JPH05180991A - Ｘ線光学系 - Google Patents
Ｘ線光学系Info
- Publication number
- JPH05180991A JPH05180991A JP35918391A JP35918391A JPH05180991A JP H05180991 A JPH05180991 A JP H05180991A JP 35918391 A JP35918391 A JP 35918391A JP 35918391 A JP35918391 A JP 35918391A JP H05180991 A JPH05180991 A JP H05180991A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- concave mirror
- parallel light
- reflected
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 光源２１からの発散光であるＸ線２２を第１
の凹面鏡２４により反射して平行光２３とし、その平行
光を第２の凹面鏡２７により反射して焦点位置２５にお
いて集光する収束光２６とし、さらに、その収束光を、
第２の凹面鏡の焦点位置の近傍に配置した第３の凹面鏡
２９により反射して平行光２８となす。 【効果】 第３の凹面鏡によって最終的に得られる平行
光を十分に高強度かつ指向性に優れたものとでき、発散
光であるＸ線、特にシンクロトロンからのＳＯＲ光を各
種のＸ線利用装置の光源として有効に使用し得る。
の凹面鏡２４により反射して平行光２３とし、その平行
光を第２の凹面鏡２７により反射して焦点位置２５にお
いて集光する収束光２６とし、さらに、その収束光を、
第２の凹面鏡の焦点位置の近傍に配置した第３の凹面鏡
２９により反射して平行光２８となす。 【効果】 第３の凹面鏡によって最終的に得られる平行
光を十分に高強度かつ指向性に優れたものとでき、発散
光であるＸ線、特にシンクロトロンからのＳＯＲ光を各
種のＸ線利用装置の光源として有効に使用し得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、Ｘ線を利用する各種
の装置、特にシンクロトロンから放射されるＸ線である
シンクロトロン放射光（ＳＯＲ光）を利用する装置に適
用して好適なＸ線光学系に関するものである。
の装置、特にシンクロトロンから放射されるＸ線である
シンクロトロン放射光（ＳＯＲ光）を利用する装置に適
用して好適なＸ線光学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、直径が１０ｍ以下の比較的小型の
粒子加速器としてシンクロトロンが開発されつつあり、
そのようなシンクロトロンから放射されるＸ線であるＳ
ＯＲ光を利用して、たとえば超ＬＳＩ回路の作成、医療
分野における診断、分子解析、構造解析等の様々な分野
への適用が期待されている。
粒子加速器としてシンクロトロンが開発されつつあり、
そのようなシンクロトロンから放射されるＸ線であるＳ
ＯＲ光を利用して、たとえば超ＬＳＩ回路の作成、医療
分野における診断、分子解析、構造解析等の様々な分野
への適用が期待されている。
【０００３】図３はシンクロトロンの概要を示すもので
あって、電子銃等の電子発生装置１で発生させた電子ビ
ームを直線加速器（ライナック）２で光速近くに加速
し、偏向電磁石３で偏向させてインフレクタ４を介して
蓄積リングである真空ダクト５に入射する。真空ダクト
５に入射した電子ビームは高周波加速空洞６によりエネ
ルギを与えられながら収束電磁石７で収束され、偏向電
磁石８で偏向されて真空ダクト５内を周回し続ける。そ
して、偏向電磁石８で偏向される際にＳＯＲ光１１が発
生し、それが光取り出しラインであるビームライン９を
介してたとえば各種のＸ線利用装置１０に出射されて利
用されるのである。
あって、電子銃等の電子発生装置１で発生させた電子ビ
ームを直線加速器（ライナック）２で光速近くに加速
し、偏向電磁石３で偏向させてインフレクタ４を介して
蓄積リングである真空ダクト５に入射する。真空ダクト
５に入射した電子ビームは高周波加速空洞６によりエネ
ルギを与えられながら収束電磁石７で収束され、偏向電
磁石８で偏向されて真空ダクト５内を周回し続ける。そ
して、偏向電磁石８で偏向される際にＳＯＲ光１１が発
生し、それが光取り出しラインであるビームライン９を
介してたとえば各種のＸ線利用装置１０に出射されて利
用されるのである。
【０００４】図４は、上記のようなシンクロトロンから
出射されるＳＯＲ光１１を光源として利用する装置１０
の例として、高温高圧Ｘ線実験装置を模式的に示したも
のである。この装置はいわゆるマルチアンビルタイプと
称されるものであって、アンビル１２に周囲を囲まれて
形成された微小な空間内に試料１３を配して高温高圧に
加熱加圧し、その試料１３に対してＳＯＲ光１１をコリ
メータ１４を通して入射Ｘ線１５として照射するように
したものである。そして、試料１３からの回折Ｘ線１６
を受光スリット１７を介して半導体検出器１８により受
光することによって、試料１３の結晶構造や格子定数の
解析等の各種実験を行うようにしたものである。符号１
９は試料１３を透過した透過Ｘ線、２０はビームストッ
パーである。
出射されるＳＯＲ光１１を光源として利用する装置１０
の例として、高温高圧Ｘ線実験装置を模式的に示したも
のである。この装置はいわゆるマルチアンビルタイプと
称されるものであって、アンビル１２に周囲を囲まれて
形成された微小な空間内に試料１３を配して高温高圧に
加熱加圧し、その試料１３に対してＳＯＲ光１１をコリ
メータ１４を通して入射Ｘ線１５として照射するように
したものである。そして、試料１３からの回折Ｘ線１６
を受光スリット１７を介して半導体検出器１８により受
光することによって、試料１３の結晶構造や格子定数の
解析等の各種実験を行うようにしたものである。符号１
９は試料１３を透過した透過Ｘ線、２０はビームストッ
パーである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な高温高圧Ｘ線実験装置において用いる入射Ｘ線１５は
十分に高強度かつ指向性に優れていることが必要である
が、シンクロトロンから出射されるＳＯＲ光１１は発散
光であってそのままでは必ずしも強度や指向性が十分で
はないし、そのＳＯＲ光１１を極めて微小な隙間を通し
て試料１３に対して照射しなければならないので、コリ
メータ１４により十分な細さとなるまで絞り込む必要が
あった。このため、シンクロトロンから出射されるＳＯ
Ｒ光のような発散光であるＸ線の強度を高めるとともに
指向性を向上させることのできる有効な光学系の提供が
望まれていた。
な高温高圧Ｘ線実験装置において用いる入射Ｘ線１５は
十分に高強度かつ指向性に優れていることが必要である
が、シンクロトロンから出射されるＳＯＲ光１１は発散
光であってそのままでは必ずしも強度や指向性が十分で
はないし、そのＳＯＲ光１１を極めて微小な隙間を通し
て試料１３に対して照射しなければならないので、コリ
メータ１４により十分な細さとなるまで絞り込む必要が
あった。このため、シンクロトロンから出射されるＳＯ
Ｒ光のような発散光であるＸ線の強度を高めるとともに
指向性を向上させることのできる有効な光学系の提供が
望まれていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のＸ線光学系は、
光源からの発散光であるＸ線を反射して平行光に変換す
るための第１の凹面鏡と、その第１の凹面鏡の反射光で
ある平行光を反射して焦点位置において集光する収束光
に変換するための第２の凹面鏡と、その第２の凹面鏡の
焦点位置の近傍に配置されて第２の凹面鏡の反射光であ
る収束光を反射して平行光に変換するための第３の凹面
鏡とを有することを特徴とするものである。
光源からの発散光であるＸ線を反射して平行光に変換す
るための第１の凹面鏡と、その第１の凹面鏡の反射光で
ある平行光を反射して焦点位置において集光する収束光
に変換するための第２の凹面鏡と、その第２の凹面鏡の
焦点位置の近傍に配置されて第２の凹面鏡の反射光であ
る収束光を反射して平行光に変換するための第３の凹面
鏡とを有することを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】本発明のＸ線光学系では、光源からの発散光た
とえばＳＯＲ光を第１の凹面鏡により反射することによ
り平行光とし、その平行光を第２の凹面鏡により反射す
ることにより焦点位置において集光される収束光とし、
さらに、その収束光を第３の凹面鏡により反射すること
により再び平行光とし、その平行光を各種のＸ線利用装
置に出射して利用する。そして、第３の凹面鏡を第２の
凹面鏡の焦点位置の近傍に配置しておくことにより、最
終的に得られる平行光は十分に絞り込まれて高強度かつ
指向性に優れたものとなる。
とえばＳＯＲ光を第１の凹面鏡により反射することによ
り平行光とし、その平行光を第２の凹面鏡により反射す
ることにより焦点位置において集光される収束光とし、
さらに、その収束光を第３の凹面鏡により反射すること
により再び平行光とし、その平行光を各種のＸ線利用装
置に出射して利用する。そして、第３の凹面鏡を第２の
凹面鏡の焦点位置の近傍に配置しておくことにより、最
終的に得られる平行光は十分に絞り込まれて高強度かつ
指向性に優れたものとなる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明の一実施例である光学系を模式的に
示すものである。この光学系は、光源２１からの発散光
であるＸ線２２を反射して平行光２３に変換するための
第１の凹面鏡２４と、その第１の凹面鏡２４の反射光で
ある平行光２３を反射して焦点位置２５において集光す
る収束光２６に変換するための第２の凹面鏡２７と、そ
の第２の凹面鏡２７の焦点位置２５の近傍に配置されて
いて第２の凹面鏡２７の反射光である収束光２６を反射
して平行光２８に変換するための第３の凹面鏡２９とか
ら構成されている。それら第１〜第３の凹面鏡２４，２
７，２９としては、いずれも、放物面ミラー、楕円ミラ
ー、シリンドリカルミラー、トロイダルミラー等の湾曲
面ミラーを適宜採用し得る。
する。図１は本発明の一実施例である光学系を模式的に
示すものである。この光学系は、光源２１からの発散光
であるＸ線２２を反射して平行光２３に変換するための
第１の凹面鏡２４と、その第１の凹面鏡２４の反射光で
ある平行光２３を反射して焦点位置２５において集光す
る収束光２６に変換するための第２の凹面鏡２７と、そ
の第２の凹面鏡２７の焦点位置２５の近傍に配置されて
いて第２の凹面鏡２７の反射光である収束光２６を反射
して平行光２８に変換するための第３の凹面鏡２９とか
ら構成されている。それら第１〜第３の凹面鏡２４，２
７，２９としては、いずれも、放物面ミラー、楕円ミラ
ー、シリンドリカルミラー、トロイダルミラー等の湾曲
面ミラーを適宜採用し得る。
【０００９】上記構成の光学系は、その全体が図３に示
したシンクロトロンのビームライン９内に組込まれて設
けられるものである。したがって、第１の凹面鏡２４に
入射するＸ線２２はシンクロトロンの蓄積リング中の偏
向点から放射されるＳＯＲ光であり、それが第１の凹面
鏡２４により平行光２３に変換され、さらに第２の凹面
鏡２７により収束光２６に変換され、さらに、第３の凹
面鏡２９により平行光２８に戻され、その平行光２８が
ビームライン９の先端に設けられている出射窓を通して
取り出されてＸ線利用装置１０等に照射されて利用され
ることになる。なお、この光学系全体をビームライン９
中に組込むことなく、ビームライン９先端のＳＯＲ光出
射窓と上記のＸ線利用装置１０の間に設置することも可
能であり、この場合はＳＯＲ光出射窓を光源２１と見な
せる。
したシンクロトロンのビームライン９内に組込まれて設
けられるものである。したがって、第１の凹面鏡２４に
入射するＸ線２２はシンクロトロンの蓄積リング中の偏
向点から放射されるＳＯＲ光であり、それが第１の凹面
鏡２４により平行光２３に変換され、さらに第２の凹面
鏡２７により収束光２６に変換され、さらに、第３の凹
面鏡２９により平行光２８に戻され、その平行光２８が
ビームライン９の先端に設けられている出射窓を通して
取り出されてＸ線利用装置１０等に照射されて利用され
ることになる。なお、この光学系全体をビームライン９
中に組込むことなく、ビームライン９先端のＳＯＲ光出
射窓と上記のＸ線利用装置１０の間に設置することも可
能であり、この場合はＳＯＲ光出射窓を光源２１と見な
せる。
【００１０】上記の光学系によれば、第２の凹面鏡２７
の焦点位置２５の近傍に第３の凹面鏡２９を配置したか
ら、その第３の凹面鏡２９には十分に絞り込まれた、つ
まりさほど発散していない収束光２６が入射し、そのよ
うな収束光２６がそのまま第３の凹面鏡２９により平行
光２８に変換されるので、この光学系から最終的に出射
されて利用される出射光である平行光２８は十分に絞り
込まれて高強度かつ指向性に優れたものとなる。したが
って、この光学系は、発散光であるシンクロトロンから
のＳＯＲ光を図４に示したような高温高圧Ｘ線実験装置
の光源として利用する場合に採用して特に好適である。
の焦点位置２５の近傍に第３の凹面鏡２９を配置したか
ら、その第３の凹面鏡２９には十分に絞り込まれた、つ
まりさほど発散していない収束光２６が入射し、そのよ
うな収束光２６がそのまま第３の凹面鏡２９により平行
光２８に変換されるので、この光学系から最終的に出射
されて利用される出射光である平行光２８は十分に絞り
込まれて高強度かつ指向性に優れたものとなる。したが
って、この光学系は、発散光であるシンクロトロンから
のＳＯＲ光を図４に示したような高温高圧Ｘ線実験装置
の光源として利用する場合に採用して特に好適である。
【００１１】なお、第１の凹面鏡２４を光源２１に十分
に接近する位置に設けることができれば、原理的にはそ
の第１の凹面鏡２４から得られる平行光２３を高強度か
つ指向性に優れたものとできることになる。しかし、シ
ンクロトロンからのＳＯＲ光を利用する場合において
は、光源２１の近傍に第１の凹面鏡２４を配置するよう
なことは不可能であって、それらの間にはある程度の間
隔を確保せざるを得ず、このため、第１の凹面鏡２４に
より得られる平行光２３は十分な強度と指向性を有する
ものとはなり得ない。そこで、上記実施例のように、第
１の凹面鏡２４により得られた平行光２３を第２の凹面
鏡２７により一旦収束光２６に変換し、その後、第２の
凹面鏡２７の焦点位置２５の近傍において第３の凹面鏡
２９により改めて平行光２８に再変換することで、その
平行光２８を十分に高強度かつ指向性に優れたものとで
きるのである。
に接近する位置に設けることができれば、原理的にはそ
の第１の凹面鏡２４から得られる平行光２３を高強度か
つ指向性に優れたものとできることになる。しかし、シ
ンクロトロンからのＳＯＲ光を利用する場合において
は、光源２１の近傍に第１の凹面鏡２４を配置するよう
なことは不可能であって、それらの間にはある程度の間
隔を確保せざるを得ず、このため、第１の凹面鏡２４に
より得られる平行光２３は十分な強度と指向性を有する
ものとはなり得ない。そこで、上記実施例のように、第
１の凹面鏡２４により得られた平行光２３を第２の凹面
鏡２７により一旦収束光２６に変換し、その後、第２の
凹面鏡２７の焦点位置２５の近傍において第３の凹面鏡
２９により改めて平行光２８に再変換することで、その
平行光２８を十分に高強度かつ指向性に優れたものとで
きるのである。
【００１２】図２は上記光学系の他の使用例として、第
３の凹面鏡２９の後段に分光器（たとえば二結晶分光
器）３０を設けるようにしたものである。この場合は、
十分に絞り込まれた高強度かつ指向性に優れた平行光２
８を分光器３０に入射させることができるので、分光効
率に優れるとともに分光器３０の小型化を図ることがで
きる。
３の凹面鏡２９の後段に分光器（たとえば二結晶分光
器）３０を設けるようにしたものである。この場合は、
十分に絞り込まれた高強度かつ指向性に優れた平行光２
８を分光器３０に入射させることができるので、分光効
率に優れるとともに分光器３０の小型化を図ることがで
きる。
【００１３】また、必要であれば、第３の凹面鏡２９の
後段に、その第３の凹面鏡２９からの平行光２８を再び
収束光に変換する第４の凹面鏡を設けるとともに、その
第４の凹面鏡の焦点位置のごく近傍に収束光を平行光に
変換するための第５の凹面鏡を設けるように構成するこ
とが考えられ、さらに必要であれば同様に第６、第７・・
・の凹面鏡を設けることも考えられる。つまり、発散光
の平行光への変換、平行光の収束光への変換、その収束
光の平行光への再変換を多段に繰返すことにより、出射
光の強度と指向性を漸次高めて行くように構成しても良
い。
後段に、その第３の凹面鏡２９からの平行光２８を再び
収束光に変換する第４の凹面鏡を設けるとともに、その
第４の凹面鏡の焦点位置のごく近傍に収束光を平行光に
変換するための第５の凹面鏡を設けるように構成するこ
とが考えられ、さらに必要であれば同様に第６、第７・・
・の凹面鏡を設けることも考えられる。つまり、発散光
の平行光への変換、平行光の収束光への変換、その収束
光の平行光への再変換を多段に繰返すことにより、出射
光の強度と指向性を漸次高めて行くように構成しても良
い。
【００１４】
【発明の効果】以上で説明したように、本発明のＸ線光
学系は、発散光であるＸ線を平行光に変換する第１の凹
面鏡と、その第１の凹面鏡からの平行光を焦点位置にお
いて集光する収束光に変換する第２の凹面鏡と、その第
２の凹面鏡の焦点位置の近傍に配置されて第２の凹面鏡
からの収束光を平行光に再変換するための第３の凹面鏡
とを有するものであるから、発散光である入射Ｘ線を十
分に高強度かつ指向性に優れた平行光として出射させる
ことができるものであり、したがって、各種のＸ線利用
装置の光源としてシンクロトロンからのＳＯＲ光を利用
する場合に適用して特に好適である。
学系は、発散光であるＸ線を平行光に変換する第１の凹
面鏡と、その第１の凹面鏡からの平行光を焦点位置にお
いて集光する収束光に変換する第２の凹面鏡と、その第
２の凹面鏡の焦点位置の近傍に配置されて第２の凹面鏡
からの収束光を平行光に再変換するための第３の凹面鏡
とを有するものであるから、発散光である入射Ｘ線を十
分に高強度かつ指向性に優れた平行光として出射させる
ことができるものであり、したがって、各種のＸ線利用
装置の光源としてシンクロトロンからのＳＯＲ光を利用
する場合に適用して特に好適である。
【図１】本発明のＸ線光学系の一実施例を模式的に示す
図である。
図である。
【図２】同光学系の使用形態の他の例を示す図である。
【図３】シンクロトロンの概要を示す図である。
【図４】ＳＯＲ光を利用するＸ線実験装置の例を示す図
である。
である。
２１ 光源 ２２ Ｘ線（ＳＯＲ光） ２３ 平行光 ２４ 第１の凹面鏡 ２５ 焦点位置 ２６ 収束光 ２７ 第２の凹面鏡 ２８ 平行光 ２９ 第３の凹面鏡
Claims (1)
- 【請求項１】 光源からの発散光であるＸ線を反射して
平行光に変換するための第１の凹面鏡と、その第１の凹
面鏡の反射光である平行光を反射して焦点位置において
集光する収束光に変換するための第２の凹面鏡と、その
第２の凹面鏡の焦点位置の近傍に配置されて第２の凹面
鏡の反射光である収束光を反射して平行光に変換するた
めの第３の凹面鏡とを有することを特徴とするＸ線光学
系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35918391A JPH05180991A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | Ｘ線光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35918391A JPH05180991A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | Ｘ線光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05180991A true JPH05180991A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=18463176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35918391A Withdrawn JPH05180991A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | Ｘ線光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05180991A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100782796B1 (ko) * | 2006-10-31 | 2007-12-05 | 삼성전기주식회사 | 발진 주파수의 조정이 가능한 ｒｃ 발진회로와 그 발진방법 |
-
1991
- 1991-12-27 JP JP35918391A patent/JPH05180991A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100782796B1 (ko) * | 2006-10-31 | 2007-12-05 | 삼성전기주식회사 | 발진 주파수의 조정이 가능한 ｒｃ 발진회로와 그 발진방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6504901B1 (en) | X-ray focusing apparatus | |
| US20090041198A1 (en) | Highly collimated and temporally variable x-ray beams | |
| ATE394708T1 (de) | Vorrichtung zur erzeugung von extremem uv-licht und anwendung auf eine lithografiequelle mit extremer uv-strahlung | |
| JP2011516892A5 (ja) | ||
| US4118274A (en) | System for the production of plasma | |
| CN110199374A (zh) | 光学寻址的、热电子电子束装置 | |
| JPH05180991A (ja) | Ｘ線光学系 | |
| US11508548B2 (en) | Scanning electron microscope | |
| JP5454837B2 (ja) | 硬ｘ線ビーム走査装置および方法 | |
| JP2584490Y2 (ja) | シンクロトロンにおけるｓｏｒ光出射用窓装置 | |
| JPH05288899A (ja) | Ｘ線光学系 | |
| JP2009016119A (ja) | Ｘ線発生装置の波長変更装置および方法 | |
| JPH10170699A (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JPH1073698A (ja) | レーザプラズマｘ線用真空紫外分光器 | |
| JP3380877B2 (ja) | Ｘ線・シンクロトロン放射光の平行放射素子及び収束素子 | |
| JP2004227952A (ja) | Ｘ線発生装置及び発生方法 | |
| JPH06244000A (ja) | 粒子加速器のビームライン | |
| JP2005227058A (ja) | 細孔を用いた小型点ｘ線源 | |
| JPH082603Y2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JPH04305200A (ja) | 二結晶分光器を有する光学系 | |
| RU33830U1 (ru) | Источник коллимированного рентгеновского излучения | |
| JPH04206129A (ja) | Ｘ線源 | |
| JP2010025740A (ja) | Ｘ線集光装置 | |
| JP2004127641A (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JPH07151601A (ja) | 粒子加速器のビームモニタ方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |