JPH05177367A - 液晶マスク式レ−ザマ−キング装置 - Google Patents
液晶マスク式レ−ザマ−キング装置Info
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- JPH05177367A JPH05177367A JP4001396A JP139692A JPH05177367A JP H05177367 A JPH05177367 A JP H05177367A JP 4001396 A JP4001396 A JP 4001396A JP 139692 A JP139692 A JP 139692A JP H05177367 A JPH05177367 A JP H05177367A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 パタ−ン形成マスクとして液晶マスクを用い
たレ−ザマ−キング装置において、液晶マスクに書き込
まれているパタ−ンを直接確認する。 【構成】 加工用レーザ装置１から出力されパタ−ン形
成用の液晶マスク３を透過したレーザ光を被加工物１０
表面に結像し、所望パターンを被加工物１０表面に焼き
付ける。このとき、液晶マスク３で発生する散乱パタ−
ン光をパターンモニタ１３で監視し、システム制御１１
がマスク制御部４を通して液晶マスク３に描画したパタ
ーンが実際にマスク上に形成されているか否かが直接確
認される。このため、マスク制御部４によるマスク入力
パタ−ンと液晶マスク３上のパタ−ン形成状況を監視比
較することで、確実なマ−キングシステムを構成でき、
マ−キング不良が発生した場合にも、故障個所を容易に
特定できる。
たレ−ザマ−キング装置において、液晶マスクに書き込
まれているパタ−ンを直接確認する。 【構成】 加工用レーザ装置１から出力されパタ−ン形
成用の液晶マスク３を透過したレーザ光を被加工物１０
表面に結像し、所望パターンを被加工物１０表面に焼き
付ける。このとき、液晶マスク３で発生する散乱パタ−
ン光をパターンモニタ１３で監視し、システム制御１１
がマスク制御部４を通して液晶マスク３に描画したパタ
ーンが実際にマスク上に形成されているか否かが直接確
認される。このため、マスク制御部４によるマスク入力
パタ−ンと液晶マスク３上のパタ−ン形成状況を監視比
較することで、確実なマ−キングシステムを構成でき、
マ−キング不良が発生した場合にも、故障個所を容易に
特定できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレ−ザマーキング装置に
係り、特に、レ−ザマ−キングパタ−ン形成手段として
液晶マスクを用いたレ−ザマ−キング装置構成に関す
る。
係り、特に、レ−ザマ−キングパタ−ン形成手段として
液晶マスクを用いたレ−ザマ−キング装置構成に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】レ−ザパタ−ン光を得る従来方式とし
て、レ−ザ発振器よりパルスレ−ザ光を出射し、これを
打ち抜き板のような金属製マスクに代表されるパタ−ン
形成手段を透過させることによってレ−ザ光の一部を遮
り、金属製マスクに対応したパタ−ン光を形成するのが
一般的である。そして、このようにして得られたレ−ザ
パタ−ン光を結像し、例えばＩＣパッケージ表面に照射
することで、製品番号や商標等を焼き付けるレ−ザマ−
キングが、電子部品製造産業界で広く普及している。パ
タ−ン形成用マスクとして、金属製マスク，ガラスマス
ク等のレ−ザ光遮蔽型が従来は使われていたが、近年の
様にＩＣ等の製品の多品種小量生産が進むにつれて、液
晶素子を用いた液晶マスクが、マーキングパターンを自
由に変更できるため注目されている。
て、レ−ザ発振器よりパルスレ−ザ光を出射し、これを
打ち抜き板のような金属製マスクに代表されるパタ−ン
形成手段を透過させることによってレ−ザ光の一部を遮
り、金属製マスクに対応したパタ−ン光を形成するのが
一般的である。そして、このようにして得られたレ−ザ
パタ−ン光を結像し、例えばＩＣパッケージ表面に照射
することで、製品番号や商標等を焼き付けるレ−ザマ−
キングが、電子部品製造産業界で広く普及している。パ
タ−ン形成用マスクとして、金属製マスク，ガラスマス
ク等のレ−ザ光遮蔽型が従来は使われていたが、近年の
様にＩＣ等の製品の多品種小量生産が進むにつれて、液
晶素子を用いた液晶マスクが、マーキングパターンを自
由に変更できるため注目されている。
【０００３】液晶マスクを使用するレーザマーキング装
置では、液晶マスクにどのようなパターンを描かせるか
をパーソナルコンピュータ等から指令し、この液晶マス
クをパルスレーザ光を透過させることで、所望のパター
ンを製品表面に形成する。ここで使用するレーザ光は、
通常、波長が１μｍ程度の不可視光が使用される。この
ため、液晶マスクに描画されたパターンを肉眼で確認す
ることはできず、マーキングが不良になったときは、レ
ーザ発振器側に故障があるのか、液晶マスクに故障があ
るのかの確認が容易でないという問題がある。そこで、
特開平２−１８７２８８号公報記載の従来技術では、液
晶マスクを透過しマーキング対象物に入射するレーザ光
の一部を反射板で取り出し、これをパターン認識装置で
認識させることで、液晶マスクに目的のパターンが実際
に描画されているか否かを判定するようにしている。
置では、液晶マスクにどのようなパターンを描かせるか
をパーソナルコンピュータ等から指令し、この液晶マス
クをパルスレーザ光を透過させることで、所望のパター
ンを製品表面に形成する。ここで使用するレーザ光は、
通常、波長が１μｍ程度の不可視光が使用される。この
ため、液晶マスクに描画されたパターンを肉眼で確認す
ることはできず、マーキングが不良になったときは、レ
ーザ発振器側に故障があるのか、液晶マスクに故障があ
るのかの確認が容易でないという問題がある。そこで、
特開平２−１８７２８８号公報記載の従来技術では、液
晶マスクを透過しマーキング対象物に入射するレーザ光
の一部を反射板で取り出し、これをパターン認識装置で
認識させることで、液晶マスクに目的のパターンが実際
に描画されているか否かを判定するようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の液晶マスクは、
反射板でマスクパターン判定用のレーザ光の一部を取り
出すため、そのままでは光強度が高すぎ、光量を減衰さ
せた後にパターン認識を行う構成にせざるを得ず、その
ための装置構成が高価になるという問題がある。また、
加工用レーザ装置を発振させ、液晶マスクにレーザ光を
照射しなければマスクパターンを確認することができな
かった。
反射板でマスクパターン判定用のレーザ光の一部を取り
出すため、そのままでは光強度が高すぎ、光量を減衰さ
せた後にパターン認識を行う構成にせざるを得ず、その
ための装置構成が高価になるという問題がある。また、
加工用レーザ装置を発振させ、液晶マスクにレーザ光を
照射しなければマスクパターンを確認することができな
かった。
【０００５】本発明の目的は、パタ−ン形成マスクとし
て液晶マスクを用いたレ−ザマ−キングシステムにおい
て、簡単な構成で液晶マスクに書き込まれているパタ−
ンを直接確認することができ、マ−キング不良の原因箇
所を速やかに特定でき、連続マ−キング不良を発生させ
ないレーザマーキング装置を提供することにある。
て液晶マスクを用いたレ−ザマ−キングシステムにおい
て、簡単な構成で液晶マスクに書き込まれているパタ−
ンを直接確認することができ、マ−キング不良の原因箇
所を速やかに特定でき、連続マ−キング不良を発生させ
ないレーザマーキング装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的は、加工用のレ
−ザ装置と、該レーザ装置から出力されるレーザ光をマ
スクする液晶マスクと、該液晶マスクに所望のパターン
を描画させるマスク制御装置と、該液晶マスクを透過し
たレーザ光を被加工物表面に結像させる光学系とを備え
る液晶マスク式レーザマーキング装置において、前記液
晶マスク上に作成されているマスクパタ−ンを該液晶マ
スクからの散乱光にてモニタするパタ−ンモニタを設け
ることで、達成される。
−ザ装置と、該レーザ装置から出力されるレーザ光をマ
スクする液晶マスクと、該液晶マスクに所望のパターン
を描画させるマスク制御装置と、該液晶マスクを透過し
たレーザ光を被加工物表面に結像させる光学系とを備え
る液晶マスク式レーザマーキング装置において、前記液
晶マスク上に作成されているマスクパタ−ンを該液晶マ
スクからの散乱光にてモニタするパタ−ンモニタを設け
ることで、達成される。
【０００７】上記目的はまた、加工用のレ−ザ装置と、
該レーザ装置から出力されるレーザ光をマスクする液晶
マスクと、該液晶マスクに所望のパターンを描画させる
マスク制御装置と、該液晶マスクを透過したレーザ光を
被加工物表面に結像させる光学系とを備える液晶マスク
式レーザマーキング装置において、前記液晶マスクを照
射する参照光用の可視光レーザ装置と、前記液晶マスク
により散乱された可視光レーザをモニタするパタ−ンモ
ニタとを設けることでも、達成される。
該レーザ装置から出力されるレーザ光をマスクする液晶
マスクと、該液晶マスクに所望のパターンを描画させる
マスク制御装置と、該液晶マスクを透過したレーザ光を
被加工物表面に結像させる光学系とを備える液晶マスク
式レーザマーキング装置において、前記液晶マスクを照
射する参照光用の可視光レーザ装置と、前記液晶マスク
により散乱された可視光レーザをモニタするパタ−ンモ
ニタとを設けることでも、達成される。
【０００８】上記目的は、更に、上記の構成に、被加工
物表面のレーザ光照射パターンをモニタする第２のパタ
ーンモニタを設けることでも、達成される。
物表面のレーザ光照射パターンをモニタする第２のパタ
ーンモニタを設けることでも、達成される。
【０００９】
【作用】加工用のレ−ザ光が液晶マスクに照射されたと
き、液晶マスクで発生する散乱パタ−ンをモニタするこ
とで、加工用レ−ザ光が照射されていることを確認する
とともに、液晶マスクパタ−ンを直接確認することがで
きる。参照光用レ−ザ光を、常時、液晶マスクに照射す
ることで、加工レ−ザ光が照射されていないとき、例え
ば液晶マスクのパタ−ン書替え直後でも、マスクパタ−
ン状態を観察できる。
き、液晶マスクで発生する散乱パタ−ンをモニタするこ
とで、加工用レ−ザ光が照射されていることを確認する
とともに、液晶マスクパタ−ンを直接確認することがで
きる。参照光用レ−ザ光を、常時、液晶マスクに照射す
ることで、加工レ−ザ光が照射されていないとき、例え
ば液晶マスクのパタ−ン書替え直後でも、マスクパタ−
ン状態を観察できる。
【００１０】被加工物表面に参照光用レ−ザ光が形成す
るマ−キングパタ−ンをモニタすることで、マスクから
被加工物までの加工光学系の動作を確認することも可能
となる。更に、装置全体の制御部においては、２ヵ所で
得られたパタ−ン情報と液晶マスク入力パタ−ンとを比
較することで、マ−キングシステムが正常に動作してい
ることを容易に確認することができ、その後、被加工物
を搬送する搬送機へは次の被加工物をマ−キング位置に
設定する搬送指示等を出力でき、加工用レ−ザ装置へは
レ−ザ発振指示を出力することができ、確実なマ−キン
グを継続することが可能となる。
るマ−キングパタ−ンをモニタすることで、マスクから
被加工物までの加工光学系の動作を確認することも可能
となる。更に、装置全体の制御部においては、２ヵ所で
得られたパタ−ン情報と液晶マスク入力パタ−ンとを比
較することで、マ−キングシステムが正常に動作してい
ることを容易に確認することができ、その後、被加工物
を搬送する搬送機へは次の被加工物をマ−キング位置に
設定する搬送指示等を出力でき、加工用レ−ザ装置へは
レ−ザ発振指示を出力することができ、確実なマ−キン
グを継続することが可能となる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。図１は、本発明の第１実施例に係るレーザマー
キング装置の構成図である。加工用レ−ザ装置１より出
射された波長１μｍ程度のレ−ザ光２は、パタ−ン形成
素子である液晶マスク３に照射される。液晶マスク３と
しては、散乱光の発生量の多い液晶複合体（液晶と高分
子の複合体：応用物理第６０巻第１号１９９１年の第４
５頁「液晶複合体を用いた空間光変調素子」参照）を用
いるのが好ましい。液晶マスク３には、マスク制御部４
からの指令により所望パタ−ンが形成されており、この
液晶マスク３を透過して得られるパタ−ン光５は、折り
返し鏡６で加工光学系７に導かれ、被加工物１０の表面
に結像され、マ−キングが行われる。被加工物１０は、
被加工物搬送部９に搭載されており、この搬送部９は、
搬送制御部８によりその移動が制御されている。システ
ム制御部１１は、加工用レ−ザ装置１へレ−ザ光２の発
振制御を行う指令を出力したり、マスク制御部４へパタ
−ン変更タイミングの制御指令を出力したり、搬送制御
部８へ被加工物１０の搬送指令等を出力したりする。
明する。図１は、本発明の第１実施例に係るレーザマー
キング装置の構成図である。加工用レ−ザ装置１より出
射された波長１μｍ程度のレ−ザ光２は、パタ−ン形成
素子である液晶マスク３に照射される。液晶マスク３と
しては、散乱光の発生量の多い液晶複合体（液晶と高分
子の複合体：応用物理第６０巻第１号１９９１年の第４
５頁「液晶複合体を用いた空間光変調素子」参照）を用
いるのが好ましい。液晶マスク３には、マスク制御部４
からの指令により所望パタ−ンが形成されており、この
液晶マスク３を透過して得られるパタ−ン光５は、折り
返し鏡６で加工光学系７に導かれ、被加工物１０の表面
に結像され、マ−キングが行われる。被加工物１０は、
被加工物搬送部９に搭載されており、この搬送部９は、
搬送制御部８によりその移動が制御されている。システ
ム制御部１１は、加工用レ−ザ装置１へレ−ザ光２の発
振制御を行う指令を出力したり、マスク制御部４へパタ
−ン変更タイミングの制御指令を出力したり、搬送制御
部８へ被加工物１０の搬送指令等を出力したりする。
【００１２】本実施例では、上記の構成に加え、液晶マ
スク３から発生する散乱光１２をモニタするパタ−ンモ
ニタ１３を接続する。このパターンモニタ１３は、モニ
タ感度を散乱光の波長に合わせたものが好ましいが、一
般に普及している可視光用のビデオカメラを使用するこ
とが可能である。システム制御部１１では、マスク制御
部４を介して液晶マスク３に書き込むパタ−ン内容と、
パタ−ンモニタ１３により撮影される散乱パタ−ン内容
との比較を行い、両パタ−ン内容が一致したときには、
液晶マスク３の動作が正常であると確認し、搬送制御部
８への被加工物１０搬送信号や、加工用レ−ザ装置１へ
のレ−ザ光発振信号など、マ−キングシステム各制御部
への動作信号を発信する。
スク３から発生する散乱光１２をモニタするパタ−ンモ
ニタ１３を接続する。このパターンモニタ１３は、モニ
タ感度を散乱光の波長に合わせたものが好ましいが、一
般に普及している可視光用のビデオカメラを使用するこ
とが可能である。システム制御部１１では、マスク制御
部４を介して液晶マスク３に書き込むパタ−ン内容と、
パタ−ンモニタ１３により撮影される散乱パタ−ン内容
との比較を行い、両パタ−ン内容が一致したときには、
液晶マスク３の動作が正常であると確認し、搬送制御部
８への被加工物１０搬送信号や、加工用レ−ザ装置１へ
のレ−ザ光発振信号など、マ−キングシステム各制御部
への動作信号を発信する。
【００１３】本実施例によれば、液晶マスク３に指示通
りのパタ−ンが形成されているかどうか、直接確認する
ことができるので、液晶マスク３の正常動作を確認した
上でレ−ザ光を照射することができる。
りのパタ−ンが形成されているかどうか、直接確認する
ことができるので、液晶マスク３の正常動作を確認した
上でレ−ザ光を照射することができる。
【００１４】図２は、本発明の第２実施例に係るレーザ
マーキング装置の構成図である。本実施例のレーザマー
キング装置は、第１実施例の構成に加えて、液晶マスク
３の表面に可視レ−ザ光１４を照射するための参照光用
レ−ザ装置１５を設けている。第１実施例では、液晶マ
スク３を散乱光量の多い液晶複合体で構成し、パターン
のモニタをしやすくしたが、本実施例によれば、散乱光
の少ない液晶マスク３でも容易にパターンの確認をする
ことが可能となる。また、加工用レ−ザ装置１から加工
用のレ−ザ光２が出力されていないときにでも、液晶マ
スク３に常時照射されている可視レ−ザ光１４による散
乱パタ−ン１６がパタ−ンモニタ１３で捕らえることが
でき、液晶マスク３に形成されているパタ−ンを確認す
ることができる。散乱パタ−ン１６が可視光のため、パ
タ−ン検出が容易であり、目視確認も可能である。
マーキング装置の構成図である。本実施例のレーザマー
キング装置は、第１実施例の構成に加えて、液晶マスク
３の表面に可視レ−ザ光１４を照射するための参照光用
レ−ザ装置１５を設けている。第１実施例では、液晶マ
スク３を散乱光量の多い液晶複合体で構成し、パターン
のモニタをしやすくしたが、本実施例によれば、散乱光
の少ない液晶マスク３でも容易にパターンの確認をする
ことが可能となる。また、加工用レ−ザ装置１から加工
用のレ−ザ光２が出力されていないときにでも、液晶マ
スク３に常時照射されている可視レ−ザ光１４による散
乱パタ−ン１６がパタ−ンモニタ１３で捕らえることが
でき、液晶マスク３に形成されているパタ−ンを確認す
ることができる。散乱パタ−ン１６が可視光のため、パ
タ−ン検出が容易であり、目視確認も可能である。
【００１５】図３は、本発明の第３実施例に係るレーザ
マーキング装置の構成図である。実際のマ−キングシス
テムでは、液晶マスク３に形成される矩形パタ−ン形状
にあうように、加工用レ−ザ装置１からのレ−ザ光２を
光整形部１７により楕円形状レ−ザ光１８に変換するこ
とが多い。本実施例では、参照光用レ−ザ装置１５より
得られる可視レ−ザ光１４を、可視光整形部１９によっ
て楕円形状レ−ザ光１８とほぼ同一形状の可視楕円形状
レ−ザ光２０にしたのち、折り返し鏡２１と２波長合成
ミラ−２２により、両レ−ザ光１８，２０を合成して液
晶マスク３に照射するようにしている。本実施例によれ
ば、前記実施例同様、加工用レ−ザ装置１からのレ−ザ
光２が出力されていないときでも、可視レ−ザ光１４が
常時照射されているので、液晶マスク３に形成されてい
るパタ−ンを確認できる。また、被加工物１０の表面
に、マ−キングされるパタ−ンと同一の像を可視光で形
成できるので、加工光学系７の調整が容易に行えるとい
う利点がある。
マーキング装置の構成図である。実際のマ−キングシス
テムでは、液晶マスク３に形成される矩形パタ−ン形状
にあうように、加工用レ−ザ装置１からのレ−ザ光２を
光整形部１７により楕円形状レ−ザ光１８に変換するこ
とが多い。本実施例では、参照光用レ−ザ装置１５より
得られる可視レ−ザ光１４を、可視光整形部１９によっ
て楕円形状レ−ザ光１８とほぼ同一形状の可視楕円形状
レ−ザ光２０にしたのち、折り返し鏡２１と２波長合成
ミラ−２２により、両レ−ザ光１８，２０を合成して液
晶マスク３に照射するようにしている。本実施例によれ
ば、前記実施例同様、加工用レ−ザ装置１からのレ−ザ
光２が出力されていないときでも、可視レ−ザ光１４が
常時照射されているので、液晶マスク３に形成されてい
るパタ−ンを確認できる。また、被加工物１０の表面
に、マ−キングされるパタ−ンと同一の像を可視光で形
成できるので、加工光学系７の調整が容易に行えるとい
う利点がある。
【００１６】図４は、本発明の第４実施例に係るレーザ
マーキング装置の要部構成図である。本実施例では、第
３実施例の構成に加えて、被加工物１０の表面を監視す
るパタ−ンモニタ２３を設け、システム制御部１１に接
続している。この構成によれば、被加工物１０表面にお
けるパタ−ン結像状態を常時監視することができ、マ−
キング不良発生時には、パタ−ンモニタ１３からの情報
と比較することにより、レ−ザ装置１の故障なのか、液
晶マスク３の動作不良なのか、或いはマスク透過後の光
学系６，７によるものなのかを容易且つ迅速に判定する
ことが可能になる。尚、第４実施例で述べた２つのパタ
−ンモニタ１３，２３は、テレビカメラに代表される撮
像素子などで、加工用レ−ザ装置から出力されるレ−ザ
光と、参照光用レ−ザ装置から出力される可視レ−ザ光
の両方に感度を有することが望ましい。
マーキング装置の要部構成図である。本実施例では、第
３実施例の構成に加えて、被加工物１０の表面を監視す
るパタ−ンモニタ２３を設け、システム制御部１１に接
続している。この構成によれば、被加工物１０表面にお
けるパタ−ン結像状態を常時監視することができ、マ−
キング不良発生時には、パタ−ンモニタ１３からの情報
と比較することにより、レ−ザ装置１の故障なのか、液
晶マスク３の動作不良なのか、或いはマスク透過後の光
学系６，７によるものなのかを容易且つ迅速に判定する
ことが可能になる。尚、第４実施例で述べた２つのパタ
−ンモニタ１３，２３は、テレビカメラに代表される撮
像素子などで、加工用レ−ザ装置から出力されるレ−ザ
光と、参照光用レ−ザ装置から出力される可視レ−ザ光
の両方に感度を有することが望ましい。
【００１７】以上説明した実施例においては、それぞれ
基本的な構成についてのみ記載しており、各要素の機能
を引き出すための補助的要素、例えば液晶マスクとして
ツイスト・ネマチック液晶素子を用いた場合に偏光板を
取り付けたり、加工用のレンズ群などが付加されても効
果は変わるものではない。また、上記実施例では加工用
レ−ザ装置としてパルス励起レ−ザを用いたシステムを
考えて説明を行ったが、連続励起レ−ザ光を用いたシス
テムに適用しても、パタ−ン形成素子として液晶マスク
を用いるかぎりにおいては、効果は変わるものではな
い。
基本的な構成についてのみ記載しており、各要素の機能
を引き出すための補助的要素、例えば液晶マスクとして
ツイスト・ネマチック液晶素子を用いた場合に偏光板を
取り付けたり、加工用のレンズ群などが付加されても効
果は変わるものではない。また、上記実施例では加工用
レ−ザ装置としてパルス励起レ−ザを用いたシステムを
考えて説明を行ったが、連続励起レ−ザ光を用いたシス
テムに適用しても、パタ−ン形成素子として液晶マスク
を用いるかぎりにおいては、効果は変わるものではな
い。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、液晶マスクパタ−ン形
成状況を直接確認できるので、パタ−ン制御系の信頼性
が向上する。また、マスク入力パタ−ンとマスク上のパ
タ−ン形成状況と被加工物表面における結像パタ−ンと
を監視比較することで、確実なマ−キングシステムを構
成できると共に、マ−キング不良が発生した場合にも、
故障個所を容易に特定できるという効果もある。
成状況を直接確認できるので、パタ−ン制御系の信頼性
が向上する。また、マスク入力パタ−ンとマスク上のパ
タ−ン形成状況と被加工物表面における結像パタ−ンと
を監視比較することで、確実なマ−キングシステムを構
成できると共に、マ−キング不良が発生した場合にも、
故障個所を容易に特定できるという効果もある。
【図１】本発明の第１実施例に係るレ−ザマ−キング装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図２】本発明の第２実施例に係るレ−ザマ−キング装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図３】本発明の第３実施例に係るレ−ザマ−キング装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図４】本発明の第４実施例に係るレ−ザマ−キング装
置の要部構成図である。
置の要部構成図である。
１…加工用レ−ザ装置、２…レ−ザ光、３…液晶マス
ク、４…マスク制御部、５…パタ−ン光、７…加工光学
系、８…搬送制御部、１０…被加工物、１１…システム
制御部、１２…散乱光、１３…パタ−ンモニタ、１４…
可視レ−ザ光、１５…参照光用レ−ザ装置、１８…楕円
形状レ−ザ光、２０…可視楕円形状レ−ザ光、２３…パ
タ−ンモニタ。
ク、４…マスク制御部、５…パタ−ン光、７…加工光学
系、８…搬送制御部、１０…被加工物、１１…システム
制御部、１２…散乱光、１３…パタ−ンモニタ、１４…
可視レ−ザ光、１５…参照光用レ−ザ装置、１８…楕円
形状レ−ザ光、２０…可視楕円形状レ−ザ光、２３…パ
タ−ンモニタ。
Claims (11)
- 【請求項１】 加工用のレ−ザ装置と、該レーザ装置か
ら出力されるレーザ光をマスクする液晶マスクと、該液
晶マスクに所望のパターンを描画させるマスク制御装置
と、該液晶マスクを透過したレーザ光を被加工物表面に
結像させる光学系とを備える液晶マスク式レーザマーキ
ング装置において、前記液晶マスク上に作成されている
マスクパタ−ンを該液晶マスクからの散乱光にてモニタ
するパタ−ンモニタを設けたことを特徴とする液晶マス
ク式レ−ザマ−キング装置。 - 【請求項２】 マ−キングパタ−ン形成用マスクとして
液晶素子で成る液晶マスク用い、該液晶マスクに加工用
レ−ザ装置からのレ−ザ光を照射することでレ−ザパタ
−ン光を得、該レ−ザパタ−ン光を被加工物表面に転写
する液晶マスク式レ−ザマ−キング装置において、加工
用レーザ装置からレ−ザ光が前記液晶マスクに照射され
たときに該液晶マスクからマスクパタ−ンに対応して生
じる散乱パタ−ンを監視するパタ−ンモニタと、パター
ンモニタによる情報を基に前記加工用レ−ザ装置と被加
工物の搬送部とを制御する手段とを備えることを特徴と
する液晶マスク式レ−ザマ−キング装置。 - 【請求項３】 加工用のレ−ザ装置と、該レーザ装置か
ら出力されるレーザ光をマスクする液晶マスクと、該液
晶マスクに所望のパターンを描画させるマスク制御装置
と、該液晶マスクを透過したレーザ光を被加工物表面に
結像させる光学系とを備える液晶マスク式レーザマーキ
ング装置において、前記液晶マスクを照射する参照光用
の可視光レーザ装置と、前記液晶マスクにより散乱され
た可視光レーザをモニタするパタ−ンモニタとを設けた
ことを特徴とする液晶マスク式レ−ザマ−キング装置。 - 【請求項４】 マ−キングパタ−ン形成用マスクとして
液晶素子で成る液晶マスク用い、該液晶マスクに加工用
レ−ザ装置からのレ−ザ光を照射することでレ−ザパタ
−ン光を得、該レ−ザパタ−ン光を被加工物表面に転写
する液晶マスク式レ−ザマ−キング装置において、加工
用レーザ装置とは別に設けた参照光用の可視光レーザ装
置からの可視光レ−ザが前記液晶マスクに照射されたと
きに該液晶マスクからマスクパタ−ンに対応して生じる
散乱パタ−ンを監視するパタ−ンモニタと、パターンモ
ニタによる情報を基に前記加工用レ−ザ装置と被加工物
の搬送部とを制御する手段とを備えることを特徴とする
液晶マスク式レ−ザマ−キング装置。 - 【請求項５】 請求項３または請求項４において、可視
光レーザ装置から出力される参照用のレーザ光と、加工
用レーザ装置から出力される加工用のレーザ光とを同軸
上に重畳して液晶マスクに入力させる手段を備えること
を特徴とする液晶マスク式レーザマーキング装置。 - 【請求項６】 請求項３乃至請求項５のいずれかにおい
て、参照用のレーザ光と加工用のレーザ光の夫々の断面
形状を同一形状に整形する手段を備えることを特徴とす
る液晶マスク式レーザマーキング装置。 - 【請求項７】 請求項１乃至請求項６のいずれかにおい
て、被加工物表面のレーザ光照射パターンをモニタする
第２のパターンモニタを設けたことを特徴とする液晶マ
スク式レーザマーキング装置。 - 【請求項８】 請求項７において、第２のパターンモニ
タは参照用の可視光レーザが形成するマーキングパター
ンをモニタするものであることを特徴とする液晶マスク
式レーザマーキング装置。 - 【請求項９】 請求項１乃至請求項６のいずれかにおい
て、パターンモニタによる得られるパタ−ン形状と、前
記液晶マスクへの入力パタ−ンとを比較する手段と、両
パターンの一致不一致により故障検出を行う手段とを備
えることを特徴とする液晶マスク式レ−ザマ−キング装
置。 - 【請求項１０】 請求項７または請求項８において、第
２のパターンモニタによる得られるパタ−ン形状と、前
記液晶マスクへの入力パタ−ンとを比較する手段と、両
パターンの一致不一致により故障検出を行う手段とを備
えることを特徴とする液晶マスク式レ−ザマ−キング装
置。 - 【請求項１１】 請求項１乃至請求項１０のいずれかに
おいて、前記液晶マスクは高分子・液晶複合体を用いた
液晶素子で構成されることを特徴とする液晶マスク式レ
−ザマ−キング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4001396A JPH05177367A (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | 液晶マスク式レ−ザマ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4001396A JPH05177367A (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | 液晶マスク式レ−ザマ−キング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05177367A true JPH05177367A (ja) | 1993-07-20 |
Family
ID=11500334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4001396A Pending JPH05177367A (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | 液晶マスク式レ−ザマ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05177367A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002239771A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-08-28 | Amada Co Ltd | Ｙａｇレーザトーチ |
| WO2022264438A1 (ja) * | 2021-06-17 | 2022-12-22 | 株式会社日立産機システム | レーザマーキングシステム |
-
1992
- 1992-01-08 JP JP4001396A patent/JPH05177367A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002239771A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-08-28 | Amada Co Ltd | Ｙａｇレーザトーチ |
| JP4486266B2 (ja) * | 2001-02-08 | 2010-06-23 | 株式会社アマダ | Ｙａｇレーザトーチ |
| WO2022264438A1 (ja) * | 2021-06-17 | 2022-12-22 | 株式会社日立産機システム | レーザマーキングシステム |
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