JPH05179482A - 平版印刷版用支持体の封孔処理方法及び装置 - Google Patents
平版印刷版用支持体の封孔処理方法及び装置Info
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- JPH05179482A JPH05179482A JP3395192A JP3395192A JPH05179482A JP H05179482 A JPH05179482 A JP H05179482A JP 3395192 A JP3395192 A JP 3395192A JP 3395192 A JP3395192 A JP 3395192A JP H05179482 A JPH05179482 A JP H05179482A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 処理むらの発生を無くし、蒸気供給量を更に
節約し、反応速度を制御することが容易な、且つ処理時
間を変更出来る、平版印刷版用支持体の封孔処理方法及
び装置を提供する。 【構成】 印刷版用支持体１は表面処理を済ませた後、
蒸気封孔処理装置３内に水で封じた入口小槽部６のパス
ローラ８ａを経て、封孔処理室１１内に入る、封孔処理
室１１内には印刷版用支持体１を水蒸気で封孔させるに
必要な時間、該支持体が滞在出来るように封孔処理室内
の移動可能なパスローラ８ｂが、移動用フレームに軸支
されて複数本設けられている。又移動用フレーム１０と
封孔処理室下部のパスローラ８ｃとの間を蛇腹部９ｂで
接続し密封化してある。封孔処理室１１の下部には水槽
部１２が設けられ、その中の水を加熱し、蒸発させる加
熱手段１３が設けられている。
節約し、反応速度を制御することが容易な、且つ処理時
間を変更出来る、平版印刷版用支持体の封孔処理方法及
び装置を提供する。 【構成】 印刷版用支持体１は表面処理を済ませた後、
蒸気封孔処理装置３内に水で封じた入口小槽部６のパス
ローラ８ａを経て、封孔処理室１１内に入る、封孔処理
室１１内には印刷版用支持体１を水蒸気で封孔させるに
必要な時間、該支持体が滞在出来るように封孔処理室内
の移動可能なパスローラ８ｂが、移動用フレームに軸支
されて複数本設けられている。又移動用フレーム１０と
封孔処理室下部のパスローラ８ｃとの間を蛇腹部９ｂで
接続し密封化してある。封孔処理室１１の下部には水槽
部１２が設けられ、その中の水を加熱し、蒸発させる加
熱手段１３が設けられている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は平版印刷版用支持体の封
孔処理方法及び装置に関する、特にアルミニウム板に陽
極酸化皮膜を形成した後の平版印刷版用支持体を水蒸気
で封孔処理をする、又はアルミニウム板を染料で染色後
に水蒸気で封孔処理する方法及び装置に関するものであ
る。
孔処理方法及び装置に関する、特にアルミニウム板に陽
極酸化皮膜を形成した後の平版印刷版用支持体を水蒸気
で封孔処理をする、又はアルミニウム板を染料で染色後
に水蒸気で封孔処理する方法及び装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、平版印刷版用支持体（以後支持体
と称する）としてアルミニウム板（アルミニウム合金を
含む）を使用する場合、アルミニウム板に陽極酸化皮膜
を形成させるが、該支持体と感光組成物との密着を最適
なものとするために、陽極酸化皮膜をエッチングしたの
ち、水蒸気若しくは熱水で封孔処理をして、経時安定性
の良い、現像性の良好な、非画像部の汚れのない感光性
印刷版を与える支持体の封孔処理装置がある（特公昭５
６−１２５１８号公報参照）。この様な、水蒸気を用い
て支持体を連続的に封孔処理をする装置においては、図
２の相当する部分に示すように、蒸気供給ノズル２は支
持体の上下面に、支持体１に蒸気を直接吹き付ける方法
をとっている。又、支持体を水蒸気処理をする室の出入
口は、支持体表面に非接触の蒸気漏れ防止対策（シール
対策）を施している。支持体表面に非接触のシール装置
としては、支持体裏面をローラで支え、支持体表面の間
隙を出来るだけ狭くして、支持体表面に対向する面に排
気口を設け排気する装置（特開昭５８−１３１４７０号
公報参照）や、支持体出入口に支持体１の両面に無接触
のラビリンス構造のシール部分を設け、水蒸気の逃げを
出来るだけ少なくする装置等が使用されていた。しかし
ながら、上記の装置はいづれも （１） 出入口部に精度の高いシール設備を製作する必
要がある。 （２） 支持体のばたつきによる支持体への傷付き故障
の発生を防止するためには、隙間のクリアランスに限界
があり、漏れ防止の効果が得られない場合がある。 （３） 新旧支持体の接合部等、支持体の厚みや支持体
のばたつきの挙動の非定常な部分では、クリアランスを
増加させる設備を付帯させる必要があり、複雑で大掛か
りな設備となる。 （４） 蒸気使用量が必要以上に大量となる。 等の問題点を有していた。
と称する）としてアルミニウム板（アルミニウム合金を
含む）を使用する場合、アルミニウム板に陽極酸化皮膜
を形成させるが、該支持体と感光組成物との密着を最適
なものとするために、陽極酸化皮膜をエッチングしたの
ち、水蒸気若しくは熱水で封孔処理をして、経時安定性
の良い、現像性の良好な、非画像部の汚れのない感光性
印刷版を与える支持体の封孔処理装置がある（特公昭５
６−１２５１８号公報参照）。この様な、水蒸気を用い
て支持体を連続的に封孔処理をする装置においては、図
２の相当する部分に示すように、蒸気供給ノズル２は支
持体の上下面に、支持体１に蒸気を直接吹き付ける方法
をとっている。又、支持体を水蒸気処理をする室の出入
口は、支持体表面に非接触の蒸気漏れ防止対策（シール
対策）を施している。支持体表面に非接触のシール装置
としては、支持体裏面をローラで支え、支持体表面の間
隙を出来るだけ狭くして、支持体表面に対向する面に排
気口を設け排気する装置（特開昭５８−１３１４７０号
公報参照）や、支持体出入口に支持体１の両面に無接触
のラビリンス構造のシール部分を設け、水蒸気の逃げを
出来るだけ少なくする装置等が使用されていた。しかし
ながら、上記の装置はいづれも （１） 出入口部に精度の高いシール設備を製作する必
要がある。 （２） 支持体のばたつきによる支持体への傷付き故障
の発生を防止するためには、隙間のクリアランスに限界
があり、漏れ防止の効果が得られない場合がある。 （３） 新旧支持体の接合部等、支持体の厚みや支持体
のばたつきの挙動の非定常な部分では、クリアランスを
増加させる設備を付帯させる必要があり、複雑で大掛か
りな設備となる。 （４） 蒸気使用量が必要以上に大量となる。 等の問題点を有していた。
【０００３】本発明者は先に上記従来の問題点を解消
し、安価な設備で、支持体の厚みや、ばたつきに関係な
く、支持体に傷を付けることなく、蒸気使用量も必要な
量で済ますことの出来る出入口部を有する印刷版用支持
体の表面処理装置を提案した。それは、図３に示すよう
な、水蒸気を用い印刷版用支持体を連続的に表面処理す
る装置において、該印刷版用支持体が該装置外部と出入
する入口部，出口部の少なくとも一方に、該印刷版用支
持体がローラに支えられて通過するべく液体の小槽部を
設けたことを特徴とする印刷版用支持体の表面処理装
置、（特願平２−１０３０９１号）である。この装置に
より出入口に設けられた液体を有する小槽部の中をロー
ラに支持させて支持体を通すことにより、小槽部中の液
体によって本発明の装置の出入部はシールされ、支持体
は液体中を通過するためにキズ付きの心配なく、又クリ
アランスの心配もなくなった。
し、安価な設備で、支持体の厚みや、ばたつきに関係な
く、支持体に傷を付けることなく、蒸気使用量も必要な
量で済ますことの出来る出入口部を有する印刷版用支持
体の表面処理装置を提案した。それは、図３に示すよう
な、水蒸気を用い印刷版用支持体を連続的に表面処理す
る装置において、該印刷版用支持体が該装置外部と出入
する入口部，出口部の少なくとも一方に、該印刷版用支
持体がローラに支えられて通過するべく液体の小槽部を
設けたことを特徴とする印刷版用支持体の表面処理装
置、（特願平２−１０３０９１号）である。この装置に
より出入口に設けられた液体を有する小槽部の中をロー
ラに支持させて支持体を通すことにより、小槽部中の液
体によって本発明の装置の出入部はシールされ、支持体
は液体中を通過するためにキズ付きの心配なく、又クリ
アランスの心配もなくなった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術において蒸気供給ノズル２は支持体１の上下面に配
置され、支持体１に蒸気を直接吹き付ける方法をとって
いるために次の問題点を有していた。 （１） 従来方式では支持体上に封孔処理を均一に行な
うことが局所的な蒸気の状態の違いにより困難である。
又処理むらが発生する場合もある。 （２） 蒸気供給量が必要以上に多くなる。 （３） 反応速度を制御することが難しい。（処理部の
温度・圧力等をコントロールできない） （４） 製品の品種の違い等封孔性を変えたい時に封孔
処理室内長さが一定であるのでラインスピードを変化さ
せる必要があり、封孔処理室内の温度圧力を変えるため
には複雑で高価な設備が必要である。
技術において蒸気供給ノズル２は支持体１の上下面に配
置され、支持体１に蒸気を直接吹き付ける方法をとって
いるために次の問題点を有していた。 （１） 従来方式では支持体上に封孔処理を均一に行な
うことが局所的な蒸気の状態の違いにより困難である。
又処理むらが発生する場合もある。 （２） 蒸気供給量が必要以上に多くなる。 （３） 反応速度を制御することが難しい。（処理部の
温度・圧力等をコントロールできない） （４） 製品の品種の違い等封孔性を変えたい時に封孔
処理室内長さが一定であるのでラインスピードを変化さ
せる必要があり、封孔処理室内の温度圧力を変えるため
には複雑で高価な設備が必要である。
【０００５】本発明の目的は上記従来の問題点を解消
し、処理ムラの発生を無くし、蒸気供給量を更に節約
し、反応速度を制御することが容易な、且つ処理条件に
よって処理時間を変更出来る平版印刷版用支持体の封孔
処理方法及び装置を提供することにある。
し、処理ムラの発生を無くし、蒸気供給量を更に節約
し、反応速度を制御することが容易な、且つ処理条件に
よって処理時間を変更出来る平版印刷版用支持体の封孔
処理方法及び装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明の上記目
的は （１） 水蒸気を用いて平版印刷版用支持体の表面処理
後の面を封孔処理する方法において、封孔処理室内に設
けられた水槽内の水の温度を加熱し、それによって封孔
室内の温度を８０℃以上１０５℃以下にし、室内圧とし
て常圧に対し−５０〜３００ｍｍＡｑに保った状態の中
を、前記平版印刷版用支持体を通過させることを特徴と
する平版印刷版用支持体の封孔処理方法、（２） 水蒸
気を用いて平版印刷版用支持体の表面処理後の面を封孔
処理する方法において、封孔処理室内に設けられたパス
ローラのうち少くとも１本以上を上下に移動可能にし
て、処理速度に応じてパスローラ間の上記平版印刷版用
支持体の長さを可変にしたことを特徴とする平版印刷版
用支持体の封孔処理方法、（３） 水蒸気を用いて平版
印刷版用支持体の表面処理後の面を封孔処理する方法に
おいて、封孔処理室内の入口部小槽内の水の温度を４０
℃以上とすることを特徴とする前記（１）又は（２）記
載の平版印刷版用支持体の封孔処理方法、（４） 水蒸
気を用いて平版印刷版用支持体を連続的に封孔処理する
装置において、封孔処理室の下部に設けられた水槽部
と、該水槽部内の水を加熱・蒸発させる加熱手段と、前
記封孔処理室内の水槽上部の空間に設けられた印刷版用
支持体を支えるパスローラとを具備することを特徴とす
る平版印刷版用支持体の封孔処理装置、（５） 前記封
孔処理室上部のパスローラを、上下に移動する移動用フ
レームに軸支させ、該移動用フレームと封孔処理室下部
との間を蛇腹状の可撓性物質で接続し密封化したことを
特徴とする前記（４）記載の平版印刷版用支持体の封孔
処理装置、によって達成される。
的は （１） 水蒸気を用いて平版印刷版用支持体の表面処理
後の面を封孔処理する方法において、封孔処理室内に設
けられた水槽内の水の温度を加熱し、それによって封孔
室内の温度を８０℃以上１０５℃以下にし、室内圧とし
て常圧に対し−５０〜３００ｍｍＡｑに保った状態の中
を、前記平版印刷版用支持体を通過させることを特徴と
する平版印刷版用支持体の封孔処理方法、（２） 水蒸
気を用いて平版印刷版用支持体の表面処理後の面を封孔
処理する方法において、封孔処理室内に設けられたパス
ローラのうち少くとも１本以上を上下に移動可能にし
て、処理速度に応じてパスローラ間の上記平版印刷版用
支持体の長さを可変にしたことを特徴とする平版印刷版
用支持体の封孔処理方法、（３） 水蒸気を用いて平版
印刷版用支持体の表面処理後の面を封孔処理する方法に
おいて、封孔処理室内の入口部小槽内の水の温度を４０
℃以上とすることを特徴とする前記（１）又は（２）記
載の平版印刷版用支持体の封孔処理方法、（４） 水蒸
気を用いて平版印刷版用支持体を連続的に封孔処理する
装置において、封孔処理室の下部に設けられた水槽部
と、該水槽部内の水を加熱・蒸発させる加熱手段と、前
記封孔処理室内の水槽上部の空間に設けられた印刷版用
支持体を支えるパスローラとを具備することを特徴とす
る平版印刷版用支持体の封孔処理装置、（５） 前記封
孔処理室上部のパスローラを、上下に移動する移動用フ
レームに軸支させ、該移動用フレームと封孔処理室下部
との間を蛇腹状の可撓性物質で接続し密封化したことを
特徴とする前記（４）記載の平版印刷版用支持体の封孔
処理装置、によって達成される。
【０００７】本発明において封孔処理室内に設けられた
パスローラのうち少なくとも１本を移動可能にする方法
の具体的手段としては、単にパスローラを移動可能にす
るだけでは、パスローラのシャフトと、処理室壁面との
間で、複雑なシール機構を必要になるので、封孔処理室
上部のパスローラを、上下に移動する移動用フレームに
軸支させ、該移動用フレームと封孔処理室下部のパスロ
ーラとの間の壁を蛇腹状の可撓性物質で接続し、密封化
したものを用いることが好ましい。これによって処理室
内の支持体の収容長さを可変出来て、ラインスピードに
対応することが出来る。更に本発明において入口部小槽
内の水の温度を４０℃以上にする方法の具体的手段とし
ては、 処理室下部の小槽内に加熱ヒータを設置して温度の
自動制御を行う。 水温を検出し、その値により冷却媒体（冷水等）又
は加熱媒体（蒸気・電熱器等）を投入する。 一定量の温水を別の所で調製し小槽内に常時供給す
る等が考えられるが、上記のいずれの手段を用いてもよ
い。この手段によって処理室内に入る支持体の温度を高
く維持することとなり、処理室内における反応速度のむ
らを解消することが出来る。
パスローラのうち少なくとも１本を移動可能にする方法
の具体的手段としては、単にパスローラを移動可能にす
るだけでは、パスローラのシャフトと、処理室壁面との
間で、複雑なシール機構を必要になるので、封孔処理室
上部のパスローラを、上下に移動する移動用フレームに
軸支させ、該移動用フレームと封孔処理室下部のパスロ
ーラとの間の壁を蛇腹状の可撓性物質で接続し、密封化
したものを用いることが好ましい。これによって処理室
内の支持体の収容長さを可変出来て、ラインスピードに
対応することが出来る。更に本発明において入口部小槽
内の水の温度を４０℃以上にする方法の具体的手段とし
ては、 処理室下部の小槽内に加熱ヒータを設置して温度の
自動制御を行う。 水温を検出し、その値により冷却媒体（冷水等）又
は加熱媒体（蒸気・電熱器等）を投入する。 一定量の温水を別の所で調製し小槽内に常時供給す
る等が考えられるが、上記のいずれの手段を用いてもよ
い。この手段によって処理室内に入る支持体の温度を高
く維持することとなり、処理室内における反応速度のむ
らを解消することが出来る。
【０００８】本発明の実施態様を図を用いて説明する。
図２は本発明の理想的実施態様の一実施例の側面図であ
る。図１は図２の基本型を示す。図２において印刷版用
支持体１は表面処理を済ませた後、蒸気封孔処理装置３
内に、水で封じた入口小槽部６のパスローラ８ａを経
て、封孔処理室１１内に入る、封孔処理室１１内には印
刷版用支持体１を水蒸気で封孔させるに必要な時間、該
支持体が滞在できるように必要なパスローラが設けてあ
り、封孔処理室上部の移動可能なパスローラ８ｂは移動
用フレーム１０に軸支されて複数本設けられている。移
動用フレーム１０と封孔処理室下部のパスローラ８ｃと
の間の壁を蛇腹状の可撓性物質よりなる蛇腹部９ａで接
続し密封化にする。封孔処理室１１の下部には水槽部１
２が設けられ、その中には水が充満してあり、その中に
は水を加熱し、蒸発させる加熱手段１３が設けられてい
る。加熱手段は蒸気加熱器であっても電熱器であっても
よい。封孔処理室１１を稼働させる時には前記水の加熱
器が水面より蒸気を蒸発させ、封孔室内温度が８０℃以
上１０５℃以下においてかつ室内圧が常圧に対し−５０
〜３００ｍｍＡｑを保つ範囲において印刷版用支持体を
通過させる。入口小槽部６の水温は処理される支持体の
種類用途に応じて４０℃以上に保たれ、処理速度に応じ
て移動用フレーム１０が上下して、封孔処理室内の支持
体長を加減する。最適条件で封孔処理室内で封孔された
印刷版用支持体は、出口小槽部７内の水中のパスローラ
８ａを通って装置外に出る。その他自動調節装置とし
て、加熱手段１３を加熱量調整装置１４によって封孔処
理室内温度を８０〜１０５℃に調節するのに用い、封孔
処理室内の圧力を、常圧に対し−５０〜３００ｍｍＡｑ
に保つために蒸気排出調整装置１６がダンパーの調節を
行う。又、封孔処理室１１の壁の外面には熱放出を防
ぎ、壁内面に露滴を持たせない様に温度を保つため保温
１７が施されている。
図２は本発明の理想的実施態様の一実施例の側面図であ
る。図１は図２の基本型を示す。図２において印刷版用
支持体１は表面処理を済ませた後、蒸気封孔処理装置３
内に、水で封じた入口小槽部６のパスローラ８ａを経
て、封孔処理室１１内に入る、封孔処理室１１内には印
刷版用支持体１を水蒸気で封孔させるに必要な時間、該
支持体が滞在できるように必要なパスローラが設けてあ
り、封孔処理室上部の移動可能なパスローラ８ｂは移動
用フレーム１０に軸支されて複数本設けられている。移
動用フレーム１０と封孔処理室下部のパスローラ８ｃと
の間の壁を蛇腹状の可撓性物質よりなる蛇腹部９ａで接
続し密封化にする。封孔処理室１１の下部には水槽部１
２が設けられ、その中には水が充満してあり、その中に
は水を加熱し、蒸発させる加熱手段１３が設けられてい
る。加熱手段は蒸気加熱器であっても電熱器であっても
よい。封孔処理室１１を稼働させる時には前記水の加熱
器が水面より蒸気を蒸発させ、封孔室内温度が８０℃以
上１０５℃以下においてかつ室内圧が常圧に対し−５０
〜３００ｍｍＡｑを保つ範囲において印刷版用支持体を
通過させる。入口小槽部６の水温は処理される支持体の
種類用途に応じて４０℃以上に保たれ、処理速度に応じ
て移動用フレーム１０が上下して、封孔処理室内の支持
体長を加減する。最適条件で封孔処理室内で封孔された
印刷版用支持体は、出口小槽部７内の水中のパスローラ
８ａを通って装置外に出る。その他自動調節装置とし
て、加熱手段１３を加熱量調整装置１４によって封孔処
理室内温度を８０〜１０５℃に調節するのに用い、封孔
処理室内の圧力を、常圧に対し−５０〜３００ｍｍＡｑ
に保つために蒸気排出調整装置１６がダンパーの調節を
行う。又、封孔処理室１１の壁の外面には熱放出を防
ぎ、壁内面に露滴を持たせない様に温度を保つため保温
１７が施されている。
【０００９】
（実施例−１）アルミニウム支持体（厚み０．３ｍｍ，
幅１０００ｍｍ）に陽極酸化皮膜形成後、図１の装置で
蒸気封孔処理を実施。 封孔処理室内条件：温度 ９９．８〜１００．０℃（水
槽内の４点で測定） 圧力 ３０ｍｍＡｑ（常圧に対し） 使用蒸気量は約３０Ｋｇ／ｈｒであり、得られたアルミ
ニウム板にはむらは発生せず、アルミニウム板の幅方向
や長手方向における封孔性のばらつきは殆どなかった。
封孔処理室内の温度・圧力の値を自由に調節出来ること
により、封孔反応速度の調整が可能であった。
幅１０００ｍｍ）に陽極酸化皮膜形成後、図１の装置で
蒸気封孔処理を実施。 封孔処理室内条件：温度 ９９．８〜１００．０℃（水
槽内の４点で測定） 圧力 ３０ｍｍＡｑ（常圧に対し） 使用蒸気量は約３０Ｋｇ／ｈｒであり、得られたアルミ
ニウム板にはむらは発生せず、アルミニウム板の幅方向
や長手方向における封孔性のばらつきは殆どなかった。
封孔処理室内の温度・圧力の値を自由に調節出来ること
により、封孔反応速度の調整が可能であった。
【００１０】（比較例−１）実施例−１と同じ支持体に
対し、図３の装置で蒸気封孔処理を実施、 蒸気室条件：温度 ９７．８〜１０２．３℃（測定点に
よるばらつきあり） 圧力 ３０ｍｍＡｑ（常圧に対し） 使用蒸気量は約１８０Ｋｇ／ｈｒであり、得られたアル
ミニウム板には、封孔反応が進んだ部分と進んでいない
部分の差があることを示すむらが発生した。
対し、図３の装置で蒸気封孔処理を実施、 蒸気室条件：温度 ９７．８〜１０２．３℃（測定点に
よるばらつきあり） 圧力 ３０ｍｍＡｑ（常圧に対し） 使用蒸気量は約１８０Ｋｇ／ｈｒであり、得られたアル
ミニウム板には、封孔反応が進んだ部分と進んでいない
部分の差があることを示すむらが発生した。
【００１１】（実施例−２）図２に示す。処理室内のパ
スローラ５本のうち上側３本を移動する。上側３本のパ
スローラは両側の軸受部が各々同一の移動用フレーム１
０に固定されており、そのシャフトと処理室壁面との貫
通部には、通常のシール機構が採用されている。処理室
壁面（９ａ，９ｃ）は上下に分割されており、その間を
耐熱性の蛇腹状の物体蛇腹部９ｂで接続されている。移
動用フレーム１０は上下動作機構（図示せず）に接続さ
れている。例えば、処理長を短縮する場合には、上下動
作機構を作動させ、移動用フレーム１０を下降させる。
移動用フレームの下降に伴い、処理室上部壁面及び上側
３本のパスローラが下降し、蛇腹部は収縮し、処理長の
短縮化が完了する。これによって処理速度に対する対応
が自由に調節出来るようになった。
スローラ５本のうち上側３本を移動する。上側３本のパ
スローラは両側の軸受部が各々同一の移動用フレーム１
０に固定されており、そのシャフトと処理室壁面との貫
通部には、通常のシール機構が採用されている。処理室
壁面（９ａ，９ｃ）は上下に分割されており、その間を
耐熱性の蛇腹状の物体蛇腹部９ｂで接続されている。移
動用フレーム１０は上下動作機構（図示せず）に接続さ
れている。例えば、処理長を短縮する場合には、上下動
作機構を作動させ、移動用フレーム１０を下降させる。
移動用フレームの下降に伴い、処理室上部壁面及び上側
３本のパスローラが下降し、蛇腹部は収縮し、処理長の
短縮化が完了する。これによって処理速度に対する対応
が自由に調節出来るようになった。
【００１２】粗面化されたアルミニウム支持体に陽極酸
化皮膜を形成後、図２の装置で封孔処理を実施した。ア
ルミニウム支持体の厚み・幅，入口小槽部６内の水の温
度を変えて処理室内温度及び封孔処理性（残色性能）を
調べた。その結果は表１に示すとおりである。
化皮膜を形成後、図２の装置で封孔処理を実施した。ア
ルミニウム支持体の厚み・幅，入口小槽部６内の水の温
度を変えて処理室内温度及び封孔処理性（残色性能）を
調べた。その結果は表１に示すとおりである。
【００１３】
【表１】
【００１４】表１の結果から、支持体のサイズが厚み，
幅のどちらか、又は両方において増え、結果的に質量が
増加した時、温度が比較的低い状態では、残色性能が不
良になり、処理室内温度が低めの時は入口小槽水温が３
０℃では不充分である結果が出ている。したがって入口
小槽水温は４０℃以上が好ましい。又残色性能が良好だ
った支持体には、むらは生じなかった。この際の使用蒸
気量は、約８０ｋｇ／ｈｒ以下であった。
幅のどちらか、又は両方において増え、結果的に質量が
増加した時、温度が比較的低い状態では、残色性能が不
良になり、処理室内温度が低めの時は入口小槽水温が３
０℃では不充分である結果が出ている。したがって入口
小槽水温は４０℃以上が好ましい。又残色性能が良好だ
った支持体には、むらは生じなかった。この際の使用蒸
気量は、約８０ｋｇ／ｈｒ以下であった。
【００１５】（比較例−２）粗面化されたアルミニウム
支持体に陽極酸化皮膜を形成後、図３の装置で封孔処理
を実施した。処理室内温度は９５〜１０３℃の範囲で場
所によるばらつきがあった。使用蒸気量は約４００ｋｇ
／ｈｒ。得られた支持体にはむらが生じていた。
支持体に陽極酸化皮膜を形成後、図３の装置で封孔処理
を実施した。処理室内温度は９５〜１０３℃の範囲で場
所によるばらつきがあった。使用蒸気量は約４００ｋｇ
／ｈｒ。得られた支持体にはむらが生じていた。
【００１６】
【発明の効果】本発明の平版印刷版用支持体の封孔処理
方法及び装置により、 支持体の全幅・全長にわたって均一に封孔処理がで
き、処理ムラ等の発生もない。 封孔処理室内の温度分布が小さい。 封孔処理室内の温度・圧力を所望の値に設定でき、
反応速度を制御できる。 必要最少限のエネルギー供給量で良い。 水より蒸発した純粋な水蒸気で処理することができ
るので、配管内を通って来た蒸気を直接吹付ける時の不
純物の混入による反応が阻害されることがない。 封孔処理室内の凝縮水が、水槽部内の水として再度
使用され、ユーティリティーの利用効率が非常に良い。 封孔処理室内の支持体の長さを可変出来ることによ
り、ラインスピードを変えることなしに処理長を変える
ことができるので、所望の封孔処理性能が得られる。 封孔処理室内の入口小槽部内の水の温度を４０℃以
上に調節することにより支持体の温度を調節することが
出来て、支持体の幅・厚みに関係なく、処理室内の温度
を安定させることが可能となり、均一な処理が実施で
き、処理ムラが発生する懸念が無くなった。
方法及び装置により、 支持体の全幅・全長にわたって均一に封孔処理がで
き、処理ムラ等の発生もない。 封孔処理室内の温度分布が小さい。 封孔処理室内の温度・圧力を所望の値に設定でき、
反応速度を制御できる。 必要最少限のエネルギー供給量で良い。 水より蒸発した純粋な水蒸気で処理することができ
るので、配管内を通って来た蒸気を直接吹付ける時の不
純物の混入による反応が阻害されることがない。 封孔処理室内の凝縮水が、水槽部内の水として再度
使用され、ユーティリティーの利用効率が非常に良い。 封孔処理室内の支持体の長さを可変出来ることによ
り、ラインスピードを変えることなしに処理長を変える
ことができるので、所望の封孔処理性能が得られる。 封孔処理室内の入口小槽部内の水の温度を４０℃以
上に調節することにより支持体の温度を調節することが
出来て、支持体の幅・厚みに関係なく、処理室内の温度
を安定させることが可能となり、均一な処理が実施で
き、処理ムラが発生する懸念が無くなった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の封孔処理方法及び装置の一実施例の概
略側面図
略側面図
【図２】本発明の封孔処理方法及び装置の他の実施例の
概略側面図
概略側面図
【図３】従来の封孔処理方法及び装置の一例の概略側面
図
図
１ 平版印刷版用支持体 ２ 蒸気供給ノズル ３ 蒸気封孔処理装置 ４ 入口部 ５ 出口部 ６ 入口小槽部 ７ 出口小槽部 ８ａ，８ｂ，８ｃ パスローラ ９ａ，９ｃ 壁面 ９ｂ 蛇腹部 １０ 移動用フレーム １１ 封孔処理室 １２ 水槽部 １３ 加熱手段 １４ 加熱量調整装置 １５ 蒸気排出機構 １６ 排出量調整装置 １７ 保温
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年９月３０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００２】
【従来の技術】従来、平版印刷版用支持体（以後支持体
と称する）としてアルミニウム板（アルミニウム合金を
含む）を使用する場合、アルミニウム板に陽極酸化皮膜
を形成させるが、該支持体と感光組成物との密着を最適
なものとするために、陽極酸化皮膜をエッチングしたの
ち、水蒸気若しくは熱水で封孔処理をして、経時安定性
の良い、現像性の良好な、非画像部の汚れのない感光性
印刷版を与える支持体の封孔処理装置がある（特公昭５
６−１２５１８号公報参照）。この様な、水蒸気を用い
て支持体を連続的に封孔処理をする装置においては、図
３の相当する部分に示すように、蒸気供給ノズル２は支
持体の上下面に配置され、支持体１に蒸気を直接吹き付
ける方法をとっている。又、支持体を水蒸気処理をする
室の出入口は、支持体表面に非接触の蒸気漏れ防止対策
（シール対策）を施している。支持体表面に非接触のシ
ール装置としては、支持体裏面をローラで支え、支持体
表面の間隙を出来るだけ狭くして、支持体表面に対向す
る面に排気口を設け排気する装置（特開昭５８−１３１
４７０号公報参照）や、支持体出入口に支持体１の両面
に無接触のラビリンス構造のシール部分を設け、水蒸気
の逃げを出来るだけ少なくする装置等が使用されてい
た。しかしながら、上記の装置はいづれも （１） 出入口部に精度の高いシール設備を製作する必
要がある。 （２） 支持体のばたつきによる支持体への傷付き故障
の発生を防止するためには、隙間のクリアランスに限界
があり、漏れ防止の効果が得られない場合がある。 （３） 新旧支持体の接合部等、支持体の厚みや支持体
のばたつきの挙動の非定常な部分では、クリアランスを
増加させる設備を付帯させる必要があり、複雑で大掛か
りな設備となる。 （４） 蒸気使用量が必要以上に大量となる。 等の問題点を有していた。
と称する）としてアルミニウム板（アルミニウム合金を
含む）を使用する場合、アルミニウム板に陽極酸化皮膜
を形成させるが、該支持体と感光組成物との密着を最適
なものとするために、陽極酸化皮膜をエッチングしたの
ち、水蒸気若しくは熱水で封孔処理をして、経時安定性
の良い、現像性の良好な、非画像部の汚れのない感光性
印刷版を与える支持体の封孔処理装置がある（特公昭５
６−１２５１８号公報参照）。この様な、水蒸気を用い
て支持体を連続的に封孔処理をする装置においては、図
３の相当する部分に示すように、蒸気供給ノズル２は支
持体の上下面に配置され、支持体１に蒸気を直接吹き付
ける方法をとっている。又、支持体を水蒸気処理をする
室の出入口は、支持体表面に非接触の蒸気漏れ防止対策
（シール対策）を施している。支持体表面に非接触のシ
ール装置としては、支持体裏面をローラで支え、支持体
表面の間隙を出来るだけ狭くして、支持体表面に対向す
る面に排気口を設け排気する装置（特開昭５８−１３１
４７０号公報参照）や、支持体出入口に支持体１の両面
に無接触のラビリンス構造のシール部分を設け、水蒸気
の逃げを出来るだけ少なくする装置等が使用されてい
た。しかしながら、上記の装置はいづれも （１） 出入口部に精度の高いシール設備を製作する必
要がある。 （２） 支持体のばたつきによる支持体への傷付き故障
の発生を防止するためには、隙間のクリアランスに限界
があり、漏れ防止の効果が得られない場合がある。 （３） 新旧支持体の接合部等、支持体の厚みや支持体
のばたつきの挙動の非定常な部分では、クリアランスを
増加させる設備を付帯させる必要があり、複雑で大掛か
りな設備となる。 （４） 蒸気使用量が必要以上に大量となる。 等の問題点を有していた。
Claims (5)
- 【請求項１】 水蒸気を用いて平版印刷版用支持体の表
面処理後の面を封孔処理する方法において、封孔処理室
内に設けられた水槽内の水の温度を加熱し、それによっ
て封孔室内の温度を８０℃以上１０５℃以下にし、室内
圧として常圧に対し−５０〜３００ｍｍＡｑに保った状
態の中を、前記平版印刷版用支持体を通過させることを
特徴とする平版印刷版用支持体の封孔処理方法。 - 【請求項２】 水蒸気を用いて平版印刷版用支持体の表
面処理後の面を封孔処理する方法において、封孔処理室
内に設けられたパスローラのうち少くとも１本以上を上
下に移動可能にして、処理速度に応じてパスローラ間の
上記平版印刷版用支持体の長さを可変にしたことを特徴
とする平版印刷版用支持体の封孔処理方法。 - 【請求項３】 水蒸気を用いて平版印刷版用支持体の表
面処理後の面を封孔処理する方法において、封孔処理室
内の入口部小槽内の水の温度を４０℃以上とすることを
特徴とする請求項１又は２記載の平版印刷版用支持体の
封孔処理方法。 - 【請求項４】 水蒸気を用いて平版印刷版用支持体を連
続的に封孔処理する装置において、封孔処理室の下部に
設けられた水槽部と、該水槽部内の水を加熱・蒸発させ
る加熱手段と、前記封孔処理室内の水槽上部の空間に設
けられた印刷版用支持体を支えるパスローラとを具備す
ることを特徴とする平版印刷版用支持体の封孔処理装
置。 - 【請求項５】 前記封孔処理室上部のパスローラを、上
下に移動する移動用フレームに軸支させ、該移動用フレ
ームと封孔処理室下部との間を蛇腹状の可撓性物質で接
続し密封化したことを特徴とする請求項４記載の平版印
刷版用支持体の封孔処理装置。
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
| JP4033951A JP2767727B2 (ja) | 1991-11-05 | 1992-01-27 | 平版印刷版用支持体の封孔処理方法及び装置 |
| DE1992609001 DE69209001T2 (de) | 1991-11-05 | 1992-11-04 | Verfahren zur Dampfbehandlung eines Druckplattenträgers und Gerät dafür |
| EP19920118901 EP0541068B1 (en) | 1991-11-05 | 1992-11-04 | Steam treatment method for a planographic printing plate support and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-315245 | 1991-11-05 | ||
| JP31524591 | 1991-11-05 | ||
| JP4033951A JP2767727B2 (ja) | 1991-11-05 | 1992-01-27 | 平版印刷版用支持体の封孔処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05179482A true JPH05179482A (ja) | 1993-07-20 |
| JP2767727B2 JP2767727B2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=26372726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4033951A Expired - Lifetime JP2767727B2 (ja) | 1991-11-05 | 1992-01-27 | 平版印刷版用支持体の封孔処理方法及び装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0541068B1 (ja) |
| JP (1) | JP2767727B2 (ja) |
| DE (1) | DE69209001T2 (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1516744A2 (en) | 2003-09-19 | 2005-03-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Aluminium alloy blank for lithographic printing plate and support for lithographic printing plate |
| EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
| WO2009041660A1 (ja) | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Fujifilm Corporation | 太陽電池用基板および太陽電池 |
| WO2009041657A1 (ja) | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Fujifilm Corporation | 太陽電池用基板および太陽電池 |
| WO2009072546A1 (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-11 | Ulvac, Inc. | 保護膜製造方法 |
| EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
| WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
| WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| WO2011078010A1 (ja) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁基板、絶縁基板の製造方法、配線の形成方法、配線基板および発光素子 |
| EP2384100A2 (en) | 2010-04-28 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Insulated light-reflective substrate |
| EP2420869A2 (en) | 2010-08-16 | 2012-02-22 | Fujifilm Corporation | Radiation reflection plate for LED |
| EP2434592A2 (en) | 2010-09-24 | 2012-03-28 | Fujifilm Corporation | Anisotropically conductive member |
| WO2012133173A1 (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 発光素子用反射基板およびその製造方法 |
| WO2013005717A1 (ja) | 2011-07-04 | 2013-01-10 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁反射基板およびその製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0674230B1 (en) * | 1994-03-25 | 1999-08-18 | Agfa-Gevaert N.V. | Apparatus and method for making a lithographic offset plate by the silver salt diffusion transfer process |
Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5612518A (en) * | 1979-06-29 | 1981-02-06 | Thomson Csf | Hydrohoning |
| JPS6118472A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-27 | Tateyama Alum Kogyo Kk | アルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理方法 |
| JPH044194A (ja) * | 1990-04-20 | 1992-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 印刷版用支持体の表面処理装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4116695A (en) * | 1974-09-12 | 1978-09-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a support for a printing plate |
| US4416123A (en) * | 1980-09-16 | 1983-11-22 | Sando Iron Works Co., Ltd. | Apparatus for wet heat treating a textile product |
| US4472950A (en) * | 1982-02-12 | 1984-09-25 | Sando Iron Works Co., Ltd. | Apparatus for wet heat treating a cloth continuously |
-
1992
- 1992-01-27 JP JP4033951A patent/JP2767727B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-04 EP EP19920118901 patent/EP0541068B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-04 DE DE1992609001 patent/DE69209001T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
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| WO2009072546A1 (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-11 | Ulvac, Inc. | 保護膜製造方法 |
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| EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
| WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
| WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| WO2011078010A1 (ja) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁基板、絶縁基板の製造方法、配線の形成方法、配線基板および発光素子 |
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| EP2420869A2 (en) | 2010-08-16 | 2012-02-22 | Fujifilm Corporation | Radiation reflection plate for LED |
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| WO2012133173A1 (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 発光素子用反射基板およびその製造方法 |
| WO2013005717A1 (ja) | 2011-07-04 | 2013-01-10 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁反射基板およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0541068A1 (en) | 1993-05-12 |
| EP0541068B1 (en) | 1996-03-13 |
| DE69209001T2 (de) | 1996-07-25 |
| JP2767727B2 (ja) | 1998-06-18 |
| DE69209001D1 (de) | 1996-04-18 |
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