JP2011516892A5 - - Google Patents
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Description
優れた性能を有するＸ線ビームは、多様なビーム調整光学系とマイクロフォーカス源と共に開発されている。これらのマイクロフォーカス源の代表的な焦点投影は、１００マイクロメートル未満で、１０マイクロメートルと同程度小さい。源技術と光学系技術の将来の開発は、より高い輝度とより小さい焦点サイズに動きがあるであろう。焦点サイズと焦点位置との安定は、分析的用途におけるＸ線ビームのために重大である。優れた性能に加えて、エネルギーをほとんど使わないマイクロフォーカス源は、運転費用がより安く、そして、環境問題がより少ないものである。密封管マイクロフォーカス源は、良い性能を提供するだけでなく、良い性能対コスト比率をも提供する。ビームシステムに基づくマイクロフォーカス源における代表的な光学系は、多層光学系、結晶光学系、全反射ミラー、単一キャピラリ光学系及びポリキャピラリ光学系を含む。光学系は、一次元光学系（１Ｄ光学系）と呼ばれる、一つの方向だけにＸ線を移行するように設計され、又は、二次元光学系（２Ｄ光学系）と呼ばれる、単一の相互作用、２つの相互作用、又は、多重相互作用を通じて、或いは、２つの垂直方向におけるＸ線を移行するように設計される可能性がある。高強度ビームのために、Ｘ線源に対する密結合は、大きな固体取込み角を得るために重要である。単色ビームを得るために、回折素子は、システムのキーとなる部分でなければならない。
Ｘ線分析装置１０は、Ｘ線源１２，導波路束光学系（例えば、ポリキャピラリ光学系）１４，集束光学系１６ａ，開口１８，試料２０及びＸ線検出器２２を含む。Ｘ線源１２は、高輝度回転アノードＸ線発生装置又はシールド管マイクロフォーカス源のような、研究ソースであっても良い。Ｘ線源１２は、一般に、電子ビーム集束装置２４と対象２６とを含んでいる。電子ビーム２８は、電子ビーム集束装置２４によって対象２６へ導かれる。
Claims (1)
- Ｘ線発生装置において、
拡散したＸ線照射を出力するＸ線照射のマイクロフォーカス源と、
前記マイクロフォーカス源からのＸ線照射を受け入れる入力と、平行、又は収束するＸ線ビームを出力するための出力とを有しており、該マイクロフォーカス源により発したＸ線照射を取り込む導波路束光学系と、
前記導波路束光学系から焦点に前記Ｘ線ビームを集束するための回折反射面を有する多層光学系と
を備えるＸ線発生装置。
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