JP5123630B2 - パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents
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Description
被検査試料を載置するステージと、
ステージと相対的に移動する第1の方向と直交する第2の方向に並ぶ複数の受光素子を有し、これら複数の受光素子を用いて被検査試料の光学画像を撮像するセンサと、
第2の方向に画素単位でずらした位置で上述したセンサによって重複して撮像された各画素データを画素毎に累積する累積部と、
画素毎に累積された画素データと同数だけ累積加算されたデータとなる所定の参照データを作成する参照データ作成部と、
画素毎に累積された画素データと、前記画素データと同数だけ累積加算されたデータとして作成された所定の参照データとを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
被検査試料を載置するステージと、
ステージと相対的に移動する第1の方向と直交する第2の方向に並ぶ複数の受光素子を有し、複数の受光素子の素子数より少ない素子数分第2の方向に画素単位でずらした位置に互いに配置され、これら複数の受光素子を用いて上述した被検査試料の光学画像を撮像する複数のセンサと、
複数のセンサによって撮像された各画素データを画素毎に累積する累積部と、
画素毎に累積された画素データと、前記画素データと同数だけ累積加算されたデータとして作成された所定の参照データとを比較する比較部と、
を備え、
前記複数のセンサによって、各画素データは、重複して撮像されることを特徴とする。
検査方向と直交する方向に複数の受光素子を有するセンサを画素単位でずらした位置で被検査試料の光学画像を重複して撮像する工程と、
重複して撮像された各画素データを画素毎に累積する工程と、
画素毎に累積された画素データと同数だけ累積加算されたデータとなる所定の参照データを作成する工程と、
画素毎に累積された画素データと、前記画素データと同数だけ累積加算されたデータとして作成された所定の参照データとを比較し、その結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す概念図である。
図1において、試料、例えばマスクの欠陥を検査する検査装置100は、光学画像取得部150と制御系回路160を備えている。光学画像取得部150は、光源103、XYθテーブル102、照明光学系170、拡大光学系104、ラインセンサ105、センサ回路106、レーザ測長システム122、及びオートローダ130を備えている。制御系回路160では、コンピュータとなる制御計算機110が、バス120を介して、位置回路107、比較回路108、参照回路112、オートローダ制御回路113、テーブル制御回路114、磁気ディスク装置109、磁気テープ装置115、フレシキブルディスク装置(FD)116、CRT117、パターンモニタ118、及びプリンタ119に接続されている。また、センサ回路106は、ストライプパターンメモリ123に接続され、ストライプパターンメモリ123は、比較回路108に接続されている。また、XYθテーブル102は、X軸モータ、Y軸モータ、θ軸モータにより駆動される。XYθテーブル102は、ステージの一例となる。ここで、図1では、実施の形態1を説明する上で必要な構成部分について記載している。検査装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。
被検査領域10は、図3に示すように、例えばX方向に向かって、スキャン幅Wの短冊状の複数の検査ストライプ20に仮想的に分割される。そして、その分割された各検査ストライプ20(或いは検査ストライプ22)が連続的に走査されるようにXYθテーブル102の動作が制御される。XYθテーブル102の移動によってラインセンサ105が相対的にY方向(第1の方向)に連続移動しながら光学画像が取得される。ラインセンサ105では、図3に示されるようなスキャン幅Wの光学画像を連続的に撮像する。実施の形態1では、1つの検査ストライプ20(或いは検査ストライプ22)における光学画像を撮像した後、スキャン幅Wの1/2ずつX方向にずれた位置で今度は逆方向に移動しながら同様にスキャン幅Wの光学画像を連続的に撮像する。すなわち、往路と復路で逆方向に向かうフォワード(FWD)−バックフォワード(BWD)の方向で撮像を繰り返す。具体的には、第1の検査ストライプ20aのスキャン幅Wの1/2を含む検査ストライプ22aにおける画像を検査方向としてY方向に向かって撮像した後、スキャン幅Wの1/2だけX方向に移動し、その後、今度は検査ストライプ20aにおける画像を検査方向として−Y方向に向かって撮像する。次に、スキャン幅Wの1/2だけX方向に移動した後、今度は検査ストライプ22bにおける画像を検査方向としてY方向に向かって撮像する。次に、スキャン幅Wの1/2だけX方向に移動した後、今度は検査ストライプ20bにおける画像を検査方向として−Y方向に向かって撮像する。次に、スキャン幅Wの1/2だけX方向に移動した後、今度は検査ストライプ22cにおける画像を検査方向としてY方向に向かって撮像する。次に、スキャン幅Wの1/2だけX方向に移動した後、今度は検査ストライプ20cにおける画像を検査方向として−Y方向に向かって撮像する。このように、スキャン幅Wの1/2だけずらしながら連続的に画像を取得していく。これにより、被検査領域10は、往路と復路でスキャン幅Wの1/2だけずれながらラインセンサ105によって重複して撮像される。例えば、ラインセンサ105に2048画素分の検査方向(Y方向)と直交するX方向(第2の方向)に並ぶ複数の受光素子30(フォトダイオード)が配置されているものを用いると、スキャン幅Wは2048画素となる。そして、これらの受光素子30を画素単位でずらして次の検査ストライブにおける画像を撮像する。
図4において、ラインセンサ105に2048画素分のX方向に並ぶ複数の受光素子30が配置されているものを用いると、往路と復路で512画素分だけX方向にずれた位置で撮像されることになる。このように、各画素データは、複数の受光素子30の素子数の1/2ずれた位置で重複して撮像されると好適である。但し、1/2に限るものではない。複数の受光素子30の素子数より少ない素子数分X方向に画素単位でずらせば構わない。これにより被検査領域10の各画素は重複して撮像されることになる。
図6では、1つの検査ストライプ20(或いは検査ストライプ22)における光学画像を撮像した後、元の位置まで戻った後スキャン幅Wの1/2ずつX方向にずれた位置まで進み、或いは、スキャン幅Wの1/2ずつX方向にずれた位置まで進んだ後−Y方向に元の位置まで戻り、次の検査ストライプ22(或いは検査ストライプ20)における光学画像を前回と同じY方向に向かって撮像移動しながら同様にスキャン幅Wの光学画像を連続的に撮像する。このように、往路と復路でXYθテーブル102と被検査試料とが相対的に移動する一方向に向かって重複して撮像されると好適である。すなわち、往路と復路で同方向に向かうフォワード(FWD)−フォワード(FWD)の方向で撮像を繰り返す。ここで、XYθテーブル102の移動軌跡が直交誤差や移動直線誤差により湾曲或いは蛇行していると、取得された光学画像も湾曲或いは蛇行した移動軌跡に沿って湾曲或いは蛇行されたものとして取得されてしまうこととなる。一方の方向で座標系を補正した場合、往路と復路で逆方向に撮像すると往路と復路で湾曲或いは蛇行の仕方が変わってしまう。そのため、誤差が大きくなってしまう場合がある。そのため、往路と復路で同方向に撮像することで誤差を小さくすることができる。具体的には、第1の検査ストライプ20aのスキャン幅Wの1/2を含む検査ストライプ22aにおける画像を検査方向としてY方向に向かって撮像した後、元の位置に戻ってスキャン幅Wの1/2だけX方向に移動し、その後、検査ストライプ20aにおける画像を検査方向としてまたY方向に向かって撮像する。次に、検査ストライプ20aにおける画像の撮像を開始した元の位置に戻ってからスキャン幅Wの1/2だけX方向に移動した後、検査ストライプ22bにおける画像を検査方向としてY方向に向かって撮像する。次に、検査ストライプ22bにおける画像の撮像を開始した元の位置に戻ってからスキャン幅Wの1/2だけX方向に移動した後、検査ストライプ20bにおける画像を検査方向としてY方向に向かって撮像する。次に、検査ストライプ20bにおける画像の撮像を開始した元の位置に戻ってからスキャン幅Wの1/2だけX方向に移動した後、検査ストライプ22cにおける画像を検査方向としてY方向に向かって撮像する。次に、検査ストライプ22cにおける画像の撮像を開始した元の位置に戻ってからスキャン幅Wの1/2だけX方向に移動した後、検査ストライプ20cにおける画像を検査方向としてY方向に向かって撮像する。このように、スキャン幅Wの1/2だけずらしながら一方向に連続的に画像を取得していく。これにより、被検査領域10は、往路と復路でスキャン幅Wの1/2だけずれながらラインセンサ105によって一方向に重複して撮像される。
図7において、ラインセンサ105に2048画素分のX方向に並ぶ複数の受光素子30が配置されているものを用いると、往路と復路で512画素分だけX方向にずれた位置で撮像されることになる。ここでも上述したように、画素数のずらし方は、複数の受光素子30の素子数の1/2に限るものではない。複数の受光素子30の素子数より少ない素子数分X方向に画素単位でずらせば構わない。これにより被検査領域10の各画素は重複して撮像されることになる。
実施の形態1では、1つのセンサで重複撮像しているがこれに限るものではない。実施の形態2では、複数のセンサを用いる場合について説明する。
XYθテーブル102の移動によってラインセンサ105,172が相対的にY方向(第1の方向)に連続移動しながら光学画像が取得される。ラインセンサ105,172では、図9に示されるようなスキャン幅Wの光学画像をそれぞれが連続的に撮像する。実施の形態2では、1つの検査ストライプ20(或いは検査ストライプ22)における光学画像とスキャン幅Wの1/2だけX方向にずれた検査ストライプ22(或いは検査ストライプ20)における光学画像とを同時期に撮像した後、スキャン幅WだけX方向にずれた位置で今度は逆方向に移動しながら同様にスキャン幅Wの光学画像をそれぞれが連続的に撮像する。すなわち、往路と復路で逆方向に向かうフォワード(FWD)−バックフォワード(BWD)の方向で撮像を繰り返す。
図10において、ラインセンサ105,172に2048画素分のX方向に並ぶ複数の受光素子30が配置されているものを用いると、ラインセンサ105とラインセンサ172は、512画素分だけX方向にずれた位置に配置される。そしてその配置位置を維持した状態で撮像されることになる。このように、各画素データは、複数の受光素子30の素子数の1/2ずれた2つのラインセンサ105,172によって重複して撮像されると好適である。但し、1/2に限るものではない。各ラインセンサ105,172が備える複数の受光素子30の素子数より少ない素子数分X方向に画素単位でずらした位置に、ラインセンサ105,172は互いに配置されれば構わない。これにより被検査領域10の各画素は異なるセンサによって重複して撮像されることになる。
20,22 検査ストライプ
30 受光素子
40 画素
100 検査装置
101 フォトマスク
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105,172 ラインセンサ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
112 参照回路
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 FD
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 ストライプパターンメモリ
130 オートローダ
131 ダイ−データベース比較回路
132,142,144 累積部
134 参照データメモリ
136,145,146 累積データメモリ
138,148 位置合わせ部
139,149 比較部
140 ダイ−ダイ比較回路
170 照明光学系
Claims (5)
- 被検査試料を載置するステージと、
前記ステージと相対的に移動する第1の方向と直交する第2の方向に並ぶ複数の受光素子を有し、前記複数の受光素子を用いて前記被検査試料の光学画像を撮像するセンサと、
前記第2の方向に画素単位でずらした位置で前記センサによって重複して撮像された各画素データを画素毎に累積する累積部と、
画素毎に累積された画素データと同数だけ累積加算されたデータとなる所定の参照データを作成する参照データ作成部と、
画素毎に累積された画素データと、前記画素データと同数だけ累積加算されたデータとして作成された所定の参照データとを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 被検査試料を載置するステージと、
前記ステージと相対的に移動する第1の方向と直交する第2の方向に並ぶ複数の受光素子を有し、前記複数の受光素子の素子数より少ない素子数分前記第2の方向に画素単位でずらした位置に互いに配置され、前記複数の受光素子を用いて前記被検査試料の光学画像を撮像する複数のセンサと、
前記複数のセンサによって撮像された各画素データを画素毎に累積する累積部と、
画素毎に累積された画素データと、前記画素データと同数だけ累積加算されたデータとして作成された所定の参照データとを比較する比較部と、
を備え、
前記複数のセンサによって、各画素データは、重複して撮像されることを特徴とするパターン検査装置。 - 各画素データは、前記複数の受光素子の素子数の1/2ずれた位置で重複して撮像されることを特徴とする請求項1又は2記載のパターン検査装置。
- 各画素データは、前記ステージと前記被検査試料とが相対的に移動する一方向に向かって重複して撮像されることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載のパターン検査装置。
- 検査方向と直交する方向に複数の受光素子を有するセンサを画素単位でずらした位置で被検査試料の光学画像を重複して撮像する工程と、
重複して撮像された各画素データを画素毎に累積する工程と、
画素毎に累積された画素データと同数だけ累積加算されたデータとなる所定の参照データを作成する工程と、
画素毎に累積された画素データと、前記画素データと同数だけ累積加算されたデータとして作成された所定の参照データとを比較し、その結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。
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