JPH05179446A - 帯状のサブストレートを連続的に被覆する装置 - Google Patents

帯状のサブストレートを連続的に被覆する装置

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JPH05179446A
JPH05179446A JP4167402A JP16740292A JPH05179446A JP H05179446 A JPH05179446 A JP H05179446A JP 4167402 A JP4167402 A JP 4167402A JP 16740292 A JP16740292 A JP 16740292A JP H05179446 A JPH05179446 A JP H05179446A
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JP
Japan
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evaporation chamber
coating
cavities
substrate
area
Prior art date
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Pending
Application number
JP4167402A
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English (en)
Inventor
Helmut Grimm
グリム ヘルムート
Klemens Ruebsam
リュープザーム クレメンス
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Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
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Publication date
Application filed by Leybold AG filed Critical Leybold AG
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

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Abstract

(57)【要約】 【発明の目的】 真空被覆室内で帯状のサブストレート
を連続的に被覆する装置であって、サブストレートの走
行方向に沿って互いに平行にほぼ同じ間隔で配置されか
つキャビティを備え1つの蒸発室容器列を形成しかつ導
電性のセラミックから成るほぼ同じ大きさ及び構造の複
数の蒸発室容器を有しており、蒸着線材を連続供給する
ようになっている形式のものにおいて、個々のソースの
相互作用を小さくし、これによって被覆均一性を改善し
て、付加的な構成手段及びコストなしに著しく改善され
た被覆品質を得るようにする。 【発明の構成】 キャビティKの面積が蒸発室容器1の
面積よりも著しく小さく構成してあり、かつ隣接の両方
の蒸発室容器のキャビティが互いにずらして配置され
て、かつサブストレートの走行方向Aに対して横方向に
延びる狭い1つの被覆区域Bをオーバラップさせてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空被覆室内で帯状の
サブストレートを連続的に被覆する装置であって、サブ
ストレートの走行方向に沿って互いに平行にほぼ同じ間
隔で配置されかつキャビティを備えていて1つの蒸発室
容器列を形成するほぼ同じ大きさ及び構造の複数の蒸発
室容器を有しており、蒸発室容器が全体的に導電性のセ
ラミックから成っていてかつ直接的な通電によって加熱
可能であり、蒸着しようとする線材を蒸発室容器へ連続
的に供給するための装置が設けられている形式のものに
関する。
【0002】
【従来の技術】真空被覆室内で帯状のサブストレートを
連続的に被覆する前記形式の装置は、ドイツ連邦共和国
特許第4027034号公報により公知である。
【0003】さらに、被覆しようとするサブストレート
にできるだけ均一な被覆厚さを達成するために、蒸発室
容器に相応する室を2列若しくはそれ以上の列にずらし
て配置し、室を側方から見て互いにオーバラップさせ
て、蒸発隙間を生ぜしめないようにする装置がドイツ連
邦共和国特許第970246号公報により公知である。
【0004】帯状のサブストレートを連続的に蒸着させ
る公知の装置(フランス国特許公開第2052433号
公報)においては、蒸発器として複数の蒸発室容器を設
けてあり、蒸発室容器がサブストレートの走行方向に対
して垂直に配置されていて、連続的に運動可能であっ
て、ソース材料で補充される。個々の蒸発室容器の加熱
は個別に調節可能である。このような蒸発室容器は欠点
として線材の形で供給される金属の蒸発には特に適して
いない。
【0005】さらに帯状のサブストレートを連続的に蒸
着させる公知の装置(日本国特開平1−219157
号)においては、複数の蒸発室容器が互いに同じ間隔を
置いてサブストレート走行方向に配置されていて、直接
的な通電によって加熱可能である。
【0006】前述の公知の装置はすべて次のような欠点
を有しており、すなわち個々のソースの蒸発室容器のオ
ーバラップによって、被覆しようとする帯材に不均一な
層分布が生じる。このような層分布は理想的な場合でも
蒸発室容器上で最大若しくは蒸発室容器間で最小の波形
の分布である。達成される最良の層均一性は最大の振幅
と最小の振幅によって規定される。振幅自体は個々のソ
ースの幾何学的な配置及びエミッション特性(分布
率)、並びに個々のソースの相互作用に関連している。
【0007】ドイツ連邦共和国特許第970246号公
報に記載の前述の装置においては、欠点として最大3m
の被覆幅で1μm/sec を越える通常の被覆率の高率被
覆に対する選択性が得られない。それというのは、連続
的な線材供給が不可能であり、線材の蒸着のための必要
なエネルギ供給が技術的に最も問題であるからである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、個々
のソースの相互作用を小さくし、これによって被覆均一
性を改善して、付加的な構成手段及びコストなしに著し
く改善された被覆品質を得るようにすることである。さ
らに、蒸発室容器の保持を簡単にすることである。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題を達成するため
に本発明の構成では、キャビティの面積が蒸発室容器の
面積よりも著しく小さく、有利には1:2の比で構成さ
れており、かつ隣接する両方の蒸発室容器のキャビティ
が互いにずらして配置されていて、かつサブストレート
の走行方向に対して横方向に延びる狭い1つの被覆区域
をオーバラップさせている。
【0010】本発明の有利な構成では被覆区域の幅が零
と2×aとの間の範囲にあり、この場合2×aが蒸発室
容器の長さの半分よりも小さくなっている。
【0011】
【作用効果】キャビティをずらして配置したことによ
り、蒸気原子の相互の衝突の回数(蒸気原子の自由な運
動長さはほぼ3mmである)、ひいては相互作用が減少
せしめられる。これによって、蒸発室容器上で最大若し
くは蒸発室容器間で最小の偏平な波形の高密度分布が行
われ、ひいては蒸着しようちする被覆層の均一性が改善
される。被覆層の経過は、先行技術を開示するドイツ連
邦共和国特許第4027034号公報にすでに記載され
ているように、1つの数式で表される。
【0012】
【実施例】図面に示すように、方形の蒸発室容器1,
1′,1″,・・は上面に同じく方形の凹所を有してお
り、この凹所は以下キャビティKと呼ぶ。蒸発室容器
1,1′,1″,・・は端面で、ほぼ円形の緊締片2,
2′,2″,・・によって保持されており、蒸発室容器
の縦軸線L,L′,L″,・・が互いに所定の間隔Xを
置いてかつ互いに平行に延びるように配置されている。
個別の蒸発室容器1,1′,1″,・・の横軸線は、す
べての蒸発室容器1,1′,1″・・、ひいては蒸発室
容器列4の共通の中心線3と合致している。被覆しよう
とする帯材は蒸発室容器列の中心線3に対して垂直に帯
材走行方向Aで蒸発室容器列を越えて運動可能である。
【0013】蒸発室容器1,1′,1″,・・のキャビ
ティKは横軸線を蒸発室容器列の中心線3から所定の距
離aだけ交互にずらされており、この場合しかしながら
すべてのキャビティKはハッチングして示す狭い1つの
被覆区域Bを互いにオーバラップさせており、この狭い
被覆区域は帯材走行方向Aに対して横方向に延びてい
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】Al・被覆のための蒸発室容器の概略的平面
図。
【符号の説明】
1,1′,1″ 蒸発室容器、 2,2′,2″ 緊
締片、 3 中心線、 4 蒸発室容器列、 K
キャビティ、 B 被覆区域

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空被覆室内で帯状のサブストレートを
    連続的に被覆する装置であって、サブストレートの走行
    方向(A)に沿って互いに平行にほぼ同じ間隔で配置さ
    れかつキャビティ(K)を備えていて1つの蒸発室容器
    列を形成するほぼ同じ大きさ及び構造の複数の蒸発室容
    器(1,1′,1″)を有しており、蒸発室容器(1,
    1′,1″)が全体的に導電性のセラミックから成って
    いてかつ直接的な通電によって加熱可能であり、蒸着し
    ようとする線材を蒸発室容器へ連続的に供給するための
    装置が設けられている形式のものにおいて、キャビティ
    (K)の面積が蒸発室容器(1,1′,1″)の面積よ
    りも著しく小さく、有利には1:2の比で構成されてお
    り、かつ隣接する両方の蒸発室容器(1,1′,1″)
    のキャビティ(K)が互いにずらして配置されていて、
    かつサブストレートの走行方向(A)に対して横方向に
    延びる狭い1つの被覆区域(B)をオーバラップさせて
    いることを特徴とする、帯状のサブストレートを連続的
    に被覆する装置。
  2. 【請求項2】 被覆区域(B)の幅が零と2×aとの間
    であり、この場合2×aが有利には蒸発室容器(1,
    1′,1″)の長さの半分よりも小さくなっている請求
    項1記載の装置。
JP4167402A 1991-06-25 1992-06-25 帯状のサブストレートを連続的に被覆する装置 Pending JPH05179446A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4120910A DE4120910A1 (de) 1990-08-27 1991-06-25 Vorrichtung zur laufenden beschichtung von bandfoermigen substraten
DE4120910.9 1991-06-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05179446A true JPH05179446A (ja) 1993-07-20

Family

ID=6434677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4167402A Pending JPH05179446A (ja) 1991-06-25 1992-06-25 帯状のサブストレートを連続的に被覆する装置

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP0520133B1 (ja)
JP (1) JPH05179446A (ja)
KR (1) KR960002118B1 (ja)
DE (2) DE4120910A1 (ja)
ES (1) ES2073790T3 (ja)
IT (1) IT222135Z2 (ja)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE970246C (de) * 1948-10-02 1958-08-28 Siemens Ag Vorrichtung zur laufenden Bedampfung endloser Gebilde
DE3615487A1 (de) * 1986-05-07 1987-11-19 Helmuth Schmoock Vorrichtung zur gleichmaessigen metallisierung von folien
DE4027034C1 (ja) * 1990-08-27 1991-09-12 Leybold Ag, 6450 Hanau, De

Also Published As

Publication number Publication date
EP0520133A1 (de) 1992-12-30
ES2073790T3 (es) 1995-08-16
DE4120910A1 (de) 1993-01-07
ITMI911027U1 (it) 1993-05-25
EP0520133B1 (de) 1995-06-28
ITMI911027V0 (it) 1991-11-25
KR960002118B1 (ko) 1996-02-10
KR930000707A (ko) 1993-01-15
DE59202673D1 (de) 1995-08-03
IT222135Z2 (it) 1995-01-09

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