JPH0877357A - パターン位置合わせ装置 - Google Patents

パターン位置合わせ装置

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JPH0877357A
JPH0877357A JP23211894A JP23211894A JPH0877357A JP H0877357 A JPH0877357 A JP H0877357A JP 23211894 A JP23211894 A JP 23211894A JP 23211894 A JP23211894 A JP 23211894A JP H0877357 A JPH0877357 A JP H0877357A
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JP
Japan
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image
pattern
positions
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Application number
JP23211894A
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English (en)
Inventor
Daisuke Kazama
大介 風間
Ryuji Kitakado
龍治 北門
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 量子化誤差等に起因する画素レベルのパター
ンの差異に影響されることなく、期待される位置合わせ
を確実に行なう。 【構成】 2値化された基準画像と対象画像との位置合
わせを以下の構成により行なう。まず、基準画像信号S
refを基準画像データとしてメモリ14に記憶する。こ
の基準画像データを用い、不感帯生成部16により、基
準画像におけるパターンのエッジを検出してエッジ領域
を不感領域として設定する。次に、位置設定部18によ
り、上記の基準画像データ及び不感領域を示す画像デー
タと対象画像信号Sobjとを用いて、不感領域以外にお
けるパターンの差異が最小となるような対象画像と基準
画像との位置関係を求め、この位置関係を示す信号Sp
を出力する。この信号Spによって示される位置関係に
基準画像と対象画像とを設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、同一とされる二つのパ
ターンの位置合わせを行なう位置合わせ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント基板やLSI(大規模集積回
路)ウエハ等に形成される回路パターンの検査方法とし
て、検査対象物のパターンを読み取って得られる対象画
像パターンと欠陥の無い検査対象物のパターンを示す基
準画像パターンとを比較することにより欠陥を検出する
という方法がある。このような検査方法では、対象画像
パターンと基準画像パターンという二つのパターンの位
置合わせが必要となる。例えば特公平5−17481号
公報に記載されたパターン欠陥検査装置では、2値画像
で表わされた二つのパターンの位置合わせのために、パ
ターンの相対位置を変化させて同じ位置の画素の値が異
なる数(不一致数)をカウントする。そして、その不一
致数が最小となる相対位置を目的の位置とし、この位置
に両画像を設定する。
【0003】なお、多値画像の場合には、上記の二つの
パターン間で同じ位置の画素の値の差の総和を求め、こ
の総和が最小値となる相対位置を目的の位置とすればよ
い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の方
法でパターンの位置合わせを行なうと、二つのパターン
の相対位置が期待される位置とは大きく異なる場合があ
る。例えば、図5に示す画像パターンと図6に示す画像
パターンとの位置合わせを行なう場合、上記従来の方法
を適用すると、両画像パターンは図7に示す位置関係に
設定されるが、この位置関係では、水平・垂直方向のエ
ッジにおける差異が大きい。ここで、1点鎖線で囲まれ
た矩形領域は図6の画像が配置される位置を示し、極太
の実線は図6の画像パターンのエッジ(境界線)を示
す。一方、水平・垂直方向のエッジにおける差異が無く
なるように位置関係を設定すると図8に示すようにな
る。この位置関係では、斜め方向のエッジにおける差異
が大きいが、これはエッジに接している画素レベルの差
異であるため、位置ズレによるものではなく、画像化に
伴う誤差によるものである可能性が高い。パターンを画
素毎に読み取って画像化すると、パターンのエッジ近傍
では画像化に伴う誤差すなわち量子化誤差が生じ、特
に、斜め方向のエッジ近傍においては、この量子化誤差
に起因する画素レベルの差異が発生し易いからである。
一般的に、図5及び図6に示した両画像パターンは、図
8に示す位置関係に設定されることが期待されている
が、上記従来の方法では、この期待される位置関係に設
定することができない。
【0005】以上のように、上記従来の方法では、位置
合わせの対象となる二つのパターンは同一であることが
前提となっているが、前述の量子化誤差に起因して画素
レベルでは両パターンに多少の差異が存在するため、期
待されるような位置合わせを行なうことができない場合
がある。
【0006】そこで本発明は、量子化誤差等に起因する
画素レベルのパターンの差異に影響されることなく、期
待される位置合わせを確実に行なうことができるパター
ン位置合わせ装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明に係る第1のパターン位置合わせ装置
は、第1画像と、第1画像によって表わされるパターン
と略同一のパターンを含む第2画像とによって表わされ
るパターンの位置合わせを行なうパターン位置合わせ装
置において、 a)第2画像の領域内で第1画像と第2画像とを相対的
に移動させる移動手段と、 b)第2画像の画素の値が変化する変化点を含む該変化
点近傍の所定領域を不感領域として設定する不感領域生
成手段と、 c)第1画像と第2画像とが相対的に移動させられた各
位置において、第2画像の画素の値と、該画素と同じ位
置における第1画像の画素の値との差を、前記不感領域
以外における第1画像の全ての画素について加算するこ
とにより、該差の総和を算出する算出手段と、 d)前記差の総和が最小となる第1画像の位置を求め、
該位置を第1及び第2画像によって表わされるパターン
の位置合わせにおける目的の位置とする位置設定手段
と、を備えることを特徴としている。
【0008】本発明に係る第2のパターン位置合わせ装
置は、上記第1のパターン位置合わせ装置において、第
1及び第2画像は2値画像であり、前記不感領域生成手
段は、第2画像の画素の値が変化する境界に隣接する画
素によって構成される領域を前記不感領域として設定す
る、ことを特徴としている。
【0009】本発明に係る第3のパターン位置合わせ装
置は、上記第1又は第2のパターン位置合わせ装置にお
いて、前記位置設定手段は、前記総和が最小となる前記
位置が複数得られた場合に、得られた複数の前記位置の
重心を求め、該重心の位置を前記目的の位置とする、こ
とを特徴としている。
【0010】本発明に係る第4のパターン位置合わせ装
置は、上記第1又は第2のパターン位置合わせ装置にお
いて、前記位置設定手段は、前記総和が最小となる前記
位置が複数得られた場合に、得られた複数の前記位置の
重心を求めて、得られた複数の前記位置のうち該重心に
最も近い位置を選択し、選択された位置を前記目的の位
置とする、ことを特徴としている。
【0011】本発明に係る第5のパターン位置合わせ装
置は、上記第1又は第2のパターン位置合わせ装置にお
いて、前記位置設定手段は、前記総和が最小となる前記
位置が複数得られた場合に、得られた複数の前記位置の
中から、予め決められた規則にしたがって一つの位置を
選択し、選択された位置を前記目的の位置とする、こと
を特徴としている。
【0012】なお、前記総和が最小となる前記位置が複
数得られた場合、通常は、第3のパターン位置合わせ装
置のように、前記総和が最小となる複数の位置の重心に
第1画像が配置されるのが望ましい。しかし、重心に配
置されると、第1画像と第2画像との差異部分が大きく
なる場合もある。したがって、確実性を重視する場合
は、第4又は第5のパターン位置合わせ装置のように、
前記総和が最小となる複数の位置の中から一つの位置を
選択するのがよい。
【0013】
【作用】第1のパターン位置合わせ装置によると、不感
領域生成手段により、第2画像の画素値の変化点近傍の
所定領域が不感領域として設定される。算出手段は、移
動手段によって第1画像と第2画像とが相対的に移動さ
せられた各位置において、第1画像と第2画像との間
で、同じ位置の画素の値の差を求め、不感領域以外の全
ての画素についてこの差を加算することにより、差の総
和を算出する。そして、位置設定手段は、この総和が最
小となる第1画像の位置を求め、その位置を位置合わせ
における目的の位置とする。
【0014】第2のパターン位置合わせ装置によると、
2値画像に対して、上記第1のパターン位置合わせ装置
と同様にして、画像パターンの位置合わせが行なわれ
る。このとき、第2画像の画素の値が変化する境界に隣
接する画素によって構成される領域が不感領域として設
定される。
【0015】第3乃至第5のパターン位置合わせ装置に
よると、前記総和が最小となる第1画像の位置が複数得
られた場合、所定の規則にしたがって一つの位置が決定
される。すなわち、第3のパターン位置合わせ装置で
は、前記総和が最小となる複数位置の重心が求められ、
その重心が位置合わせにおける目的の位置とされる。第
4のパターン位置合わせ装置では、前記総和が最小とな
る複数位置のうち、それらの重心に最も近い位置が求め
られ、その位置が目的の位置とされる。第5のパターン
位置合わせ装置では、前記総和が最小となる複数位置の
中から、予め決められた規則にしたがって一つの位置が
選択され、その位置が目的の位置とされる。
【0016】
【実施例】図1は、本発明の一実施例であるパターン位
置合わせ装置の要部の構成を示すブロック図である。図
1に示すように、本実施例のパターン位置合わせ装置
は、2値化部12、メモリ14、不感帯生成部16、位
置設定部18、及び切換スイッチSWを備えており、二
つの2値画像パターンの位置合わせを行なう。以下で
は、比較法によるパターン検査の際に必要となる、検査
対象物のパターン(対象パターン)と基準パターンとの
位置合わせを行なうものとして説明する。
【0017】2値化部12は、基準パターン及び対象パ
ターンを表わすデジタル画像信号SAを入力し、これを
2値化して出力する。この2値化部12の出力端は切換
スイッチSWの端子cに接続されている。2値化部12
に入力される画像信号SAが基準パターンを表わすもの
であるときには、切換スイッチSWにおいて端子cが端
子aに接続され、これにより、基準パターンを表わす2
値画像信号が基準画像信号Srefとしてメモリ14に入
力される。一方、画像信号SAが対象パターンを表わす
ものであるときには、切換スイッチSWにおいて端子c
が端子bに接続され、これにより、対象パターンを表わ
す2値画像信号が対象画像信号Sobjとして位置設定部
18に入力される。
【0018】メモリ14は、基準画像信号Srefを入力
し、これを基準画像データとして記憶する。
【0019】不感帯生成部16は、メモリ14に記憶さ
れた基準画像データを用いて、基準画像において画素の
値が変化する境界の周辺にその境界を含む帯状の領域
(以下「不感領域」という)を設定する。このために不
感帯生成部16は、図2(a)に示すような3×3のエ
ッジ検出オペレータOPEを基準画像に作用させる。こ
のオペレータOPEは、基準画像の各画素を注目画素と
し、その注目画素の8近傍の画素の中に注目画素と値の
異なるものが存在するか否かを調べ、値の異なるものが
存在すれば、その画素すなわち3×3の中心の画素(注
目画素)はエッジを構成すると判断するものであり、例
えば、2個のラインメモリと3×3個のDフリップフロ
ップ等を用いて基準画像信号Srefを二次元展開すると
いう構成により、実現することができる。このようなエ
ッジ検出オペレータOPEにより、図2(b)に示すよ
うに、画素値が変化する境界に隣接する画素によって構
成される領域(図において1点鎖線で囲まれた領域)が
エッジ領域として検出される。本実施例ではこのように
して検出されたエッジ領域を不感領域としており、例え
ば図3(a)に示す基準画像に対しては図3(b)に示
すような不感領域が得られる。このようにして得られた
不感領域は、基準エッジ画像データとして不感帯生成部
16に一旦保持される。
【0020】位置設定部18は、2値化部12から出力
され切換スイッチSWを経て入力される対象画像信号S
objと、メモリ14に記憶されている基準画像データ
と、不感帯生成部16に保持されている基準エッジ画像
データとを用いて、基準パターンと対象パターンとの位
置合わせを行ない、その位置合わせにより得られた、基
準パターンと対象パターンとの位置関係を示す信号Sp
を出力する。以下、この位置合わせの動作を図4を参照
しつつ説明する。なお以下において、基準画像は、対象
画像に対して位置ズレが許容される範囲を全てカバーで
きる程度の大きさを有しているものとする。
【0021】図4は、位置設定部18の動作を示すフロ
ーチャートである。位置設定部18は、まず、メモリ1
4に記憶された基準画像データを用いて、基準画像か
ら、対象画像信号Sobjによって示される対象画像と同
じ大きさの画像を異なる位置から全て切り出し、切り出
された画像(以下「切出画像」という)のそれぞれに対
し、その切出画像の基準画像における相対位置を対応付
けておく(ステップS12)。次に、不感帯生成部16
に保持された基準エッジ画像データを用いて、基準パタ
ーンにおける不感領域を示す画像である基準エッジ画像
から、上記の各切出画像に対応するエッジ画像を切り出
す(ステップS14)。このエッジ画像は、それに対応
する切出画像における基準パターンの不感領域を示すも
のである。
【0022】上記のようにして得られた切出画像及びエ
ッジ画像を用いて、同じ位置の画素に対して次の論理演
算を行ない、その演算結果の各切出画像毎の総和SUMを
算出する(ステップS16)。すなわち、 SUM=Σ(i,j)[{(Oi,j)EXOR(Ri,j)}AND{NOT(Ei,j)}] …(1) を各切出画像毎に算出する。ここで、 Oi,j:対象画像におけるi行目j列目の画素の値 Ri,j:切出画像におけるi行目j列目の画素の値 Ei,j:上記切出画像に対応するエッジ画像におけるi
行目j列目の画素の値 ただし、Σ(i,j)は、それに続く項に関し切出画像を構
成する全ての画素について総和をとることを意味し、
(A)EXOR(B)はAとBとの排他的論理和を意味し、
(A)AND(B)はAとBとの論理積を意味し、NOT
(A)はAの論理反転を意味するものとする。
【0023】次のステップS18では、上記総和SUMが
最小となる切出画像を選び出す。ところで、この総和SU
Mを与える(1)式の右辺は、切出画像における不感領域
(エッジ領域)以外の部分の画素の値と、その画素と同
じ位置における対象画像の画素の値との排他的論理和
(画素値の差)について、各切出画像毎に総和をとるこ
とを表わしている。したがって、上記総和SUMが最小と
なる切出画像を選ぶと、不感領域以外の領域、すなわち
量子化誤差の影響を受けない領域において、基準画像の
パターンと対象画像のパターンとの差異部分が最も少な
くなる。よって、このような切出画像に対応付けられた
位置関係(ステップS12参照)に対象画像と基準画像
とを設定すべきである。ところで、上記総和SUMが最小
となる切出画像は複数存在する場合がある。そこで、次
のステップS20では、位置合わせにおいて目的とする
位置関係を以下のようにして決定する。
【0024】(1)上記総和SUMが最小となる切出画像
が一つだけ存在する場合 その切出画像に対応付けられた基準画像における相対位
置に対象画像が配置されるという位置関係を、目的とす
る位置関係とする。 (2)上記総和SUMが最小となる切出画像が複数存在す
る場合 上記総和SUMが最小となる切出画像(以下「最小切出画
像」という)に対応付けられた複数の相対位置に基づ
き、所定の規則により一つの位置関係を決定する。例え
ば、複数の最小切出画像の基準画像における相対位置の
重心を求め、その重心に対応する切出画像の位置に対象
画像が配置されるような位置関係を目的の位置関係とす
る。また、複数の最小切出画像の相対位置の重心そのも
のではなく、各最小切出画像の相対位置のうちその重心
に最も近い相対位置を探し、その相対位置に対象画像が
配置されるような位置関係を目的の位置関係としてもよ
い。さらに、これ以外の適当な規則にしたがって、複数
の最小切出画像のそれぞれに対応付けられた相対位置の
うちから一つの相対位置を選択し、その相対位置に対象
画像が配置されるような位置関係を目的の位置関係とし
てもよい。
【0025】上記(1)(2)によって決定された対象
画像と基準画像との位置関係は信号Spとして位置設定
部18から出力され、この信号Spに基づき、対象画像
と基準画像とが目的の位置関係に設定される。
【0026】以上のように本実施例では、基準画像にお
けるパターンのエッジ領域を不感領域としているため、
量子化誤差に起因する画素レベルの差異に影響されるこ
となく、位置合わせが行なわれる。すなわち、例えば同
一パターンを撮像する際においても、撮像素子であるC
CDとそれに結像した像との位置関係の違いによって画
素レベルの差異が生じ、特に斜めパターンを含む2値画
像において画素レベルの差異が生じ易いが、不感領域の
存在により、このような量子化誤差に起因する画素レベ
ルの差異は位置合わせに影響しなくなる。この結果、前
述の図5に示したパターンの画像を基準画像とし図6に
示したパターンの画像を対象画像とすると、上記の総和
SUMは、前述の図7に示す位置関係に対しては3、図8
に示す位置関係に対しては0となり、基準画像と対象画
像とは、図8に示す位置関係すなわち期待される位置関
係に設定される。
【0027】上記実施例では、位置合わせの対象となる
画像は2値画像であったが、多値画像の場合でも、同様
の構成により、同様の効果を得ることができる。ただ
し、多値画像の場合、不感領域は、基準画像の画素値の
変化点の近傍に設定され、前記(1)式の右辺の計算にお
いては、対象画像の画素値と切出画像の画素値との排他
的論理和(Oi,j)EXOR(Ri,j)の代わりに、対象画像
の画素値と切出画像の画素値との差|(Oi,j)−(R
i,j)|について総和がとられる。そして、上記実施例
と同様の手順で、この総和が最小となるように基準画像
と対象画像の位置関係を設定することにより、量子化誤
差に起因する画素レベルの差異に影響されることなく、
位置合わせが行なわれる。なお、2値画像の場合、画素
値の差|(Oi,j)−(Ri,j)|は、排他的論理和(O
i,j)EXOR(Ri,j)と等価である。したがって、2値画
像についての図4のフローチャートは、画素値の差|
(Oi,j)−(Ri,j)|の総和が最小となるように基準
画像と対象画像の位置関係を設定することを示している
と考えることもできる。
【0028】なお、デジタル画像を間引きして作成した
縮小画像のパターンの位置合わせでは、間引きによって
画素レベルの差異が生じるが、不感領域の設定によって
この画素レベルの差異の影響を除去することができる。
したがって本実施例は、デジタル画像を間引きして作成
された縮小画像によるパターンの位置合わせにも有効で
ある。
【0029】
【発明の効果】本発明に係る第1又は第2のパターン位
置合わせ装置によれば、第1画像と第2画像との各位置
関係におけるパターンの差異の程度を評価する際に、パ
ターンの変化点近傍の領域又はエッジ領域を不感領域と
している。このため、量子化誤差等に起因する画素レベ
ルのパターンの差異に影響されることなく、位置合わせ
が行なわれる。これにより、二つの画像パターンを期待
される位置関係に確実に設定することができる。
【0030】また、本発明に係る第3乃至第5のパター
ン位置合わせ装置によれば、目的とされる第1画像の位
置が複数得られた場合でも、所定の規則に従って一つの
位置が決定されるので、二つの画像パターンを期待され
る唯一の位置関係に特定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例であるパターン位置合わせ
装置の要部の構成を示すブロック図。
【図2】 不感帯生成部におけるエッジ検出を説明する
ための図。
【図3】 不感帯生成部による不感領域の設定を示す
図。
【図4】 位置設定部の動作を示すフローチャート。
【図5】 位置合わせの対象となる一方の画像(基準画
像)を示す図。
【図6】 位置合わせの対象となる他方の画像(対象画
像)を示す図。
【図7】 位置合わせの対象となる二つの画像の位置関
係を示す図。
【図8】 位置合わせの対象となる二つの画像の位置関
係を示す図。
【符号の説明】
16…不感帯生成部 18…位置設定部 Sref…基準画像信号 Sobj…対象画像
信号
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027 H05K 3/00 Q H01L 21/30 502 V

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1画像と、第1画像によって表わされ
    るパターンと略同一のパターンを含む第2画像とによっ
    て表わされるパターンの位置合わせを行なうパターン位
    置合わせ装置において、 a)第2画像の領域内で第1画像と第2画像とを相対的
    に移動させる移動手段と、 b)第2画像の画素の値が変化する変化点を含む該変化
    点近傍の所定領域を不感領域として設定する不感領域生
    成手段と、 c)第1画像と第2画像とが相対的に移動させられた各
    位置において、第2画像の画素の値と、該画素と同じ位
    置における第1画像の画素の値との差を、前記不感領域
    以外における第1画像の全ての画素について加算するこ
    とにより、該差の総和を算出する算出手段と、 d)前記差の総和が最小となる第1画像の位置を求め、
    該位置を第1及び第2画像によって表わされるパターン
    の位置合わせにおける目的の位置とする位置設定手段
    と、を備えることを特徴とするパターン位置合わせ装
    置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のパターン位置合わせ装
    置において、 第1及び第2画像は2値画像であり、 前記不感領域生成手段は、第2画像の画素の値が変化す
    る境界に隣接する画素によって構成される領域を前記不
    感領域として設定する、パターン位置合わせ装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載のパターン位置合
    わせ装置において、 前記位置設定手段は、前記総和が最小となる前記位置が
    複数得られた場合に、得られた複数の前記位置の重心を
    求め、該重心の位置を前記目的の位置とする、パターン
    位置合わせ装置。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2に記載のパターン位置合
    わせ装置において、 前記位置設定手段は、前記総和が最小となる前記位置が
    複数得られた場合に、得られた複数の前記位置の重心を
    求めて、得られた複数の前記位置のうち該重心に最も近
    い位置を選択し、選択された位置を前記目的の位置とす
    る、パターン位置合わせ装置。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2に記載のパターン位置合
    わせ装置において、 前記位置設定手段は、前記総和が最小となる前記位置が
    複数得られた場合に、得られた複数の前記位置の中か
    ら、予め決められた規則にしたがって一つの位置を選択
    し、選択された位置を前記目的の位置とする、パターン
    位置合わせ装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009115565A (ja) * 2007-11-06 2009-05-28 Dainippon Printing Co Ltd 打抜き片の検査装置
US7577288B2 (en) 2005-09-06 2009-08-18 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Sample inspection apparatus, image alignment method, and program-recorded readable recording medium
US7655904B2 (en) 2006-08-10 2010-02-02 Advanced Mask Inspection Technology Inc. Target workpiece inspection apparatus, image alignment method, and computer-readable recording medium with program recorded thereon
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