JP2996278B2 - 異物検査装置の空間フィルタ - Google Patents
異物検査装置の空間フィルタInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、異物検査装置に使用
する空間フィルタに関し、詳しくは、ウエハに形成され
たメモリチップの回路パターンの散乱光を遮断する空間
フィルタに関する。
する空間フィルタに関し、詳しくは、ウエハに形成され
たメモリチップの回路パターンの散乱光を遮断する空間
フィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】図３はウエハ１に形成された複数のメモ
リチップ11を示し、各メモリチップ11は、(a) に示すよ
うに、ウエハ１の表面に格子状に配列されており、(b)
に示すように、メモリセル（ＭＳ）111 と、その周辺に
設けたセンスアンプ112 や制御回路113,114 よりなり、
ＭＳと各回路はそれぞれのパターンＰＴを有する。これ
らに異物が付着すると品質が劣化するので、異物検査装
置により異物の有無を検出してその品質が検査される。
リチップ11を示し、各メモリチップ11は、(a) に示すよ
うに、ウエハ１の表面に格子状に配列されており、(b)
に示すように、メモリセル（ＭＳ）111 と、その周辺に
設けたセンスアンプ112 や制御回路113,114 よりなり、
ＭＳと各回路はそれぞれのパターンＰＴを有する。これ
らに異物が付着すると品質が劣化するので、異物検査装
置により異物の有無を検出してその品質が検査される。
【０００３】上記において、メモリセル（ＭＳ）111 の
パターンＰＴM は、その他の回路のパターンより線幅が
狭くて密度が大きいために、付着異物の影響がより大き
く、従ってＭＳについては、より微小な異物を検出する
ことが必要である。また、異物に対してレーザビームを
照射すると、異物とともに各パターンＰＴも散乱光を散
乱するため、両者を区別することが必要である。これに
対して有効な方法がこの発明の発明者により考案され、
特願平3-229438号「異物検出方式および異物検査装置」
として特許出願されている。
パターンＰＴM は、その他の回路のパターンより線幅が
狭くて密度が大きいために、付着異物の影響がより大き
く、従ってＭＳについては、より微小な異物を検出する
ことが必要である。また、異物に対してレーザビームを
照射すると、異物とともに各パターンＰＴも散乱光を散
乱するため、両者を区別することが必要である。これに
対して有効な方法がこの発明の発明者により考案され、
特願平3-229438号「異物検出方式および異物検査装置」
として特許出願されている。
【０００４】図４により、上記の特許出願にかかるウエ
ハ異物検出方法の概要を説明する。(a) において、ウエ
ハ１に対して検出光学系２を設け、そのレーザ光源21よ
り、メモリチップ11に対して適当な照射角θT でレーザ
ビームＬT を照射し、その散乱光ＬR を結像レンズ22に
より集光し、結像面Ｋに設けた受光器23に結像する。ま
た、結像面Ｋの手前にはフーリエ変換面Ｆがあり、ここ
にメモリチップ11のフーリエ変換像が生ずる。この場
合、ＭＳのパターンＰＴM は規則的な周期性を有するの
で、そのフーリエ変換像にも周期性が現れる。(b) は結
像面Ｋに結像された周期性のあるパターンＰＴM の映像
の一例を示し、(c) はそのフーリエ変換パターン（以下
単に変換パターン）ＰＴM'を示す。(c) の変換パターン
ＰＴM'の形状は(b) と異なるがやはり周期性がみられ
る。ただし(c) は、撮影された写真を摸写して明確にモ
デル化したもので、実際には強度ムラやボケ、輪郭線の
凹凸などが散在している。一方、異物の散乱光ＬR'はラ
ンダムに分散する。そこでフーリエ変換面Ｆの位置に空
間フィルタを設け、回路パターンＰＴM に対する変換パ
ターンＰＴM'を遮断し、これを透過する散乱光を受光器
23に受光して異物を検出するものである。
ハ異物検出方法の概要を説明する。(a) において、ウエ
ハ１に対して検出光学系２を設け、そのレーザ光源21よ
り、メモリチップ11に対して適当な照射角θT でレーザ
ビームＬT を照射し、その散乱光ＬR を結像レンズ22に
より集光し、結像面Ｋに設けた受光器23に結像する。ま
た、結像面Ｋの手前にはフーリエ変換面Ｆがあり、ここ
にメモリチップ11のフーリエ変換像が生ずる。この場
合、ＭＳのパターンＰＴM は規則的な周期性を有するの
で、そのフーリエ変換像にも周期性が現れる。(b) は結
像面Ｋに結像された周期性のあるパターンＰＴM の映像
の一例を示し、(c) はそのフーリエ変換パターン（以下
単に変換パターン）ＰＴM'を示す。(c) の変換パターン
ＰＴM'の形状は(b) と異なるがやはり周期性がみられ
る。ただし(c) は、撮影された写真を摸写して明確にモ
デル化したもので、実際には強度ムラやボケ、輪郭線の
凹凸などが散在している。一方、異物の散乱光ＬR'はラ
ンダムに分散する。そこでフーリエ変換面Ｆの位置に空
間フィルタを設け、回路パターンＰＴM に対する変換パ
ターンＰＴM'を遮断し、これを透過する散乱光を受光器
23に受光して異物を検出するものである。
【０００５】図５は上記の特許出願にかかるウエハ異物
検査装置の構成図を示す。図５(a) において、異物検査
装置は、ウエハ１を載置するＸＹ移動ステージ３と、こ
れに対して配設された、前記の検出光学系２と、可動ミ
ラー41と、その反射方向のフーリエ変換面Ｆ’に設けた
ＴＶカメラ42よりなるパターン受像部４、フーリエ変換
面Ｆに設けた液晶フィルタ51とパターン発生回路52より
なる空間フィルタ部５、受光器23に接続された異物検出
部６、およびＴＶカメラ42と異物検出部６に接続された
マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）71と、メモリ（ＭＥＭ）
72およびプリンタ（ＰＲＮＴ）73よりなるデータ処理部
７とにより構成される。予め、ウエハ１の各メモリチッ
プ11のうちから、異物が付着していない正常なものを選
択し、ＸＹ移動ステージ３により、このメモリチップ11
を移動してＭＳ111 を検出光学系２に対応させ、レーザ
光源21よりレーザビームＬT を照射する。ＭＳのパター
ンＰＴM の散乱光ＬR は結像レンズ22により集光され、
これが実線の位置にある可動ミラー41により反射され、
フーリエ変換面Ｆにおける変換パターンＰＴM'がＴＶカ
メラ42に受像され、パターンデータはＭＥＭ72に記憶さ
れる。
検査装置の構成図を示す。図５(a) において、異物検査
装置は、ウエハ１を載置するＸＹ移動ステージ３と、こ
れに対して配設された、前記の検出光学系２と、可動ミ
ラー41と、その反射方向のフーリエ変換面Ｆ’に設けた
ＴＶカメラ42よりなるパターン受像部４、フーリエ変換
面Ｆに設けた液晶フィルタ51とパターン発生回路52より
なる空間フィルタ部５、受光器23に接続された異物検出
部６、およびＴＶカメラ42と異物検出部６に接続された
マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）71と、メモリ（ＭＥＭ）
72およびプリンタ（ＰＲＮＴ）73よりなるデータ処理部
７とにより構成される。予め、ウエハ１の各メモリチッ
プ11のうちから、異物が付着していない正常なものを選
択し、ＸＹ移動ステージ３により、このメモリチップ11
を移動してＭＳ111 を検出光学系２に対応させ、レーザ
光源21よりレーザビームＬT を照射する。ＭＳのパター
ンＰＴM の散乱光ＬR は結像レンズ22により集光され、
これが実線の位置にある可動ミラー41により反射され、
フーリエ変換面Ｆにおける変換パターンＰＴM'がＴＶカ
メラ42に受像され、パターンデータはＭＥＭ72に記憶さ
れる。
【０００６】ウエハ１の検査においては、まず可動ミラ
ー41を点線の位置に待避して、レーザビームＬT をメモ
リチップ11に照射する。ついで、記憶されたパターンデ
ータをＭＰＵ71に読出してパターン発生回路52に与える
と、これがパターン信号を発生して液晶フィルタ51が制
御されて変換パターンＰＴM'が遮断され、異物の散乱光
ＬR'は透過して受光器23に受光され、異物検出部６によ
り異物が検出される。
ー41を点線の位置に待避して、レーザビームＬT をメモ
リチップ11に照射する。ついで、記憶されたパターンデ
ータをＭＰＵ71に読出してパターン発生回路52に与える
と、これがパターン信号を発生して液晶フィルタ51が制
御されて変換パターンＰＴM'が遮断され、異物の散乱光
ＬR'は透過して受光器23に受光され、異物検出部６によ
り異物が検出される。
【０００７】図５(b) は液晶フィルタ51の構成を示し、
液晶フィルタ51は、２枚の電極板512,512 の間にネマテ
ィック液晶511 をサンドイッチして配光セルとし、この
前後に２枚の偏光板513,514 を配置して構成される。両
電極板512,512 は微小の素子に分割され、各素子はパタ
ーン発生回路52よりのパターン信号により制御されて変
換パターンＰＴM'が遮断され、異物の散乱光は透過す
る。
液晶フィルタ51は、２枚の電極板512,512 の間にネマテ
ィック液晶511 をサンドイッチして配光セルとし、この
前後に２枚の偏光板513,514 を配置して構成される。両
電極板512,512 は微小の素子に分割され、各素子はパタ
ーン発生回路52よりのパターン信号により制御されて変
換パターンＰＴM'が遮断され、異物の散乱光は透過す
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記の液晶フィルタ51
は、変換パターンＰＴM'の遮断には有効であるが、ネマ
ティック液晶511 と両電極板512,512 は透光率がかなり
低く、また両偏光板513,514 は、これらの偏光方向に一
致する偏光波のみを透過するので、これまた透光率がか
なり低い。これらにより、受光器23に受光される異物の
散乱光ＬR'は強く減衰し、液晶フィルタ51は異物に対す
る検出性能が劣化する大きい欠点がある。この発明は以
上に鑑みてなされたもので、上記の変換パターンＰＴM'
を有効に遮断するとともに、異物の散乱光ＬR'に対して
良好な透光率を有する空間フィルタを提供することを目
的とする。
は、変換パターンＰＴM'の遮断には有効であるが、ネマ
ティック液晶511 と両電極板512,512 は透光率がかなり
低く、また両偏光板513,514 は、これらの偏光方向に一
致する偏光波のみを透過するので、これまた透光率がか
なり低い。これらにより、受光器23に受光される異物の
散乱光ＬR'は強く減衰し、液晶フィルタ51は異物に対す
る検出性能が劣化する大きい欠点がある。この発明は以
上に鑑みてなされたもので、上記の変換パターンＰＴM'
を有効に遮断するとともに、異物の散乱光ＬR'に対して
良好な透光率を有する空間フィルタを提供することを目
的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成した異物検査装置の空間フィルタである。前記の
異物検査装置において、結像レンズのフーリエ変換面に
ＴＶカメラを設けて、異物が付着してない正常なメモリ
チップの変換パターンを受像する。受像した変換パター
ンの画像を参照して、適当な材質の遮光板に対して、変
換パターンに対する部分を除き、これ以外の部分を切り
抜いて透光部とするパターン遮光フィルタを作成し、こ
れを空間フィルタとして、フーリエ変換面に配置したも
のである。上記において、ＴＶカメラにより、複数個の
正常なメモリチップの各変換パターンをそれぞれ受像し
てメモリに記憶し、マイクロプロセッサの処理により、
記憶された各変換パターンに共通な共通パターンを抽出
して２値化し、２値化された共通パターンの画像を参照
して上記のパターン遮光フィルタを作成する。また、結
像レンズのフーリエ変換面に、変換パターンの強度ムラ
を拡散して均一化する拡散板と、均一化された強度を適
当に減光するＮＤフィルタよりなる光量調整部を設け、
拡散板により均一化され、かつＮＤフィルタにより適当
に減光された変換パターンをＴＶカメラにより受像す
る。
を達成した異物検査装置の空間フィルタである。前記の
異物検査装置において、結像レンズのフーリエ変換面に
ＴＶカメラを設けて、異物が付着してない正常なメモリ
チップの変換パターンを受像する。受像した変換パター
ンの画像を参照して、適当な材質の遮光板に対して、変
換パターンに対する部分を除き、これ以外の部分を切り
抜いて透光部とするパターン遮光フィルタを作成し、こ
れを空間フィルタとして、フーリエ変換面に配置したも
のである。上記において、ＴＶカメラにより、複数個の
正常なメモリチップの各変換パターンをそれぞれ受像し
てメモリに記憶し、マイクロプロセッサの処理により、
記憶された各変換パターンに共通な共通パターンを抽出
して２値化し、２値化された共通パターンの画像を参照
して上記のパターン遮光フィルタを作成する。また、結
像レンズのフーリエ変換面に、変換パターンの強度ムラ
を拡散して均一化する拡散板と、均一化された強度を適
当に減光するＮＤフィルタよりなる光量調整部を設け、
拡散板により均一化され、かつＮＤフィルタにより適当
に減光された変換パターンをＴＶカメラにより受像す
る。
【００１０】
【作用】上記の空間フィルタは、結像レンズのフーリエ
変換面に設けたＴＶカメラにより、異物が付着していな
い正常なメモリチップの変換パターンを受像し、その画
像を参照して、適当な材質の遮光板から、変換パターン
の部分を除き、これ以外の部分を切り抜いて透光部とす
るパターン遮光フィルタが作成され、これが空間フィル
タとしてフーリエ変換面に配置される。この空間フィル
タにおいては、透光部は異物の散乱光をほぼ完全に透光
し、変換パターンは良好に遮断されるので、従来の液晶
フィルタに比べて異物に対する検出性能が格段に改善さ
れる。
変換面に設けたＴＶカメラにより、異物が付着していな
い正常なメモリチップの変換パターンを受像し、その画
像を参照して、適当な材質の遮光板から、変換パターン
の部分を除き、これ以外の部分を切り抜いて透光部とす
るパターン遮光フィルタが作成され、これが空間フィル
タとしてフーリエ変換面に配置される。この空間フィル
タにおいては、透光部は異物の散乱光をほぼ完全に透光
し、変換パターンは良好に遮断されるので、従来の液晶
フィルタに比べて異物に対する検出性能が格段に改善さ
れる。
【００１１】上記の遮光フィルタの作成においては、複
数個の正常なメモリチップの変換パターンが、ＴＶカメ
ラによりそれぞれ受像されてメモリに記憶され、マイク
ロプロセッサの処理により、これらから抽出された共通
パターンは、各変換パターンに共通するので、多数のメ
モリチップに対する適切な基準となり、また２値化され
た共通パターンの画像は、白黒に明確に区別されるので
正しいパターン遮光フィルタを容易に作成できる。ま
た、結像レンズのフーリエ変換面に設けた拡散板とＮＤ
フィルタにより、変換パターンは強度ムラが均一化さ
れ、かつ適当に減光されるので、その映像はＴＶカメラ
に明瞭に受像され、上記の共通パターンの抽出および２
値化と相まって、良好なパターン画像がえられるもので
ある。
数個の正常なメモリチップの変換パターンが、ＴＶカメ
ラによりそれぞれ受像されてメモリに記憶され、マイク
ロプロセッサの処理により、これらから抽出された共通
パターンは、各変換パターンに共通するので、多数のメ
モリチップに対する適切な基準となり、また２値化され
た共通パターンの画像は、白黒に明確に区別されるので
正しいパターン遮光フィルタを容易に作成できる。ま
た、結像レンズのフーリエ変換面に設けた拡散板とＮＤ
フィルタにより、変換パターンは強度ムラが均一化さ
れ、かつ適当に減光されるので、その映像はＴＶカメラ
に明瞭に受像され、上記の共通パターンの抽出および２
値化と相まって、良好なパターン画像がえられるもので
ある。
【００１２】
【実施例】図１および図２は、この発明の一実施例を示
し、図１は、この発明の空間フィルタ８の作成方法を説
明するための異物検査装置の構成図、図２は、空間フィ
ルタ８の一例を示す平面および断面図である。図１に示
す異物検査装置は、前記した図５の異物検査装置と同一
の検出光学系２と、ＸＹ移動ステージ３、パターン受像
部４、異物検出部６およびデータ処理部７を有するもの
とする。ただしパターン受像部４には、フーリエ変換面
Ｆ’の位置に拡散板431 とＮＤフィルタ432 よりなる光
量調整部43を付加する。拡散板431 としては、ＪＩＳ＃
３００のものが適当であり、ＮＤフィルタ432 は、ＴＶ
カメラ42の映像がハレーションなどを生ぜず明瞭となる
減光率のものを選定する。なおこの場合は、パターン発
生回路52は不要である。
し、図１は、この発明の空間フィルタ８の作成方法を説
明するための異物検査装置の構成図、図２は、空間フィ
ルタ８の一例を示す平面および断面図である。図１に示
す異物検査装置は、前記した図５の異物検査装置と同一
の検出光学系２と、ＸＹ移動ステージ３、パターン受像
部４、異物検出部６およびデータ処理部７を有するもの
とする。ただしパターン受像部４には、フーリエ変換面
Ｆ’の位置に拡散板431 とＮＤフィルタ432 よりなる光
量調整部43を付加する。拡散板431 としては、ＪＩＳ＃
３００のものが適当であり、ＮＤフィルタ432 は、ＴＶ
カメラ42の映像がハレーションなどを生ぜず明瞭となる
減光率のものを選定する。なおこの場合は、パターン発
生回路52は不要である。
【００１３】以下、図１と図２を併用して、空間フィル
タ８の作成手順を説明する。予め適当な手段により、ウ
エハ１の各メモリチップ11のうちから、付着異物のない
正常なものを複数個選択しておく。このウエハ１をＸＹ
移動ステージ３に載置し、選択された各メモリチップ11
を順次にＸまたはＹ移動し、それぞれのメモリセル（Ｍ
Ｓ）111 を検出光学系２に対応させて停止し、これらに
レーザビームＬT を照射する。各ＭＳ111 のパターンＰ
ＴM に対する変換パターンＰＴM'は、光量調整部43に入
射して強度ムラが均一化され、適当に減光されてＴＶカ
メラ42に明瞭に受像され、それぞれのパターンデータが
逐次に出力されてＭＥＭ72に記憶される。これらはＭＰ
Ｕ71に読出されて各変換パターンＰＴM'に共通する共通
パターンが抽出され、さらに２値化される。２値化され
たパターンデータはＰＲＮＴ73に入力して、共通パター
ンの白黒の明確な画像がえられる。
タ８の作成手順を説明する。予め適当な手段により、ウ
エハ１の各メモリチップ11のうちから、付着異物のない
正常なものを複数個選択しておく。このウエハ１をＸＹ
移動ステージ３に載置し、選択された各メモリチップ11
を順次にＸまたはＹ移動し、それぞれのメモリセル（Ｍ
Ｓ）111 を検出光学系２に対応させて停止し、これらに
レーザビームＬT を照射する。各ＭＳ111 のパターンＰ
ＴM に対する変換パターンＰＴM'は、光量調整部43に入
射して強度ムラが均一化され、適当に減光されてＴＶカ
メラ42に明瞭に受像され、それぞれのパターンデータが
逐次に出力されてＭＥＭ72に記憶される。これらはＭＰ
Ｕ71に読出されて各変換パターンＰＴM'に共通する共通
パターンが抽出され、さらに２値化される。２値化され
たパターンデータはＰＲＮＴ73に入力して、共通パター
ンの白黒の明確な画像がえられる。
【００１４】図２において、上記によりえられた共通パ
ターンの画像の例として、前記した図４(b) の変換パタ
ーンＰＴM'とする。適当な材質の遮光板81を用意し、こ
の画像ＰＴM'を参照して、遮光板81から、画像ＰＴM'以
外の部分を切り抜き、切り抜き部分を異物の散乱光ＬR'
に対する透光部Ｔとする。この切り抜きは、カッターや
穴パンチなどにより容易に行うことができる。この場
合、画像ＰＴM'に孤立した部分があるときは、この部分
を図示のように遮光板81の周辺などに接続して移動を防
止する。ただし接続部分は穴パンチなどして極力遮光し
ないようにする。以上により作成されたパターン遮光フ
ィルタは、適当な取付枠82に固定し、フーリエ変換面Ｆ
に装着して空間フィルタ８とされる。検査においては、
可動ミラー41を点線の位置に待避して、被検査ウエハ１
の各メモリチップン11にレーザビームＬT を順次に照射
すると、異物の散乱光ＬR'が従来の液晶フィルタの場合
より大きい強度で受光器23に受光され、異物検出部６に
より微小な異物まで良好に検出することができる。
ターンの画像の例として、前記した図４(b) の変換パタ
ーンＰＴM'とする。適当な材質の遮光板81を用意し、こ
の画像ＰＴM'を参照して、遮光板81から、画像ＰＴM'以
外の部分を切り抜き、切り抜き部分を異物の散乱光ＬR'
に対する透光部Ｔとする。この切り抜きは、カッターや
穴パンチなどにより容易に行うことができる。この場
合、画像ＰＴM'に孤立した部分があるときは、この部分
を図示のように遮光板81の周辺などに接続して移動を防
止する。ただし接続部分は穴パンチなどして極力遮光し
ないようにする。以上により作成されたパターン遮光フ
ィルタは、適当な取付枠82に固定し、フーリエ変換面Ｆ
に装着して空間フィルタ８とされる。検査においては、
可動ミラー41を点線の位置に待避して、被検査ウエハ１
の各メモリチップン11にレーザビームＬT を順次に照射
すると、異物の散乱光ＬR'が従来の液晶フィルタの場合
より大きい強度で受光器23に受光され、異物検出部６に
より微小な異物まで良好に検出することができる。
【００１５】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明による空
間フィルタは、メモリセルの回路パターンに対応したフ
ーリエ変換パターンをＴＶカメラにより受像し、その画
像を参照して、遮光板から、変換パターンの部分を残
し、これ以外の部分を切り抜いて透光部とする単純なも
ので、異なる回路パターンを有する各種のメモリチップ
に対して容易に作成することができ、これらをフーリエ
変換面に配置することにより、従来の液晶フィルタにお
ける異物の散乱光に対する大きい減衰の問題が解決さ
れ、異物検出性能が改善される効果には大きいものがあ
る。
間フィルタは、メモリセルの回路パターンに対応したフ
ーリエ変換パターンをＴＶカメラにより受像し、その画
像を参照して、遮光板から、変換パターンの部分を残
し、これ以外の部分を切り抜いて透光部とする単純なも
ので、異なる回路パターンを有する各種のメモリチップ
に対して容易に作成することができ、これらをフーリエ
変換面に配置することにより、従来の液晶フィルタにお
ける異物の散乱光に対する大きい減衰の問題が解決さ
れ、異物検出性能が改善される効果には大きいものがあ
る。
【図１】図１は、この発明の一実施例における異物検査
装置の構成図である。
装置の構成図である。
【図２】図２は、空間フィルタ８の一例を示す平面およ
び断面図である。
び断面図である。
【図３】図３は、ウエハ１に形成されたメモリチップ11
の説明図で、(a) は各メモリチップ11の配列図、(b)
は、各メモリチップ11のメモリセル（ＭＳ）111 などの
説明図である。
の説明図で、(a) は各メモリチップ11の配列図、(b)
は、各メモリチップ11のメモリセル（ＭＳ）111 などの
説明図である。
【図４】図４は、特許出願にかかるウエハ異物検出方法
の説明図で、(a) は検出光学系２の構成図、(b) は結像
面Ｋの回路パターンＰＴM の映像の一例、(c) はそのフ
ーリエ変換パターンＰＴM'である。
の説明図で、(a) は検出光学系２の構成図、(b) は結像
面Ｋの回路パターンＰＴM の映像の一例、(c) はそのフ
ーリエ変換パターンＰＴM'である。
【図５】図５は、特許出願にかかるウエハ異物検査装置
の説明図で、(a) は全体のブロック構成図、(b) は液晶
フィルタ８の構成図である。
の説明図で、(a) は全体のブロック構成図、(b) は液晶
フィルタ８の構成図である。
１…ウエハ、11…メモリチップ、111 …メモリセル（Ｍ
Ｓ）、２…検出光学系、21…レーザ光源、22…結像レン
ズ、23…受光器、３…ＸＹ移動ステージ、４…パターン
受像部、41…可動ミラー、42…ＴＶカメラ、43…光量調
整部、431 …拡散板、432 …ＮＤフィルタ、５…空間フ
ィルタ部、51…空間フィルタまたは液晶フィルタ、511
…エマティック液晶、512 …電極板、513,514 …偏光
板、52…パターン発生回路、６…異物検出部、７…デー
タ処理部、71…マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）、72…メ
モリ（ＭＥＭ）、73…プリンタ（ＰＲＮＴ）、８…この
発明のパターン遮断フィルタ、または空間フィルタ、81
…遮光板、82…取付枠、ＬT …レーザビーム、ＬR …散
乱光、ＬR'…異物の散乱光、Ｋ…結像面、Ｆ，Ｆ’…フ
ーリエ変換面、ＰＴM …ＭＳの回路パターン、ＰＴM'…
ＰＴM のフーリエ変換パターン、単に変換パターン、Ｔ
…空間フィルタの透光部。
Ｓ）、２…検出光学系、21…レーザ光源、22…結像レン
ズ、23…受光器、３…ＸＹ移動ステージ、４…パターン
受像部、41…可動ミラー、42…ＴＶカメラ、43…光量調
整部、431 …拡散板、432 …ＮＤフィルタ、５…空間フ
ィルタ部、51…空間フィルタまたは液晶フィルタ、511
…エマティック液晶、512 …電極板、513,514 …偏光
板、52…パターン発生回路、６…異物検出部、７…デー
タ処理部、71…マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）、72…メ
モリ（ＭＥＭ）、73…プリンタ（ＰＲＮＴ）、８…この
発明のパターン遮断フィルタ、または空間フィルタ、81
…遮光板、82…取付枠、ＬT …レーザビーム、ＬR …散
乱光、ＬR'…異物の散乱光、Ｋ…結像面、Ｆ，Ｆ’…フ
ーリエ変換面、ＰＴM …ＭＳの回路パターン、ＰＴM'…
ＰＴM のフーリエ変換パターン、単に変換パターン、Ｔ
…空間フィルタの透光部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01N 21/88 G06T 7/00
Claims (3)
- 【請求項１】ウエハに形成されたメモリチップの映像を
結像する結像レンズと、該結像レンズのフーリエ変換面
に設けられ、該メモリチップの周期的な回路パターンに
対応したフーリエ変換パターンを遮断する空間フィル
タ、および該結像レンズの結像面に設けられ、前記メモ
リチップに付着した異物の散乱光を受光する受光器とを
具備する異物検査装置において、前記結像レンズのフー
リエ変換面にＴＶカメラを設けて、異物が付着してない
正常なメモリチップのフーリエ変換パターンを受像し、
該受像したフーリエ変換パターンの画像を参照して、適
当な材質の遮光板に対して、該フーリエ変換パターンに
対する部分を除き、これ以外の部分を切り抜いて透光部
とするパターン遮光フィルタを作成し、該パターン遮光
フィルタを前記空間フィルタとして前記フーリエ変換面
に配置したことを特徴とする、異物検査装置の空間フィ
ルタ。 - 【請求項２】前記ＴＶカメラにより、複数個の正常なメ
モリチップの各フーリエ変換パターンをそれぞれ受像し
てメモリに記憶し、マイクロプロセッサの処理により、
該記憶された各フーリエ変換パターンに共通な共通パタ
ーンを抽出して２値化し、該２値化された共通パターン
の画像を参照して前記パターン遮光フィルタを作成する
ことを特徴とする、請求項１記載の異物検査装置の空間
フィルタ。 - 【請求項３】前記結像レンズのフーリエ変換面に、前記
フーリエ変換パターンの強度ムラを拡散して均一化する
拡散板と、該均一化された強度を適当に減光するＮＤフ
ィルタよりなる光量調整部を設け、該拡散板により均一
化され、かつ該ＮＤフィルタにより適当に減光されたフ
ーリエ変換パターンを、前記ＴＶカメラにより受像する
ことを特徴とする、請求項１または２記載の異物検査装
置の空間フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6180810A JP2996278B2 (ja) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 異物検査装置の空間フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6180810A JP2996278B2 (ja) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 異物検査装置の空間フィルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0821800A JPH0821800A (ja) | 1996-01-23 |
| JP2996278B2 true JP2996278B2 (ja) | 1999-12-27 |
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ID=16089756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6180810A Expired - Fee Related JP2996278B2 (ja) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 異物検査装置の空間フィルタ |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2996278B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5022959B2 (ja) * | 2008-03-24 | 2012-09-12 | 株式会社日立製作所 | 反射屈折型対物レンズを用いた欠陥検査装置 |
-
1994
- 1994-07-08 JP JP6180810A patent/JP2996278B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0821800A (ja) | 1996-01-23 |
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