工
   程と、 （ｇ）前記評価区画における前記オブジェクトデータを
   得て評価オブジェクトデータとする工程と、 （ｈ）前記複数の第１の補正評価マスターデータのそれ
   ぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理和を
   とって、複数の第１の差分パターンを求める工程と、 （ｈ−１）前記複数の第２の補正評価マスターデータの
   それぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理
   和をとって、複数の第２の差分パターンを求める工程
   と、 （ｉ）前記第１の差分パターンのそれぞれに、前記第１
   の画素数と所定の関係を有する第２の画素数の画素を含
   む画素オペレータを作用させて、前記第１の差分パター
   ンに前記第２の画素数以上の差分がある場合に前記第１
   の補正評価マスターデータと前記評価オブジェクトデー
   タとが不一致とする第１の欠陥候補データを、前記第１
   の差分パターンごとに得る工程と、 （ｉ−１）前記第２の差分パターンのそれぞれに、前記
   画素オペレータを作用させて、前記第２の差分パターン
   に前記第２の画素数以上の差分がある場合に前記第２の
   補正評価マスターデータと前記評価オブジェクトデータ
   とが不一致とする第２の欠陥候補データを、前記第２の
   差分パターンごとに得る工程と、 （ｊ）前記複数の第１の差分パターンごとの第１の欠陥
   候補データの全てが前記不一致を示す場合には前記評価
   オブジェクトデータに欠陥があると判断し、前記複数の
   第１の差分パターンごとの第１の欠陥候補データの少な
   くとも一つが前記不一致を示さない場合には前記評価オ
   ブジェクトデータに欠陥がないと判断する工程と、 （ｊ−１）前記複数の第２の差分パターンごとの第２の
   欠陥候補データの全てが前記不一致を示す場合には前記
   評価オブジェクトデータに欠陥があると判断し、前記複
   数の第２の差分パターンごとの第２の欠陥候補データの
   少なくとも一つが前記不一致を示さない場合には前記評
   価オブジェクトデータに欠陥がないと判断する工程と、 （ｋ）前記工程（ｊ）と前記工程（ｊ−１）の少なくと
   も１において前記評価オブジェクトデータに欠陥がある
   と判断した場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥
   があると判断し、前記工程（ｊ）と前記工程（ｊ−１）
   のいずれにおいても前記評価オブジェクトデータに欠陥
   がないと判断した場合には前記評価オブジェクトデータ
   に欠陥がないと判断する工程と、 を備える、画像パターンの検査方法。
4. 【請求項４】 オブジェクト画像パターンをマスター画
   像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較して欠陥
   検出を行う画像パターンの検査方法であって、 （ａ）
   検査基準となるマスター画像パターンについての２値情
   報を有するマスターデータを得る工程と、 （ｂ）検査対象物のオブジェクト画像パターンについて
   の２値情報を有するオブジェクトデータを得る工程と、 （ｃ）前記マスターデータを第１の画素数だけ拡大処理
   して、拡大マスターデータを得る工程と、 （ｃ−１）前記マスターデータを前記第１の画素数だけ
   縮小処理して、縮小マスターデータを得る工程と、 （ｄ）前記評価区画を中心として、その区画から所定画
   素数だけ周辺を拡げた拡張区画を得る工程と、 （ｅ）前記拡張区画の中で前記評価区画を位置ずれさせ
   て複数の補正区画を設定する工程と、 （ｆ）前記拡大マスターデータから、前記評価区画およ
   び前記複数の補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出し
   て、複数の第１の補正評価マスターデータとする工程
   と、 （ｆ−１）前記縮小マスターデータから、前記評価区画
   および前記複数の補正区画に対応する部分をそれぞれ抽
   出して、複数の第２の補正評価マスターデータとする工
   程と、 （ｇ）前記評価区画における前記オブジェクトデータを
   得て評価オブジェクトデータとする工程と、 （ｈ）前記複数の第１の補正評価マスターデータのそれ
   ぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理和を
   とって、複数の第１の差分パターンを求める工程と、 （ｈ−１）前記複数の第２の補正評価マスターデータの
   それぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理
   和をとって、複数の第２の差分パターンを求める工程
   と、 （ｉ）互いに同一の前記補正区画又は前記評価区画に対
   応する前記第１の差分パターンと前記第２の差分パター
   ンの間で論理和をとって複数の加算パターンを求める工
   程と、 （ｊ）前記複数の加算パターンのそれぞれに、前記第１
   の画素数と所定の関係を有する第２の画素数の画素を含
   む画素オペレータを作用させて、前記加算パターンに前
   記第２の画素数以上の領域がある場合に欠陥候補を示す
   欠陥候補データを前記加算パターンごとに得る工程と、 （ｋ）前記複数の加算パターンごとの欠陥候補データの
   全てが前記欠陥候補を示す場合には前記評価オブジェク
   トデータに欠陥があると判断し、前記複数の加算パター
   ンごとの欠陥候補データの少なくとも一つが前記欠陥候
   補を示さない場合には前記評価オブジェクトデータに欠
   陥がないと判断する工程と、 を備える、画像パターンの検査方法。
5. 【請求項５】 オブジェクト画像パターンをマスター画
   像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較して欠陥
   検出を行う画像パターンの検査装置であって 、 （ａ）検査対象物のオブジェクト画像パターンにつ
   いての２値情報を有するオブジェクトデータと、基準と
   なるマスター画像パターンについての２値情報を有する
   マスターデータとを求める入力手段と、 （ｂ）前記マスターデータを第１の画素数だけ拡大処理
   して、拡大マスターデータを得る拡大手段と、 （ｃ）前記マスターデータまたは前記拡大マスターデー
   タを記憶する記憶手段と、 （ｄ）前記評価区画における前記オブジェクトデータを
   得て評価オブジェクトデータとする第１の演算手段と、 （ｅ）前記評価区画を中心としてその区画から所定画素
   数だけ周辺を拡げた拡張区画を得て、前記拡張区画の中
   で、前記評価区画を位置ずれさせて複数の補正区画を設
   定し、前記拡大マスターデータから前記評価区画および
   前記補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出して複数の
   補正評価マスターデータを求める第２の演算手段と、 （ｆ）前記複数の補正評価マスターデータのそれぞれと
   前記評価オブジェクトデータとの排他的論理和をとって
   複数の差分パターンを求める比較手段と、 （ｇ）前記差分パターンのそれぞれに、前記第１の画素
   数と所定の関係を有する第２の画素数の画素を備えた画
   素オペレータを作用させて、前記差分パターンに前記第
   ２の画素数以上の差分がある場合に前記補正評価マスタ
   ーデータと前記評価オブジェクトデータとが不一致とす
   る欠陥候補データを得る予備判定手段と、 （ｈ）前記欠陥候補データの全てが前記不一致を示す場
   合には前記評価オブジェクトデータに欠陥があると判断
   し、前記欠陥候補データの少なくとも一つが前記不一致
   を示さない場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥
   がないと判断する欠陥判定手段と、 を備える画像パターンの検査装置。
6. 【請求項６】 前記手段（ｂ）を、 （ｂ−１）前記マスターデータを第１の画素数だけ縮小
   処理して、縮小マスターデータを得る縮小手段に、 前記手段（ｃ）を、 （ｃ−１）前記マスターデータまたは前記縮小マスター
   データを記憶する記憶手段に、かつ前記手段（ｅ）を、 （ｅ−１）前記評価区画を中心としてその区画から所定
   画素数だけ周辺を拡げた拡張区画を得て、前記拡張区画
   の中で、前記評価区画を位置ずれさせて複数の補正区画
   を設定し、前記縮小マスターデータから前記評価区画お
   よび前記補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出して複
   数の補正評価マスターデータを求める第２の演算手段
   に、 置き換える、請求項５に記載の画像パターンの検査装
   置。
7. 【請求項７】 オブジェクト画像パターンをマスター画
   像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較して欠陥
   検出を行う画像パターンの検査装置であって 、 （ａ）検査対象物のオブジェクト画像パターンにつ
   いての２値情報を有するオブジェクトデータと、基準と
   なるマスター画像パターンについての２値情報を有する
   マスターデータとを求める入力手段と、 （ｂ）前記マスターデータを第１の画素数だけ拡大処理
   して、拡大マスターデータを得る拡大手段と、 （ｂ−１）前記マスターデータを前記第１の画素数だけ
   縮小処理して、縮小マスターデータを得る縮小手段と、 （ｃ）前記マスターデータまたは、前記拡大マスターデ
   ータと前記縮小マスターデータとを記憶する記憶手段
   と、 （ｄ）前記評価区画における前記オブジェクトデータを
   得て評価オブジェクトデータとする第１の演算手段と、 （ｅ）前記評価区画を中心としてその区画から所定画素
   数だけ周辺を拡げた拡張区画を得て、前記拡張区画の中
   で、前記評価区画を位置ずれさせて複数の補正区画を設
   定し、前記拡大マスターデータから前記評価区画および
   前記補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出して複数の
   第１の補正評価マスターデータを求め、前記縮小マスタ
   ーデータから前記評価区画および前記補正区画に対応す
   る部分をそれぞれ抽出して複数の第２の補正評価マスタ
   ーデータを求める、第２の演算手段と、 （ｆ）前記複数の第１の補正評価マスターデータのそれ
   ぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理和を
   とって複数の第１の差分パターンを求める第１の比較手
   段と、 （ｆ−１）前記複数の第２の補正評価マスターデータの
   それぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理
   和をとって複数の第２の差分パターンを求める第２の比
   較手段と、 （ｇ）前記第１の差分パターンのそれぞれに、前記第１
   の画素数と所定の関係を有する第２の画素数の画素を備
   えた画素オペレータを作用させて、前記第１の差分パタ
   ーンに前記第２の画素数以上の差分がある場合に前記第
   １の補正評価マスターデータと前記評価オブジェクトデ
   ータとが不一致とする第１の欠陥候補データを得る第１
   の予備判定手段と、 （ｇ−１）前記第２の差分パターンのそれぞれに、前記
   画素オペレータを作用させて、前記第２の差分パターン
   に前記第２の画素数以上の差分がある場合に前記第２の
   補正評価マスターデータと前記評価オブジェクトデータ
   とが不一致とする第２の欠陥候補データを得る第２の予
   備判定手段と、 （ｈ）前記第１の欠陥候補データの全てが前記不一致を
   示す場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥がある
   と判断し、前記第１の欠陥候補データの少なくとも一つ
   が前記不一致を示さない場合には前記評価オブジェクト
   データに欠陥がないと判断する第１の欠陥判定手段と、 （ｈ−１）前記第２の欠陥候補データの全てが前記不一
   致を示す場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥が
   あると判断し、前記第２の欠陥候補データの少なくとも
   一つが前記不一致を示さない場合には前記評価オブジェ
   クトデータに欠陥がないと判断する第２の欠陥判定手段
   と、 （ｉ）前記手段（ｈ）と前記手段（ｈ−１）の少なくと
   も１が前記評価オブジェクトデータに欠陥があると判断
   した場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥がある
   と判断し、前記手段（ｈ）と前記手段（ｈ−１）のいず
   れもが前記評価オブジェクトデータに欠陥がないと判断
   した場合には前記評価オブジェクトデータに欠陥がない
   と判断する判定手段と、 を備える画像パターンの検査装置。
8. 【請求項８】 オブジェクト画像パターンをマスター画
   像パターンと所定サイズの評価区画ごとに比較して欠陥
   検出を行う画像パターンの検査装置であって 、 （ａ）検査対象物のオブジェクト画像パターンにつ
   いての２値情報を有するオブジェクトデータと、基準と
   なるマスター画像パターンについての２値情報を有する
   マスターデータとを求める入力手段と、 （ｂ）前記マスターデータを第１の画素数だけ拡大処理
   して、拡大マスターデータを得る拡大手段と、 （ｂ−１）前記マスターデータを前記第１の画素数だけ
   縮小処理して、縮小マスターデータを得る縮小手段と、 （ｃ）前記マスターデータまたは、前記拡大マスターデ
   ータと前記縮小マスターデータとを記憶する記憶手段
   と、 （ｄ）前記評価区画における前記オブジェクトデータを
   得て評価オブジェクトデータとする第１の演算手段と、 （ｅ）前記評価区画を中心としてその区画から所定画素
   数だけ周辺を拡げた拡張区画を得て、前記拡張区画の中
   で、前記評価区画を位置ずれさせて複数の補正区画を設
   定し、前記拡大マスターデータから前記評価区画および
   前記補正区画に対応する部分をそれぞれ抽出して複数の
   第１の補正評価マスターデータを求め、前記縮小マスタ
   ーデータから前記評価区画および前記補正区画に対応す
   る部分をそれぞれ抽出して複数の第２の補正評価マスタ
   ーデータを求める、第２の演算手段と、 （ｆ）前記複数の第１の補正評価マスターデータのそれ
   ぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理和を
   とって複数の第１の差分パターンを求める第１の比較手
   段と、 （ｆ−１）前記複数の第２の補正評価マスターデータの
   それぞれと前記評価オブジェクトデータとの排他的論理
   和をとって複数の第２の差分パターンを求める第２の比
   較手段と、 （ｇ）互いに同一の前記補正区画又は前記評価区画に対
   応する前記第１の差分パターンと前記第２の差分パター
   ンの間で論理和をとって複数の加算パターンを求める加
   算手段と、 （ｈ）前記加算パターンのそれぞれに、前記第１の画素
   数と所定の関係を有する第２の画素数の画素を備えた画
   素オペレータを作用させて、前記加算パターンに前記第
   ２の画素数以上の領域がある場合に欠陥候補であるとす
   る欠陥候補データを得る予備判定手段と、 （ｉ）前記複数の加算パターンごとの欠陥候補データの
   全てが前記欠陥候補を示す場合には前記評価オブジェク
   トデータに欠陥があると判断し、前記複数の加算パター
   ンごとの欠陥候補データの少なくとも一つが前記欠陥候
   補を示さない場合には前記評価オブジェクトデータに欠
   陥がないと判断する欠陥判定手段と、 を備える画像パターンの検査装置。