JP2004127641A - X線発生装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】X線用光学素子に対する飛散粒子による悪影響を防止することができ、且つ、X線発生用標的材料をガスや液体、微粒子に加工する必要がない。
【解決手段】標的物質にパルスレーザー光を集光照射して標的物質をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置に関する。レーザープラズマ等の衝撃波発生手段により固体標的材料中に発生した衝撃波が真空もしくはガスの雰囲気中に解放される際に発生する標的材料の噴出物質を前記標的物質として利用する。標的物質の噴出位置において、噴出方向をX線用光学素子の設置位置方向と異なった角度にすることにより、該X線用光学素子が噴出した標的物質の影響を受けない配置にしたことを特徴としたX線発生装置を提供する。
【選択図】 図1
【解決手段】標的物質にパルスレーザー光を集光照射して標的物質をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置に関する。レーザープラズマ等の衝撃波発生手段により固体標的材料中に発生した衝撃波が真空もしくはガスの雰囲気中に解放される際に発生する標的材料の噴出物質を前記標的物質として利用する。標的物質の噴出位置において、噴出方向をX線用光学素子の設置位置方向と異なった角度にすることにより、該X線用光学素子が噴出した標的物質の影響を受けない配置にしたことを特徴としたX線発生装置を提供する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はX線露光装置、X線顕微鏡、X線分析装置等のX線装置のX線源として用いて好適なX線発生装置と、該X線発生装置を備えたX線装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
標的物質にパルスレーザー光を集光して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置、いわゆるレーザープラズマX線源は、高輝度でありながら小型であることから、巨大な電子蓄積リングを用いた放射光X線発生装置と異なり、X線露光装置、X線顕微鏡、X線分析装置等として生産現場や実験室サイズの検査分析用X線光源として注目されている。
【0003】
これらの利用目的においては、レーザー光が高効率でX線に変換された方が小型で実用性が高まるのは勿論のこと、輝度が高く、できるだけ点光源に近い方がX線発生装置の分解能や露光の一様性を向上させることができるため、高効率、高輝度で微小なスポットサイズの光源が求められている。この要請をレーザープラズマX線源で実現するためには標的物質の密度は高い方が良いところから、標的物質には固体が適している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、パルスレーザー光を固体標的物質に集光照射してプラズマ化した場合、プラズマおよびその近傍の標的物質から放出される飛散粒子が問題となる。標的物質が固体であるため、プラズマからのイオン状、原子状の飛散粒子はX線を捕集、転送するために配置されたX線反射鏡や窓材等のX線用光学素子の表面に析出して反射率や透過率を著しく損なうものであり、またプラズマ化する温度まで加熱されなかった周辺部の標的物質は大きな飛散粒子となり、衝突によリX線用光学素子を破損する。
【0005】
この問題を回避するためには、標的物質をガス状、液状、微粒子状にすることが考えられる(例えば、特許文献1,特許文献2参照)が、ガスや微粒子は固体に比べると大幅に密度が低く、液体もX線用光学素子の表面に析出しない揮発性物質でない限りはX線用光学素子の劣化を防止できないため、水や液化ガス等ごく限られた物質にしか適用できず、高い効率で有用な波長のX線に変換する多くの金属材料を液状とすることは困難である。
本発明は、これら固体の金属材料を標的物質として用いた場合にもX線用光学素子が劣化することのないX線発生装置を提供することを目的とする。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−023795号公報
【特許文献2】
特開2001−068296号公報
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、標的物質にパルスレーザー光を集光照射して標的物質をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置において、衝撃波発生手段により固体標的材料中に発生した衝撃波が固体標的材料中を伝播し、真空もしくはガスの雰囲気中に解放される際に発生する固体標的材料物質の噴出現象を利用して、前記標的物質を供給するX線発生装置を提供する。
【0008】
また、本発明は、衝撃波発生の手段としてあらかじめ別のパルスレーザー光を固体標的材料に照射することにより発生するレーザープラズマ衝撃波を利用することを特徴とするX線発生装置を提供する。
さらに、本発明は、標的物質の噴出位置において、噴出方向をX線用光学素子の設置位置方向と異なった角度にすることにより、該X線用光学素子が噴出した標的物質の影響を受けない配置にしたことを特徴としたX線発生装置を提供する。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を実施例に基づき図面を参照して説明する。
図1は本発明の実施例の概略構成図を示す。
図中、1は衝撃波発生用のパルスレーザー光、2は集光レンズ、3は固体標的材料、4は固体標的材料3から押し出され、噴出した標的物質、5はX線発生用パルスレーザー光、7はX線用光学素子、8は発生したX線、9は衝撃波発生用プラズマからの飛散粒子に対する障壁を表す。
【0010】
固体標的材料3は、公知のターゲット材と同じものでよく、例えば、金属,ガラス,シリコン等である。図1の構成は真空又は空気やヘリウムガスの雰囲気中に設置される。さらに、10はパルスレーザー光1によって生成された高温プラズマ、11は衝撃波、12は高温プラズマ10の飛散粒子、13は標的物質の飛散粒子、14は捕集されたX線を表す。
【0011】
衝撃波発生用のパルスレーザー光1を集光レンズ2を介して固体標的材料3の表面に集光照射する。このときの集光照射強度を10の13乗W/cm2程度の高強度とし、パルス幅を数nsとすることにより、固体標的材料3のパルスレーザー光1が照射された面側(表面側)からは固体標的材料3の高温プラズマ10が噴出し、その噴出の反作用により、固体標的材料3の内部に向かって衝撃波11が発生する。
【0012】
衝撃波11は固体標的材料内部を伝播し、衝撃波発生用のパルスレーザー光11を照射した面とは反対側(背面側)に到達する。このとき背面側からは固体標的材料3の物質が原子間相互の弾性結合から解放され、イオン状、原子状の標的物質4となって高密度で噴出する。この噴出した標的物質をX線発生用標的材料(ターゲット材)として使用する。
【0013】
図2は、X線発生用標的物質4が、衝撃発生用パルスレーザーにより発生した衝撃波によって固体標的材料3から噴出する状況を計算機で数値シミュレーションを行った結果の流線図を例示している。図の流線は材料物質の位置座標が時間とともに移動している状況を表している。衝撃波発生用の高強度パルスレーザー光1のパルス幅が27ns、固体標的材料が厚さ100μmのアルミニウム材料を使用した場合である。図の縦軸が固体標的材料3の厚さ(L)方向の空間を示し、横軸はレーザー光照射開始後の時間経過を示す。
【0014】
図2から、衝撃発生用パルスレーザー1の光照射後に衝撃波が固体標的材料3中を伝播し、背面から固体密度に近い高密度の物質が噴出することが分かる。図2の例では、レーザー光照射開始後30nsの時点で標的物質4は固体標的材料の背面から約26μm押し出されている。背面内でのこの噴出の空問領域は衝撃波が固体標的材料の表側に到達した領域に限られるので、衝撃波発生用のパルスレーザー光1の集光領域を制御することにより標的物質4の制御が可能である。この制御により、X線発生に必要な最適な量の粒子状物質をX線発生用標的物質として供給できる。
【0015】
また、余分な量の標的物質を無くすることにより、飛散粒子13の量を大幅に減少させることができる。一方で表面側では衝撃波を発生させるためのプラズマから大量の飛散粒子12が発生するが、これは図1中の障壁9で示すように物理的に障壁を設けることにより防ぐことができる。
【0016】
このようにして準備したX線発生用標的物質4に対して、X線発生用パルスレーザー光5を集光レンズ6を介して集光照射し、標的材料物質4をプラズマ化し、X線8を発生する。X線発生用パルスレーザー光5は必要最小限の体積しか持たない微小なX線発生用標的物質4をX線発生のために瞬聞的に高温に加熱できればよく、高パワー密度であってもパルスの時間幅が短ければエネルギーとしては小さいもので済ませることができる。
【0017】
衝撃波用パルスレーザー光1は固体標的材料3の表面に垂直に照射されているので、衝撃波は固体標的材料3の表面に垂直な方向11Aに進行する。噴出したX線発生用標的物質4は衝撃波11により加速されているため、固体標的材料3の背面と垂直な方向4Aで並進運動する。X線発生用標的物質4の飛散粒子13の移動方向はX線発生用パルスレーザー光5のエネルギーにより影響される。
【0018】
X線発生用パルスレーザー光5のエネルギーがこの並進運動の持つエネルギーに比べて大きくなければ、X線発生用標的物質4の飛散粒子13はX線発生用パルスレーザー光5のエネルギーによりレーザー光5の方向に少し偏向した方向13Aで並進運動を続ける。従って、ここで発生する飛散粒子13の大部分はこの並進運動の方向13Aで移動することになる。また、X線用パルスレーザー光5のエネルギー、衝撃波11のエネルギー、衝撃波11の方向11A、標的物質の噴出方向によって飛散粒子の方向13Aは制御される。
【0019】
図1に示したように、X線用光学素子7をこの並進運動が向かう方向13Aの空間範囲Zとは異なった位置に配置することにより、X線用光学素子7は飛散粒子の影響を免れることができる。つまり、標的物質の噴出位置において、その噴出方向をX線用光学素子7の設置位置方向と異なった角度にすることにより、該X線用光学素子が噴出した標的物質の影響を受けない配置にできる。X線用光学素子7によって捕集されたX線14は、本発明のX線発生装置の出力としてX線利用装置、X線照射装置等へ導かれる。
【0020】
なお、本実施例では、衝撃波発生手段はレーザープラズマ衝撃発生手段としたが、他の公知の衝撃波発生手段、爆薬,ガス圧銃,電磁力を利用したものを使用しても良い。又、レーザー光の集光にはレンズ2,6を用いたが、これらは反射鏡等、他の光学素子を用いても良く、またX線用光学素子7も図1に示した凹面鏡の形状に限定されるものではない。
【0021】
【発明の効果】
本発明によればX線発生装置としレーザープラズマX線源が本来有する小型、高効率、高輝度点光源といった特徴を損なうことなく、X線用光学素子に対する飛散粒子による悪影響を防止することができる。X線発生用標的材料をガスや液体、微粒子等に加工する必要はなく、X線発生用標的物質として通常固体である物質が使えるため、幅広い材料を選択肢に入れることができる。従って本発明によって、生産現場や実験室、検査室等で容易に使用できるX線発生装置を製作することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例のX線発生装置を示す概略構成図である。
【図2】本発明にかかるレーザープラズマ衝撃波により標的材料が噴出する状況を計算機で数値シミュレーションを行なって得られた結果の流線図である。
【符号の説明】
1 衝撃波発生用のパルスレーザー光
2 集光レンズ
3 固体標的材料
4 衝撃波噴出によって得られたX線発生用標的物質
5 X線発生用パルスレーザー光
6 集光レンズ
7 X線用光学素子
8 X線
9 衝撃波発生用プラズマからの飛散粒子に対する障壁
11 衝撃波
4A 標的材料物質の噴出方向
【発明の属する技術分野】
本発明はX線露光装置、X線顕微鏡、X線分析装置等のX線装置のX線源として用いて好適なX線発生装置と、該X線発生装置を備えたX線装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
標的物質にパルスレーザー光を集光して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置、いわゆるレーザープラズマX線源は、高輝度でありながら小型であることから、巨大な電子蓄積リングを用いた放射光X線発生装置と異なり、X線露光装置、X線顕微鏡、X線分析装置等として生産現場や実験室サイズの検査分析用X線光源として注目されている。
【0003】
これらの利用目的においては、レーザー光が高効率でX線に変換された方が小型で実用性が高まるのは勿論のこと、輝度が高く、できるだけ点光源に近い方がX線発生装置の分解能や露光の一様性を向上させることができるため、高効率、高輝度で微小なスポットサイズの光源が求められている。この要請をレーザープラズマX線源で実現するためには標的物質の密度は高い方が良いところから、標的物質には固体が適している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、パルスレーザー光を固体標的物質に集光照射してプラズマ化した場合、プラズマおよびその近傍の標的物質から放出される飛散粒子が問題となる。標的物質が固体であるため、プラズマからのイオン状、原子状の飛散粒子はX線を捕集、転送するために配置されたX線反射鏡や窓材等のX線用光学素子の表面に析出して反射率や透過率を著しく損なうものであり、またプラズマ化する温度まで加熱されなかった周辺部の標的物質は大きな飛散粒子となり、衝突によリX線用光学素子を破損する。
【0005】
この問題を回避するためには、標的物質をガス状、液状、微粒子状にすることが考えられる(例えば、特許文献1,特許文献2参照)が、ガスや微粒子は固体に比べると大幅に密度が低く、液体もX線用光学素子の表面に析出しない揮発性物質でない限りはX線用光学素子の劣化を防止できないため、水や液化ガス等ごく限られた物質にしか適用できず、高い効率で有用な波長のX線に変換する多くの金属材料を液状とすることは困難である。
本発明は、これら固体の金属材料を標的物質として用いた場合にもX線用光学素子が劣化することのないX線発生装置を提供することを目的とする。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−023795号公報
【特許文献2】
特開2001−068296号公報
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、標的物質にパルスレーザー光を集光照射して標的物質をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置において、衝撃波発生手段により固体標的材料中に発生した衝撃波が固体標的材料中を伝播し、真空もしくはガスの雰囲気中に解放される際に発生する固体標的材料物質の噴出現象を利用して、前記標的物質を供給するX線発生装置を提供する。
【0008】
また、本発明は、衝撃波発生の手段としてあらかじめ別のパルスレーザー光を固体標的材料に照射することにより発生するレーザープラズマ衝撃波を利用することを特徴とするX線発生装置を提供する。
さらに、本発明は、標的物質の噴出位置において、噴出方向をX線用光学素子の設置位置方向と異なった角度にすることにより、該X線用光学素子が噴出した標的物質の影響を受けない配置にしたことを特徴としたX線発生装置を提供する。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を実施例に基づき図面を参照して説明する。
図1は本発明の実施例の概略構成図を示す。
図中、1は衝撃波発生用のパルスレーザー光、2は集光レンズ、3は固体標的材料、4は固体標的材料3から押し出され、噴出した標的物質、5はX線発生用パルスレーザー光、7はX線用光学素子、8は発生したX線、9は衝撃波発生用プラズマからの飛散粒子に対する障壁を表す。
【0010】
固体標的材料3は、公知のターゲット材と同じものでよく、例えば、金属,ガラス,シリコン等である。図1の構成は真空又は空気やヘリウムガスの雰囲気中に設置される。さらに、10はパルスレーザー光1によって生成された高温プラズマ、11は衝撃波、12は高温プラズマ10の飛散粒子、13は標的物質の飛散粒子、14は捕集されたX線を表す。
【0011】
衝撃波発生用のパルスレーザー光1を集光レンズ2を介して固体標的材料3の表面に集光照射する。このときの集光照射強度を10の13乗W/cm2程度の高強度とし、パルス幅を数nsとすることにより、固体標的材料3のパルスレーザー光1が照射された面側(表面側)からは固体標的材料3の高温プラズマ10が噴出し、その噴出の反作用により、固体標的材料3の内部に向かって衝撃波11が発生する。
【0012】
衝撃波11は固体標的材料内部を伝播し、衝撃波発生用のパルスレーザー光11を照射した面とは反対側(背面側)に到達する。このとき背面側からは固体標的材料3の物質が原子間相互の弾性結合から解放され、イオン状、原子状の標的物質4となって高密度で噴出する。この噴出した標的物質をX線発生用標的材料(ターゲット材)として使用する。
【0013】
図2は、X線発生用標的物質4が、衝撃発生用パルスレーザーにより発生した衝撃波によって固体標的材料3から噴出する状況を計算機で数値シミュレーションを行った結果の流線図を例示している。図の流線は材料物質の位置座標が時間とともに移動している状況を表している。衝撃波発生用の高強度パルスレーザー光1のパルス幅が27ns、固体標的材料が厚さ100μmのアルミニウム材料を使用した場合である。図の縦軸が固体標的材料3の厚さ(L)方向の空間を示し、横軸はレーザー光照射開始後の時間経過を示す。
【0014】
図2から、衝撃発生用パルスレーザー1の光照射後に衝撃波が固体標的材料3中を伝播し、背面から固体密度に近い高密度の物質が噴出することが分かる。図2の例では、レーザー光照射開始後30nsの時点で標的物質4は固体標的材料の背面から約26μm押し出されている。背面内でのこの噴出の空問領域は衝撃波が固体標的材料の表側に到達した領域に限られるので、衝撃波発生用のパルスレーザー光1の集光領域を制御することにより標的物質4の制御が可能である。この制御により、X線発生に必要な最適な量の粒子状物質をX線発生用標的物質として供給できる。
【0015】
また、余分な量の標的物質を無くすることにより、飛散粒子13の量を大幅に減少させることができる。一方で表面側では衝撃波を発生させるためのプラズマから大量の飛散粒子12が発生するが、これは図1中の障壁9で示すように物理的に障壁を設けることにより防ぐことができる。
【0016】
このようにして準備したX線発生用標的物質4に対して、X線発生用パルスレーザー光5を集光レンズ6を介して集光照射し、標的材料物質4をプラズマ化し、X線8を発生する。X線発生用パルスレーザー光5は必要最小限の体積しか持たない微小なX線発生用標的物質4をX線発生のために瞬聞的に高温に加熱できればよく、高パワー密度であってもパルスの時間幅が短ければエネルギーとしては小さいもので済ませることができる。
【0017】
衝撃波用パルスレーザー光1は固体標的材料3の表面に垂直に照射されているので、衝撃波は固体標的材料3の表面に垂直な方向11Aに進行する。噴出したX線発生用標的物質4は衝撃波11により加速されているため、固体標的材料3の背面と垂直な方向4Aで並進運動する。X線発生用標的物質4の飛散粒子13の移動方向はX線発生用パルスレーザー光5のエネルギーにより影響される。
【0018】
X線発生用パルスレーザー光5のエネルギーがこの並進運動の持つエネルギーに比べて大きくなければ、X線発生用標的物質4の飛散粒子13はX線発生用パルスレーザー光5のエネルギーによりレーザー光5の方向に少し偏向した方向13Aで並進運動を続ける。従って、ここで発生する飛散粒子13の大部分はこの並進運動の方向13Aで移動することになる。また、X線用パルスレーザー光5のエネルギー、衝撃波11のエネルギー、衝撃波11の方向11A、標的物質の噴出方向によって飛散粒子の方向13Aは制御される。
【0019】
図1に示したように、X線用光学素子7をこの並進運動が向かう方向13Aの空間範囲Zとは異なった位置に配置することにより、X線用光学素子7は飛散粒子の影響を免れることができる。つまり、標的物質の噴出位置において、その噴出方向をX線用光学素子7の設置位置方向と異なった角度にすることにより、該X線用光学素子が噴出した標的物質の影響を受けない配置にできる。X線用光学素子7によって捕集されたX線14は、本発明のX線発生装置の出力としてX線利用装置、X線照射装置等へ導かれる。
【0020】
なお、本実施例では、衝撃波発生手段はレーザープラズマ衝撃発生手段としたが、他の公知の衝撃波発生手段、爆薬,ガス圧銃,電磁力を利用したものを使用しても良い。又、レーザー光の集光にはレンズ2,6を用いたが、これらは反射鏡等、他の光学素子を用いても良く、またX線用光学素子7も図1に示した凹面鏡の形状に限定されるものではない。
【0021】
【発明の効果】
本発明によればX線発生装置としレーザープラズマX線源が本来有する小型、高効率、高輝度点光源といった特徴を損なうことなく、X線用光学素子に対する飛散粒子による悪影響を防止することができる。X線発生用標的材料をガスや液体、微粒子等に加工する必要はなく、X線発生用標的物質として通常固体である物質が使えるため、幅広い材料を選択肢に入れることができる。従って本発明によって、生産現場や実験室、検査室等で容易に使用できるX線発生装置を製作することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例のX線発生装置を示す概略構成図である。
【図2】本発明にかかるレーザープラズマ衝撃波により標的材料が噴出する状況を計算機で数値シミュレーションを行なって得られた結果の流線図である。
【符号の説明】
1 衝撃波発生用のパルスレーザー光
2 集光レンズ
3 固体標的材料
4 衝撃波噴出によって得られたX線発生用標的物質
5 X線発生用パルスレーザー光
6 集光レンズ
7 X線用光学素子
8 X線
9 衝撃波発生用プラズマからの飛散粒子に対する障壁
11 衝撃波
4A 標的材料物質の噴出方向
Claims (3)
- 標的物質にパルスレーザー光を集光照射して標的物質をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を出力するX線発生装置において、
前記標的物質が、衝撃波発生手段により固体標的材料中に発生させられた衝撃波が固体標的材料中を伝播し、固体標的材料と真空もしくはガスの雰囲気との界面に達したとき、該衝撃波が真空もしくはガス雰囲気中に解放されることにより噴出した固体標的材料の物質であることを特徴とするX線発生装置。 - 衝撃波発生手段により発生させられる衝撃波が、別のパルスレーザー光を固体標的材料に照射して発生されるレーザープラズマ衝撃波であることを特徴とする請求項1記載のX線発生装置。
- 標的物質の噴出位置において、噴出方向をX線用光学素子の設置位置方向と異なった角度にすることにより、該X線用光学素子が噴出した標的物質の影響を受けない配置にしたことを特徴とする請求項1または請求項2のいずれか記載のX線発生装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002288426A JP3677548B2 (ja) | 2002-10-01 | 2002-10-01 | X線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2002288426A JP3677548B2 (ja) | 2002-10-01 | 2002-10-01 | X線発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2004127641A true JP2004127641A (ja) | 2004-04-22 |
JP3677548B2 JP3677548B2 (ja) | 2005-08-03 |
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ID=32280923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002288426A Expired - Lifetime JP3677548B2 (ja) | 2002-10-01 | 2002-10-01 | X線発生装置 |
Country Status (1)
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---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109085735A (zh) * | 2018-08-31 | 2018-12-25 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种爆炸箔飞片x射线动态成像系统 |
CN114577822A (zh) * | 2022-01-20 | 2022-06-03 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种辐射冲击靶以及在氙气中产生100km/s以上速度辐射冲击波的方法 |
-
2002
- 2002-10-01 JP JP2002288426A patent/JP3677548B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109085735A (zh) * | 2018-08-31 | 2018-12-25 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种爆炸箔飞片x射线动态成像系统 |
CN109085735B (zh) * | 2018-08-31 | 2024-04-09 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种爆炸箔飞片x射线动态成像系统 |
CN114577822A (zh) * | 2022-01-20 | 2022-06-03 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种辐射冲击靶以及在氙气中产生100km/s以上速度辐射冲击波的方法 |
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JP3677548B2 (ja) | 2005-08-03 |
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